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技术团队 · Kintek Solution

更新于 2个月前

溅射过程中使用什么气体?5 种主要气体解释

溅射是各种工业和实验室应用中的关键工艺,气体的选择对其成功与否起着重要作用。

溅射中使用什么气体?5 种关键气体解析

溅射过程中使用什么气体?5 种主要气体解释

1.作为主要溅射气体的氩气

氩气是溅射中最常用的气体。

它是一种惰性气体,这意味着它不易与其他元素发生反应。

这种惰性对于保持靶材和沉积薄膜的完整性至关重要。

氩气还具有较高的溅射率,可提高沉积过程的效率。

氩气成本低,供应广泛,是许多应用的经济之选。

2.其他惰性气体的使用

氩气是最常用的气体,但偶尔也会使用氪(Kr)和氙(Xe)等其他稀有气体。

这些气体在溅射重元素时特别有用。

它们的原子量更接近于较重的目标材料,从而提高了溅射过程中动量传递的效率。

这对于获得具有所需特性的高质量薄膜至关重要。

3.使用氧气和氮气等气体进行反应溅射

在反应溅射中,氧气或氮气等非惰性气体与元素靶材料结合使用。

这些气体与溅射的原子发生化学反应,形成新的化合物作为涂层材料。

这种方法尤其适用于沉积氧化物或氮化物薄膜,这些薄膜在包括电子和光学在内的各种技术应用中至关重要。

4.溅射系统的配置和优化

可以根据薄膜沉积工艺的具体要求来选择溅射气体。

现代溅射系统具有很高的可配置性,允许对基片预热、原位清洁和使用多个阴极等参数进行调整。

这些调整有助于针对不同材料和应用优化沉积工艺。

5.溅射气体选择概述

溅射气体的选择取决于沉积过程的具体需求。

氩气因其惰性和其他有利特性而最为常见。

当需要特定的材料特性或反应时,则会使用其他气体,包括惰性气体和反应性气体。

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