技术团队 · Kintek Solution

溅射靶材主要用于在各种基底上沉积薄膜，这一过程被称为物理气相沉积（PVD）。这项技术在电子、光学和可再生能源等多个行业中都至关重要。

半导体：

溅射靶材在半导体生产中发挥着重要作用。它们用于在微芯片、存储芯片、打印头和平板显示器中制造导电层。该工艺涉及金属合金的使用，必须确保高化学纯度和冶金均匀性，以保持半导体器件的完整性和性能。玻璃镀膜：

在建筑行业，溅射靶材用于生产低辐射（Low-E）玻璃。对这种玻璃进行镀膜可减少透过的红外线和紫外线，有助于节约能源、控制光线和提高美观度。镀膜是通过溅射工艺将薄层材料沉积到玻璃表面。

太阳能电池镀膜：

随着可再生能源需求的不断增长，溅射靶材被用于制造薄膜太阳能电池。这些第三代太阳能电池是利用溅射镀膜技术制造的，可精确应用各种材料，提高电池将太阳光转化为电能的能力。光学应用：

溅射还可用于光学应用，在玻璃上沉积薄层以改变其特性。这包括提高玻璃的反射率、透射率或耐用性，具体取决于所制造光学设备的具体要求。