概述不同类型的陶瓷坩埚、其特性和应用。
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探讨坩埚在科学实验中的意义和各种类型,重点是坩埚的材料和应用。
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详细比较了热解石墨和热解氮化硼坩埚,重点介绍了它们的制备工艺、特点和应用。
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关于氮化硼坩埚的正确使用、注意事项和兼容性的说明。
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深入探讨电子束蒸发涂层技术的原理和应用,包括材料选择和各种应用领域。
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探讨电子束蒸发在薄膜生产中的技术和应用。
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深入分析电子束蒸发涂层技术及其优缺点和在薄膜制造中的应用。
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深入了解电子束蒸发及其在真空镀膜工艺中的类型、优点和缺点。
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深入了解真空蒸发系统及其原理、组件和应用。
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详细比较蒸发电镀、溅射电镀和离子电镀技术及其原理、类型和特点。
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本文讨论了钽在真空沉积设备中的作用,重点关注其特性、制造挑战及其在 OLED 屏幕生产等行业中的关键应用。
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本文将深入探讨不同的真空镀膜技术,重点是蒸发、溅射和离子镀,详细介绍其原理、优势和应用。
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本文深入探讨了氧化物陶瓷的概念、分类和各种应用,强调了其在各种高科技领域的重要意义。
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探讨 h-BN 在各种复合陶瓷中的作用,重点介绍其特性和应用。
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深入了解真空镀膜工艺中的蒸发舟、材料、布置、温度控制和腐蚀问题。
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探索薄膜沉积中使用的不同蒸发源,包括灯丝、坩埚和蒸发舟。
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深入了解高纯度金属的定义、制备技术和应用。
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分析材料研究中平面和旋转溅射靶材的特点、优缺点。
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深入比较平面硅靶和旋转硅靶的优缺点,重点关注它们在薄膜沉积技术中的特点和应用场景。
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探索光伏组件回收中向绿色溶剂的转变,重点关注深共晶溶剂及其优势。
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本文讨论了从 ITO 靶材废料中回收高纯度铟的方法和工艺,包括化学和电解提纯技术。
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讨论半导体制造中贵金属靶材的使用、制备和回收。
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探讨新型稀土材料和回收技术,重点是抛光、高纯度金属和各种回收方法。
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探讨热等静压在提高 PVD 溅射靶材质量和均匀性方面的作用,重点介绍制造技术和优点。
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粉末冶金在制造溅射靶材方面的详细工艺和应用。
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探讨新型金属材料如何推动人工智能芯片升级,影响计算能力和半导体制造。
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概述装饰涂层中使用的各种溅射靶材的独特性能和应用。
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本文详细介绍了各行业磁控溅射靶材的分类、应用和原理。
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深入探讨磁控溅射靶、其要求、原理、类型和性能因素。
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本文讨论了集成电路制造中各种溅射靶材的高纯度要求和应用,重点是不同技术节点中使用的金属和合金。
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