sputtered（溅射）"一词经常在不同的语境中使用，但一般是指由于高能粒子（如离子）的轰击而从固体材料中喷射出粒子的过程。这一过程通常用于薄膜沉积技术，用离子轰击目标材料使原子脱落，然后沉积到基底上形成薄膜。在日常用语中，"sputtered\"也可以形容少量、分散地发射出来的东西，通常会发出 "spitting "或 "popping "的声音，就像汽车发动机运转不畅一样。
要点解释：
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溅射的定义:
- 溅射是一种物理过程，原子在高能粒子（通常是离子）的轰击下从固体目标材料中喷射出来。这种工艺广泛应用于材料科学和工程领域，用于在基底上沉积薄膜。
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溅射机理:
- 其机理是将进入的离子的动量传递给目标材料中的原子。当离子与目标碰撞时，它们会使原子从表面脱落，然后被抛射到周围的空间。这些射出的原子随后会沉积到附近的基底上，形成薄膜。
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溅射的应用:
- 薄膜沉积:溅射技术广泛应用于半导体工业，用于在硅晶片上沉积金属、氧化物和氮化物等材料的薄膜。
- 光学镀膜:它还用于在镜片和镜子上制作光学镀膜，以增强其反射或抗反射特性。
- 磁性存储:溅射法用于生产硬盘等磁性存储介质，在磁盘上沉积薄磁层。
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溅射类型:
- 直流溅射:使用直流电源产生等离子体轰击目标材料。
- 射频溅射:利用射频（RF）功率电离气体并产生等离子体，这对绝缘材料非常有用。
- 磁控溅射:通过使用磁场捕获目标附近的电子来增强溅射过程，从而提高电离率和溅射效率。
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Sputtered\" 的日常用法:
- 在非技术性语境中，"sputtered\"可以描述少量、零散地喷出的东西，通常伴有 "spitting "或 "popping "的声音。例如，"The old car sputtered to a stop,"（"这辆旧车溅射着停了下来"）暗示汽车的发动机不规则地喷出废气，难以顺利运转。
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溅射的优点:
- 高品质电影:溅射法可以生产出高质量、均匀的薄膜，并且与基底具有极佳的粘附性。
- 多功能性:可用于多种材料，包括金属、合金和陶瓷。
- 控制:该工艺可精确控制沉积薄膜的厚度和成分。
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溅射技术面临的挑战:
- 费用:溅射设备可能很昂贵，而且该工艺可能需要高真空条件，从而增加了成本。
- 复杂性:这个过程可能很复杂，需要仔细控制压力、功率和气体成分等参数。
总之，"sputtered/"是一个术语，用来描述由于离子轰击而从材料中喷射出的粒子，是一种广泛应用于薄膜沉积的工艺。它还有一个口语化的含义，指的是少量、分散地喷射出来的东西，通常会发出 "spitting "或 "popping "的声音。了解了 "sputtered/"的技术和日常用法，就能全面了解它在科学和一般语境中的意义。
总表：
| 方面 | 描述 |
|---|---|
| 定义 | 由于离子轰击，粒子从材料中喷射出来。 |
| 技术用途 | 用于半导体、光学涂层等的薄膜沉积。 |
| 日常使用 | 形容少量、零散地发射（如汽车溅射）。 |
| 溅射类型 | 直流、射频和磁控溅射。 |
| 优势 | 高品质薄膜、多功能性和精确控制。 |
| 挑战 | 成本高、工艺复杂。 |
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