博客
爆破膜形成中的非晶硅 PECVD 沉积工艺简介
6 个月前解释非晶硅 PECVD 沉积过程中爆膜形成的机理以及防止爆膜的解决方案。
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PECVD 纳米涂层技术的核心障碍
6 个月前探讨开发和应用 PECVD 纳米涂层技术的主要障碍。
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优化微机电系统设备的 PECVD 涂层工艺
6 个月前为 MEMS 设备中的高质量氧化硅和氮化硅薄膜配置和优化 PECVD 工艺的指南。
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用于电池涂层的 PECVD 石墨舟
6 个月前探索在 PECVD 中使用石墨舟实现高效电池涂层。
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了解 PECVD 工艺中的辉光放电
6 个月前探讨用于薄膜沉积的 PECVD 辉光放电的概念、特点和效果。
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PECVD 工艺类型、设备结构及其工艺原理
6 个月前概述 PECVD 工艺、设备结构和常见问题，重点介绍各种 PECVD 类型及其应用。
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PECVD 纳米涂层技术在电子器件中的应用
6 个月前PECVD 纳米涂层技术可提高各种电子设备的耐用性和可靠性。
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防水和防腐蚀之外的 PECVD 纳米涂层应用
6 个月前探讨各种 PECVD 纳米涂层应用，包括防水、防腐、抗菌、亲水和耐磨薄膜。
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用于锂离子电池硅基材料表面改性的碳涂层
7 个月前本文讨论了碳涂层在锂离子电池中的应用，以提高硅基负极材料的性能。
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用 CVD 法制备硅碳负极材料的技术概述
7 个月前本文讨论了通过 CVD 制备的硅碳负极材料的关键技术方面，重点是其合成、性能改进和工业应用潜力。
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用于下一代电池的气相沉积硅碳负极
7 个月前探讨硅基阳极的潜力，重点是气相沉积技术及其对电池性能和成本的影响。
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CVD 化学气相沉积薄膜传输系统简介
7 个月前概述用于薄膜沉积的 CVD 工艺、组件和系统。
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LPCVD、PECVD 和 ICPCVD 工艺的比较与应用分析
7 个月前详细比较了 LPCVD、PECVD 和 ICPCVD 技术，重点是原理、特点、优势和劣势。
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真空镀膜技术：开发与应用
7 个月前探讨真空镀膜技术的演变、方法和应用，重点是 PVD 及其对工业工具和模具的影响。
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氮化硅薄膜制备工艺对厚度控制精度的影响
7 个月前分析不同氮化硅薄膜制备工艺对半导体制造中厚度控制精度的影响。
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化学气相沉积法制备和转移石墨烯技术
7 个月前本文回顾了石墨烯的制备方法，重点介绍了 CVD 技术、其转移技术和未来前景。
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化学气相沉积 (CVD) 工艺和高纯度 PFA 管材
7 个月前概述 CVD 工艺和高纯度 PFA 管在半导体制造中的作用。
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先进的表面处理：钛 CVD 涂层
7 个月前探讨钛合金 CVD 涂层的优点和应用，重点是耐磨性、耐腐蚀性和热稳定性。
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生长单晶薄膜的镀膜方法
7 个月前概述用于生长单晶薄膜的各种涂层方法，如 CVD、PVD 和 Epitaxy。
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12 种化学气相沉积 (CVD) 技术的全面概述
7 个月前探索从等离子体增强到超高真空等各种 CVD 方法及其在半导体和材料科学中的应用。
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化学气相沉积 (CVD) 技术的优势、局限性和过程控制
7 个月前探讨用于表面涂层的 CVD 技术的优势、制约因素和工艺管理。
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深入研究化学气相沉积 (CVD) 涂层
7 个月前全面探讨 CVD 技术、其原理、特点、分类、新进展以及在各个领域的应用。
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化学气相沉积 (CVD) 和电子特种气体
7 个月前概述 CVD 技术和电子特种气体在半导体制造中的作用。
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光伏钝化层薄膜沉积工艺
7 个月前详细分析 TOPCon 电池中的钝化层薄膜沉积方法，包括 PVD 和 CVD 技术。
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CVD 无机薄膜沉积方法概览
7 个月前本文详细介绍了用于无机薄膜沉积的各种 CVD 和 PVD 方法，包括其工艺、应用和比较。
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精密调谐薄膜技术：卤化物太阳能电池中的化学气相沉积（CVD）
7 个月前探讨 CVD 在提高钙钛矿太阳能电池的性能和可扩展性方面的作用，重点介绍其优势和应用。
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各种分析仪器的样品制备指南
7 个月前为 NMR、MS、色谱、IR、UV、ICP、热重、XRD、TEM、SEM 及其他仪器准备样品的详细说明。
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X 射线荧光光谱仪：粉末压缩样品制备方法
7 个月前本文讨论 XRF 光谱分析中的粉末压缩法，重点是样品制备技术和设备。
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制备 XRD 样品：综合指南
7 个月前准备 X 射线衍射实验样品的详细步骤和要求。
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红外光谱样品制备和处理
7 个月前关于制备和处理用于红外光谱分析的固体、液体和气体样品的详细指南。
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