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沉积速率是薄膜沉积工艺的一个重要方面。它衡量材料沉积到基底上的速度。
沉积速率的单位通常用单位时间内的长度来表示。
一个常用单位是纳米/秒 (nm/s)。
另一个常用单位是微米/分钟（μm/min）。
沉积速率的计算公式为 ( R_{dep} )：[R_{dep} = A ／times R_{sputter} ]。
沉积速率对于控制薄膜的厚度和均匀性至关重要。
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