要了解真空和高真空之间的区别，就需要探索各种真空度的定义和应用。其中包括高真空 (HV)、超高真空 (UHV) 和极高真空 (XHV)。
真空的质量取决于气体密度或气体压力的降低程度。
低真空和中真空通常用于工业应用。
高真空及更高真空对于专业实验室和研究应用至关重要。
4 个要点详解：真空和高真空有什么区别？
1.真空的定义和压力范围
低真空： 通常为 1 至 0.03 巴（100,000 至 3,000 帕）。
中真空： 一般理解为介于低真空和高真空之间。
高真空 (HV)： 定义为 10^-7 至 10^-3 毫巴（0.1 帕至 10^-7 帕）之间的压力。
超高真空 (UHV)： 压力介于 10^-7 和 10^-12 毫巴之间。
极高真空 (XHV)： 压力在 10^-12 毫巴及以下。
2.不同真空度下的气体来源
低真空和中真空： 主要受 "散装 "或原始气体的影响。
高真空及以上： 主要受表面气体解吸产生的放气影响。
极高真空（XHV）： 主要受腔壁和其他材料的气体渗透影响。
3.实现高真空的挑战
材料选择： 必须仔细选择暴露在高真空下的材料，以防止放气和蒸汽压问题。
表面处理： 表面通常需要高温烘烤，以去除吸附的气体。
4.不同真空度的应用
低真空： 用于溶剂回收、真空吸尘器和白炽灯等应用。
中高真空： 用于有机物萃取、真空炉和负压通风。
高真空： 半导体工业、整理室和各种研究应用中必不可少的设备。
超高真空（UHV）： 用于高能物理和核研究，如欧洲核子研究中心和 KATRIN。
极高真空（XHV）： 与外层空间等环境有关，特别是在地球静止轨道卫星上。
5.真空的测量和质量
真空质量： 用气体密度或压力的降低来描述。
测量单位： 通常以帕斯卡（Pa）或毫巴（mbar）为单位。
总之，真空与高真空的区别在于压力范围以及达到和维持这些水平所需的方法。
高真空及更高真空对于高级研究和工业应用至关重要，在这些应用中，需要极低的气体密度来防止污染并确保精确的实验条件。
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