溅射镀膜机是如何工作的？原子级薄膜沉积指南

从本质上讲，溅射镀膜机是一种原子尺度的喷枪，它通过物理撞击将源材料的原子从靶材上剥离下来，并将它们作为超薄薄膜沉积到样品上。这个过程发生在真空环境中，并利用高能等离子体轰击源材料，从而形成受控的、均匀的涂层。

溅射镀膜不是一种熔化或蒸发材料的热过程。相反，它是一个纯粹的物理现象——一场高能的原子台球游戏——其中离子被用来精确地从靶材上剥离原子，这些原子随后在您的基底上堆积成薄膜。

溅射的四个核心阶段

要理解溅射镀膜机的工作原理，最好将其分解为四个独立、连续的阶段。整个过程都发生在密闭的腔室内。

首先，真空泵将空气从样品腔中抽出。这一点至关重要，因为空气分子会干扰过程，使溅射出的原子发生散射，并污染最终的薄膜。

达到低压后，少量、受控的惰性气体（几乎总是氩气）被引入腔室。

在腔室内的两个电极之间施加高电压（直流或射频）。靶材（您想要镀膜的材料，如金或钛）充当负极（阴极）。

这个强大的电场使氩气电离，将电子从氩原子中剥离出来，从而形成等离子体——一种发光的、电离的气体，由正氩离子（Ar+）和自由电子组成。

带正电的氩离子被强力吸引到带负电的靶材上。它们加速撞向靶材表面，并以巨大的力量撞击其表面。

这种高能撞击足以将靶材材料的原子物理性地撞击脱落。这种靶材原子的喷射就是“溅射”效应。

来自靶材的新溅射出的原子以直线穿过低压腔室。

当这些原子到达您的样品（基底）时，它们会落在其表面并凝结。在几秒或几分钟内，这些原子一层一层地堆积起来，形成一层薄薄的、均匀的、高纯度的薄膜。

溅射薄膜的质量、厚度和沉积速率并非偶然。它们直接由机器的几个关键参数控制。

施加到靶材上的电压和电流决定了轰击离子的能量和等离子体的密度。更高的功率通常会导致更快的沉积速率。

腔室内氩气的量是一个微妙的平衡。气体太多（高压）会导致溅射出的原子与气体分子碰撞，在到达基底之前发生散射，从而导致薄膜质量不佳。气体太少（低压）则难以维持稳定的等离子体。

源材料与样品之间的距离会影响涂层的厚度和均匀性。较大的距离可以提高均匀性，但也会降低沉积速率，从而需要更长的处理时间。

虽然氩气因其理想的质量和化学惰性而成为标准气体，但其他气体也可用于特定目的。在称为反应溅射的过程中，会添加氮气或氧气等气体，以在基底上形成化合物涂层（例如氮化钛）。

溅射是一种强大的技术，但了解其固有特性对于有效使用它至关重要。

由于溅射是一种物理的“撞击”过程，它产生的辐射热远少于热蒸发（热蒸发中源材料会被熔化）。这使得溅射非常适合涂覆对热敏感的基底，如塑料或生物样品。

溅射通常比热蒸发慢。原子沿视线路径传播，因此，如果没有样品旋转，涂覆复杂的、具有深凹槽的三维形状可能会很困难。

溅射出的原子带着显著的动能到达基底。这有助于它们形成一层致密、附着力好的薄膜，具有出色的结构特性，通常优于其他沉积方法的薄膜。

溅射镀膜机的理想设置完全取决于您的目标。

如果您的主要重点是为 SEM（扫描电子显微镜）准备样品： 您的目标是形成一层薄而均匀的导电层（如金或铂）以防止电子荷电，因此应专注于实现一致、完整的覆盖，而不是高速度。
如果您的主要重点是制造功能性电子薄膜： 纯度和精确厚度至关重要，因此请确保高真空，使用高纯度气体，并仔细校准您的沉积时间和功率。
如果您的主要重点是创建硬质或装饰性涂层（PVD）： 薄膜附着力和特定化学成分是关键，通常需要反应溅射，并仔细控制惰性气体和反应性气体的混合比例。

通过将该过程理解为受控的原子轰击，您可以调整每个参数，以精确地制造您的工作所需的薄膜。