实验室材料是研究、开发和生产先进技术的关键部件,这些技术需要最佳的特性、性能和质量。
KinTek 提供各种高纯度材料,包括金属、金属氧化物和化合物。这些材料的纯度达到 99.99% 或 5N(五个九),适用于各种应用,如制备高质量的磁性和半导体材料、荧光粉和热电材料。
实验室材料是研究、开发和生产先进技术的关键部件,这些技术需要最佳的特性、性能和质量。
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锰钴镍合金 (MnCoNi) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒
货号 : LM-MnCoNi
在高纯材料领域,纯度等级用百分比表示,如 2N 表示 99%,2N5 表示 99.5%,3N 表示 99.9%,3N5 表示 99.95%,4N 表示 99.99%,4N5 表示 99.995%,6N 表示 99.9999%,7N 表示 99.99999%。例如,4N-6N 表示纯度从 99.99% 到 99.9999%。
溅射是一种物理现象,等离子体或气体中的高能粒子轰击固体材料表面,导致微小粒子喷射出来。这一过程在外太空中自然发生,可能导致精密部件出现不必要的磨损。不过,在科学和工业领域,它也被用于执行精密蚀刻、分析技术,以及在制造光学涂层、半导体器件和纳米技术产品时沉积薄膜层。
溅射靶材应用广泛,包括为各种产品制作涂层。例如,钽溅射靶材可用于生产现代电子产品中的重要组件。这些元件包括微芯片、存储芯片、打印头和平板显示器等。
溅射靶材的另一个重要应用是生产低辐射镀膜玻璃,也称为 Low-E 玻璃。这种玻璃具有节能、控光和美观的特性,通常用于建筑施工中。
随着可再生能源需求的不断增长,溅射镀膜技术也被用于制备第三代薄膜太阳能电池。这些太阳能电池使用溅射靶材制备,使其成为生产太阳能电池板的重要组成部分。
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热等静压(HIP)是一种在高温高压下对材料进行增密的技术。该工艺是将材料放入密封容器中,然后用惰性气体加压并加热至高温。
热等静压(HIP)是一种功能强大的制造工艺,在提高陶瓷材料密度和减少金属孔隙率方面发挥着至关重要的作用。它广泛应用于各行各业,包括航空航天、粉末冶金和零部件制造。
冷等静压(CIP)服务利用极高的压力对产品或冷压粉末进行消毒。CIP 对生产复杂形状的产品和提高材料的最终密度特别有效。
等静压机在各行各业发挥着至关重要的作用,为材料加固和产品制造提供了独特的功能。这些功能强大的机器从各个方向施加相同的压力,从而使产品具有均匀的密度并减少缺陷。等静压机主要分为两种类型:冷等静压机 (CIP) 和热等静压机 (HIP)。每种类型都在不同的条件下发挥作用,从而实现了广泛的应用。
实验室压力机是制药、材料科学和电子等各行各业研发工作中必不可少的工具。
冷等静压(CIP)是一种利用液体压力压实粉末的材料加工方法。它类似于金属模具加工,以帕斯卡定律为基础。
热等静压(WIP)是一种高压技术,用于提高材料的密度和减少缺陷。它将材料置于高压和高温下,同时使用惰性气体均匀地压缩材料。
等静压是一种用于生产高性能材料和部件的工艺。它对材料或部件的所有面施加均匀的压力,从而使密度更加均匀,机械性能得到改善。
最常用的两种薄膜沉积技术是蒸发和溅射。
钨的许多特性使其非常适合用于高温熔炉。