知识 钎焊时助焊剂为何重要?它能去除隐形屏障,实现完美结合
作者头像

技术团队 · Kintek Solution

更新于 2 周前

钎焊时助焊剂为何重要?它能去除隐形屏障,实现完美结合

从本质上讲,助焊剂是一种化学清洁剂,对于成功的钎焊至关重要。它能去除待连接金属表面上看不见但顽固的氧化层,否则这些氧化层会阻止熔融填充金属形成牢固、连续的结合。

钎焊的根本挑战不是热量,而是化学。金属自然会形成阻碍结合的氧化层,而助焊剂是去除该屏障并在接头形成时保护它的化学工具。

隐形屏障:了解金属氧化物

要理解助焊剂的重要性,您必须首先了解它解决的问题。良好钎焊接头的敌人是氧化,这是一种自然的化学反应。

氧化物为何会瞬间形成

几乎所有金属,当暴露在空气中的氧气中时,都会立即在其表面形成一层薄而透明、化学性质稳定的金属氧化物层。

这一层通常只有几个分子厚,但它完全覆盖了下面的纯母材金属。

氧化层的问题

这个氧化层就像一堵墙。熔融钎焊合金无法与金属氧化物结合;它只能与下面的纯金属结合。

如果没有办法去除这个屏障,填充金属只会聚集在表面,拒绝流动或“润湿”母材金属。这会导致接头强度弱、不完整或根本不存在。

助焊剂如何解决氧化问题

助焊剂是一种多阶段解决方案,专门设计用于在加热过程之前和期间解决氧化问题。它按顺序执行三个关键功能。

步骤1:化学清洁

助焊剂的熔化和活化温度设计为低于填充合金的熔点。

当它熔化时,它会扩散到接头区域并积极溶解金属氧化物,留下化学清洁的金属表面。

步骤2:表面保护

一旦助焊剂清洁了表面,其液态层就会在母材金属上形成一个保护屏障。

该屏障将清洁的金属与周围空气隔离,防止在零件加热到最终钎焊温度时形成新的氧化物。

步骤3:实现润湿和毛细作用

随着氧化屏障的去除和表面的保护,熔融填充金属现在可以自由地与纯母材金属紧密接触。

这使得填充物能够“润湿”表面——薄而均匀地铺展。更重要的是,它实现了毛细作用,这种力将熔融填充物拉入两部分之间的狭窄间隙深处,确保形成完整、牢固且无空隙的接头。

了解权衡

虽然对于大多数方法来说必不可少,但助焊剂并非完美的解决方案,它也有其自身的考虑因素。了解其局限性是掌握钎焊过程的关键。

钎焊后清洁的必要性

冷却后,残留的助焊剂残渣可能具有腐蚀性,并且通常坚硬如玻璃。

对于许多应用,尤其是在电子或流体系统中,必须彻底清除组件上的这些残渣,以防止长期腐蚀或污染。

何时不需要助焊剂:受控气氛

助焊剂的功能是去除和防止氧化物。在某些工业过程中,例如炉中钎焊,这是通过不同的方式实现的。

通过在充满受控气氛(例如氢气或真空)的炉子中钎焊零件,环境中完全消除了氧气。由于不会形成氧化物,因此不需要助焊剂来去除它们。

为您的工艺做出正确选择

您的钎焊方法直接决定了对助焊剂的需求。目标始终是清洁、无氧化物的表面,但实现方式可能有所不同。

  • 如果您的主要重点是火焰、感应或电阻钎焊:使用正确的助焊剂是不可协商的。这是确保填充金属结合的化学清洁表面的唯一实用方法。
  • 如果您的主要重点是高产量工业炉中钎焊:炉子的受控气氛执行助焊剂的功能,因此不需要单独的化学应用。

最终,了解助焊剂是一种化学清洁工具,可以帮助您创建始终牢固可靠的钎焊接头。

总结表:

功能 目的 主要优点
化学清洁 溶解现有的金属氧化物层 为结合创造清洁表面
表面保护 加热过程中保护金属免受氧气影响 防止形成新的氧化物
实现润湿 允许填充金属流动和结合 通过毛细作用确保牢固、连续的接头

使用合适的实验室设备实现完美的钎焊效果。无论您是开发新的钎焊工艺还是扩大生产,KINTEK 在实验室炉和受控气氛系统方面的专业知识都可以帮助您消除与助焊剂相关的问题,并确保一致、高质量的接头。立即联系我们的专家,讨论我们的解决方案如何优化您的钎焊工作流程并提高接头可靠性。

相关产品

大家还在问

相关产品

实验室内部橡胶搅拌机/橡胶混炼机

实验室内部橡胶搅拌机/橡胶混炼机

实验室内部橡胶混合器适用于混合、捏合和分散各种化工原料,如塑料、橡胶、合成橡胶、热熔胶和各种低粘度材料。

电动实验室冷等静压机(CIP) 12T / 20T / 40T / 60T

电动实验室冷等静压机(CIP) 12T / 20T / 40T / 60T

使用我们的电动实验室冷等静压机生产致密、均匀的零件,提高机械性能。广泛应用于材料研究、制药和电子行业。高效、紧凑、真空兼容。

网带式可控气氛炉

网带式可控气氛炉

了解我们的 KT-MB 网带烧结炉 - 电子元件和玻璃绝缘子高温烧结的理想之选。可用于露天或可控气氛环境。

CVD 钻石穹顶

CVD 钻石穹顶

CVD 钻石球顶是高性能扬声器的终极解决方案。这些圆顶采用直流电弧等离子喷射技术制造,具有卓越的音质、耐用性和功率处理能力。

10 升冷却循环器 低温恒温反应槽

10 升冷却循环器 低温恒温反应槽

KinTek KCP 10L 冷却循环器可满足您的实验室需求。它具有稳定、安静的制冷能力,制冷温度最高可达 -120℃,还可作为一个制冷槽使用,用途广泛。

CVD 掺硼金刚石

CVD 掺硼金刚石

CVD 掺硼金刚石:一种多功能材料,可实现量身定制的导电性、光学透明性和优异的热性能,应用于电子、光学、传感和量子技术领域。

间接冷阱冷却器

间接冷阱冷却器

使用我们的间接冷阱可提高真空系统的效率并延长泵的使用寿命。内置冷却系统,无需液体或干冰。设计紧凑,使用方便。

用于碳材料的底部放电石墨化炉

用于碳材料的底部放电石墨化炉

碳材料用底出式石墨化炉,超高温炉,最高温度可达 3100°C,适用于碳棒和碳块的石墨化和烧结。立式设计,底部出料,进料出料方便,温度均匀性高,能耗低,稳定性好,液压升降系统,装卸料方便。

等离子体增强蒸发沉积 PECVD 涂层机

等离子体增强蒸发沉积 PECVD 涂层机

使用 PECVD 涂层设备升级您的涂层工艺。是 LED、功率半导体、MEMS 等领域的理想之选。在低温下沉积高质量的固体薄膜。

混合式组织研磨机

混合式组织研磨机

KT-MT20 是一种多功能实验室设备,用于快速研磨或混合干、湿或冷冻的小样品。它配有两个 50 毫升的球磨罐和各种细胞破壁适配器,适用于 DNA/RNA 和蛋白质提取等生物应用。

50 升冷却循环器 低温恒温反应槽

50 升冷却循环器 低温恒温反应槽

KinTek KCP 50L 冷却循环器是一种可靠、高效的设备,可在各种工作环境下通过循环流体提供恒定的冷却动力。

30 升冷却循环器 低温恒温反应槽

30 升冷却循环器 低温恒温反应槽

使用 KinTek KCP 冷却循环器保持实验室凉爽--它是持续冷却的理想选择,可满足所有工作需求。

氧化铝(Al2O3)炉管 - 高温

氧化铝(Al2O3)炉管 - 高温

高温氧化铝炉管结合了氧化铝硬度高、化学惰性好和钢的优点,具有优异的耐磨性、抗热震性和抗机械冲击性。

40 升冷却循环器 低温恒温反应槽

40 升冷却循环器 低温恒温反应槽

KinTek KCP 循环冷却器可提供高效、可靠的冷却能力。它的最高温度为-120℃,是适用于不同工作环境的理想设备。

真空层压机

真空层压机

使用真空层压机,体验干净、精确的层压。非常适合晶圆键合、薄膜转换和 LCP 层压。立即订购!

聚四氟乙烯绝缘子

聚四氟乙烯绝缘子

聚四氟乙烯绝缘体 聚四氟乙烯在较宽的温度和频率范围内具有优异的电气绝缘性能。

CVD 金刚石涂层

CVD 金刚石涂层

CVD 金刚石涂层:用于切割工具、摩擦和声学应用的卓越导热性、晶体质量和附着力

非消耗性真空电弧炉 感应熔化炉

非消耗性真空电弧炉 感应熔化炉

了解采用高熔点电极的非消耗性真空电弧炉的优点。体积小、易操作、环保。是难熔金属和碳化物实验室研究的理想之选。


留下您的留言