溅射膜是通过一种称为溅射的工艺生成的薄层材料。
溅射是物理气相沉积(PVD)的一种。
在这一过程中,源材料(称为靶材)中的原子通过轰击粒子的动量传递而喷射出来。
轰击粒子通常是电离气体分子。
喷射出的原子在原子水平上与基质结合,形成几乎牢不可破的薄膜。
您需要了解的 5 个关键事实
1.溅射过程发生在真空室中
溅射过程在真空室中进行。
在真空室中注入少量氩气。
目标材料和基片被放置在真空室的两侧。
利用直流(DC)、射频(RF)或中频等方法在它们之间施加电压。
高能粒子轰击目标材料,使原子和分子交换动量并从表面弹出,这种现象称为溅射。
2.溅射是一种多功能、可扩展的技术
溅射是一种成熟的技术,能够将各种材料的薄膜沉积到不同形状和尺寸的基底上。
该工艺具有可重复性,可从小型研发项目扩展到涉及大中型基底面积的批量生产。
3.溅射靶材的制造工艺至关重要
要实现溅射沉积薄膜的理想特性,用于制造溅射靶材的制造工艺至关重要。
靶材可以由元素、元素混合物、合金或化合物组成。
以适合质量稳定的溅射薄膜的形式生产确定材料的工艺至关重要。
4.溅射原子具有更高的动能
溅射工艺的一个优点是,溅射出的原子的动能明显高于蒸发材料,因此附着力更好。
溅射可以自下而上或自上而下进行。
即使是熔点很高的材料也可以很容易地进行溅射。
5.溅射薄膜具有出色的均匀性和附着力
溅射薄膜具有极佳的均匀性、密度、纯度和附着力。
可以用传统溅射法生产成分精确的合金,也可以用反应溅射法生产氧化物、氮化物和其他化合物。
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