文章

影响磁控溅射均匀性的因素

1 年前

讨论影响磁控溅射薄膜沉积均匀性的关键因素，包括设备参数、溅射功率、气体压力、磁场配置、基片特性等。

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选择真空镀膜材料：关键因素和考虑因素

1 年前

根据应用、材料特性、沉积方法、经济性、基底兼容性和安全性选择正确真空镀膜材料的指南。

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在磁控溅射中使用铼靶实现辉光放电所面临的挑战

1 年前

探讨铼靶在磁控溅射过程中难以发光的原因，并提出优化建议。

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影响磁控溅射过程中溅射效果的参数

1 年前

影响磁控溅射中溅射效果的关键参数，包括气压、功率、靶距、基片类型等。

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控制蒸发氧化硅薄膜的颜色和应用

1 年前

探索氧化硅薄膜的颜色变化、控制方法和实际应用。

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磁控溅射法制备锆钛酸铅（PZT）薄膜层的注意事项

1 年前

使用磁控溅射法制备 PZT 薄膜层的指南和注意事项。

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在柔性基底上进行蒸发涂层的注意事项

1 年前

在柔性材料上成功进行蒸发涂层的关键因素，确保质量和性能。

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磁控溅射中的偏置电源类型及其用途

1 年前

概述磁控溅射中的偏置电源类型及其在提高薄膜附着力和密度方面的作用。

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了解薄膜制备中直流、中频和射频溅射的区别和用途

1 年前

本文介绍了直流、中频和射频溅射技术在薄膜制备中的区别和应用。

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磁控溅射镀膜过程中的靶材火花：原因与解决方案

1 年前

解释磁控溅射过程中靶材产生火花的原因，并提供防止火花产生的解决方案。

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了解溅射沉积技术

1 年前

深入了解溅射沉积技术及其机制、类型和应用。

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化学气相沉积（CVD）薄膜沉积技术

1 年前

概述 CVD 技术及其原理、类型、应用、工艺特点和优势。

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半导体制造中的薄膜沉积工艺

1 年前

概述薄膜沉积技术，重点介绍半导体制造中的化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）工艺。

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化学气相沉积 (CVD) 技术全面概述

1 年前

本文详细介绍了半导体和薄膜沉积行业使用的各种 CVD 技术。

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MPCVD 培养钻石掀起行业革命

1 年前

探讨 MPCVD 培养钻石对各行业的影响以及降低成本和提高效率的策略。

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选择高性能 MPCVD 设备

1 年前

选择用于金刚石生长的 MPCVD 设备的主要考虑因素。

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了解 MPCVD：微波等离子体化学气相沉积综合指南

1 年前

深入探讨 MPCVD 技术、其组成部分、优势以及影响薄膜生长的因素。

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为实验室实验选择正确的加热方法

1 年前

讨论实验室中的不同加热方法及其对各种实验的适用性。

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液压热压机：原理、组件、特点、优势和应用

1 年前

深入了解液压热压机及其组件、特点、优势和应用。

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层压实验中平板热压机的安全操作和程序指南

1 年前

在层压实验中使用平板热压机的详细安全和操作指南，包括操作前检查、材料准备、加热程序和后处理。

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红外光谱仪样品制备操作指南

1 年前

红外光谱分析样品制备综合指南，涵盖气体、液体和固体样品。

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红外光谱学：技术和样品制备

1 年前

概述红外光谱分析方法，重点介绍压制法和使用溴化钾制备样品。

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层压实验中平板热压机的安全和操作指南

1 年前

在层压实验中使用平板热压机的详细安全措施和操作步骤。

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冷等静压技术的综合应用

1 年前

概述冷等静压技术在各行各业的广泛应用。

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冷等静压原理和工艺

1 年前

解释粉末成型中冷等静压的机理、因素和过程。

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热等静压技术在特种陶瓷制备中的应用

1 年前

探讨 HIP 技术在特种陶瓷中的应用，重点是制备、特性和行业趋势。

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氧化锆陶瓷在牙科修复中的应用研究

1 年前

探讨氧化锆陶瓷在牙科修复中的特性、制备方法和优势。

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等静压陶瓷球的缺陷和解决方案

1 年前

本文讨论了等静压陶瓷球中的各种缺陷，并针对每种缺陷提供了解决策略。

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氧化锆陶瓷烧结工艺和常见问题

1 年前

深入了解氧化锆陶瓷的各种烧结方法以及在烧结过程中遇到的常见问题。

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等静压技术：原理、分类和应用

1 年前

深入了解等静压技术、其类型以及在各行业的不同应用。

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