直流溅射基本依赖于直流 (DC) 电源。 为促进该过程，真空腔室压力严格维持在1 至 100 mTorr 的范围内。
直流溅射的定义是使用直流电源和 1 至 100 mTorr 的特定工作压力窗口，这使其区别于高频交流方法。
核心操作参数
电源
直流溅射的主要特点是其电源。顾名思义，它使用直流 (DC)。
这种设置提供了一个单向的连续电荷流。这与其他依赖交流或振荡电流的溅射方法形成鲜明对比。
腔室压力要求
溅射腔室内的环境与电源一样关键。
对于直流溅射，系统需要受控的真空环境。该过程的典型工作压力介于1 至 100 mTorr 之间。
比较电源配置
直流与射频电源
为了充分理解直流溅射的配置，了解它不是什么是有帮助的。
虽然直流溅射使用直流电源，但射频溅射使用交流 (AC) 电源。
频率差异
在射频配置中，电源通常是高压射频源。
该源通常固定在13.56 MHz 的特定频率，而直流溅射不依赖于这种高频振荡。
溅射要求总结
如果您的特定应用需要直流溅射：
- 确保您的电源配置为直流 (DC) 输出。
- 将真空腔室压力严格维持在1 至 100 mTorr 之间。
如果您遇到射频溅射规格：
- 请注意，此过程需要交流 (AC) 源，通常为13.56 MHz。
选择正确的电源和压力范围是建立功能性溅射沉积系统的基础步骤。
总结表：
| 特征 | 直流溅射 | 射频溅射 |
|---|---|---|
| 电源 | 直流 (DC) | 交流 (AC) |
| 工作压力 | 1 - 100 mTorr | 通常低于直流 |
| 频率 | 不适用（连续） | 通常为 13.56 MHz |
| 常见用途 | 导电靶材 | 绝缘和导电靶材 |
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