溅射是一种真空工艺,用于将材料薄膜沉积到基底(如硅、玻璃或塑料)上。该工艺包括产生气态等离子体,并将等离子体中的离子加速到源材料(即溅射靶材)中。高能离子会侵蚀靶材,使其喷射出中性粒子,然后沿直线传播到基材上。由于溅射技术能够在分子水平上生成具有特定性质和原始界面的薄膜,因此被广泛应用于光学和电子学等各种领域。
工艺概述:
溅射机制:
溅射系统的类型:
溅射的应用:
在纳米材料中的重要性:
通过了解这些要点,实验室设备采购人员就能体会到溅射工艺的多功能性和精确性,这对于为各种应用制造具有特定性能的薄膜和纳米材料至关重要。
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