氩气之所以被用于溅射，主要是因为它具有溅射率高、惰性、价格低廉以及可获得纯净气体等特点。这些特性使其成为各种溅射过程中入射带电粒子的理想选择。
溅射率高： 氩是一种原子质量相对较高的稀有气体元素，具有较高的溅射率。这在沉积过程中至关重要，因为它会直接影响薄膜形成的速度和效率。氩气的高原子质量意味着，当它被电离并加速冲向目标时，会在撞击时传递巨大的动量，从而导致目标原子的有效喷射。
惰性： 氩具有化学惰性，这意味着它不易与其他元素发生反应。这一点在溅射过程中尤为重要，因为它能最大限度地降低溅射气体与目标材料或生长薄膜之间发生不必要化学反应的风险。这可确保沉积薄膜保持所需的化学成分和特性。
低廉的价格和可用性： 与氪和氙等其他稀有气体相比，氩气的价格相对较低。氩气的广泛供应和低成本使其成为工业和实验室应用的实用选择。这一经济因素非常重要，尤其是在大规模生产过程中，材料成本会对总体生产成本产生重大影响。
纯净气体供应： 高纯度氩气的供应是另一个优势。高纯度对于防止杂质影响沉积薄膜的质量至关重要。杂质会降低薄膜的性能，如导电性或光学透明度。
总之，氩气集高溅射效率、化学惰性、成本效益和纯度于一身，是许多溅射应用的首选。氩气广泛应用于不同类型的溅射工艺，包括直流、射频和磁控溅射，为薄膜的高质量沉积做出了贡献。
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