技术团队 · Kintek Solution

替代 XRF（X 射线荧光）进行元素分析的方法包括光学发射光谱法 (OES) 和激光诱导击穿光谱法 (LIBS) 等技术。这些方法可以直接分析工件，无需大量的样品制备，但与 XRF 相比有一定的局限性。光学发射光谱法和激光诱导击穿光谱法可能会在样品上留下可见的痕迹，这在需要保持工件完整性的情况下可能是一个缺点。

光学发射光谱 (OES)：

OES 是一种利用激发原子发出的光来确定材料元素组成的技术。它特别适用于检测低原子序数的元素，并能提供精确的定量分析。不过，OES 需要火花来激发原子，这会对样品造成物理损坏，因此不太适合用于非破坏性检测。激光诱导击穿光谱仪（LIBS）：

激光诱导击穿光谱法使用高功率激光脉冲在样品表面产生微等离子体，从而发出光。然后对光的光谱进行分析，以确定元素组成。LIBS 的优势在于能够分析固体、液体和气体，无需大量的样品制备。不过，与 OES 一样，由于高能激光的冲击，它也会在样品上留下痕迹。