聚四氟乙烯材料
聚四氟乙烯导电玻璃基板清洁架
货号 : PTFE-03
价格根据 规格和定制情况变动
- 材料
- 聚四氟乙烯(ptfe)
- 规格
- 参见表格
运输:
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应用领域
用于半导体硅片、硅片、玻璃、液晶屏等的清洗和腐蚀设备,太阳能电池蓝花,太阳能硅片蓝_太阳能硅片载体,光伏电池蓝,光伏硅片蓝,用于太阳能电池硅片的清洗设备,用于承载方形太阳能电池硅片,材质为聚四氟乙烯。该产品可在 100 ° C 以下的 NaOH 溶液、HCl 溶液、HF 等溶液中对硅片进行清洗和转换,长期使用不会使硅片变形或污染硅片。
细节与部件
技术规格
10×10×1.1 毫米 | 20×20×1.1 毫米 | 25×25×2.2 毫米 | 30×30×2.2 毫米 |
15×15×1.1 毫米 | 25×25×1.1 毫米 | 30×30×1.1 毫米 |
直径 1 英寸、2 英寸、4 英寸等(以上为玻璃或硅片尺寸),双把手(把手高度可定制),便于将聚四氟乙烯片清洗架从烧杯和其他装有玻璃的容器中取出。
我们展示的产品有不同尺寸,也可根据要求定制尺寸。
优点
- 温度范围广:可在 -200°C 至 +250°C 温度范围内无故障运行。
- 卓越的耐腐蚀性:可耐受强酸、强碱、王水和有机溶剂,不会发生溶解、吸附或沉淀。
- 低金属元素空白值:将污染风险降至最低。
- 优异的绝缘性:不受环境因素和频率的影响,具有低介电损耗和高击穿电压的特点。
- 耐大气老化和辐射。
- 低渗透性:确保有效的保护和清洁。
- 自润滑:在塑料中摩擦系数最小,可减少与摩擦相关的问题。
- 非粘性表面:表面能低的固体材料,可防止粘连。
- 柔软的机械特性:具有灵活性和多功能性。
FAQ
什么是物理气相沉积(PVD)?
什么是射频 PECVD?
什么是磁控溅射?
射频 PECVD 如何工作?
为什么选择磁控溅射?
射频 PECVD 有哪些优势?
用于薄膜沉积的材料有哪些?
薄膜沉积通常使用金属、氧化物和化合物作为材料,每种材料都有其独特的优缺点。金属因其耐用性和易于沉积而受到青睐,但价格相对昂贵。氧化物非常耐用,可耐高温,并可在低温下沉积,但可能比较脆,难以操作。化合物具有强度和耐久性,可在低温下沉积,并可定制以显示特定性能。
薄膜涂层材料的选择取决于应用要求。金属是热传导和电传导的理想材料,而氧化物则能有效提供保护。可根据具体需求定制化合物。最终,特定项目的最佳材料将取决于应用的具体需求。
实现最佳薄膜沉积的方法有哪些?
要获得具有理想特性的薄膜,高质量的溅射靶材和蒸发材料至关重要。
溅射靶材或蒸发材料的纯度起着至关重要的作用,因为杂质会导致生成的薄膜出现缺陷。晶粒大小也会影响薄膜的质量,晶粒越大,薄膜的性能越差。
要获得最高质量的溅射靶材和蒸发材料,选择纯度高、晶粒度小、表面光滑的材料至关重要。
薄膜沉积的用途
氧化锌薄膜
氧化锌薄膜可应用于热学、光学、磁学和电气等多个行业,但其主要用途是涂层和半导体器件。
磁性薄膜
磁性薄膜是电子、数据存储、射频识别、微波设备、显示器、电路板和光电子技术的关键元件。
光学薄膜
光学镀膜和光电子技术是光学薄膜的标准应用。分子束外延可以生产光电薄膜设备(半导体),外延薄膜是一个原子一个原子地沉积到基底上的。
聚合物薄膜
聚合物薄膜可用于存储芯片、太阳能电池和电子设备。化学沉积技术(CVD)可精确控制聚合物薄膜涂层,包括一致性和涂层厚度。
薄膜电池
薄膜电池为植入式医疗设备等电子设备提供动力,由于薄膜的使用,锂离子电池的发展突飞猛进。
薄膜涂层
薄膜涂层可增强各行业和技术领域目标材料的化学和机械特性。
薄膜太阳能电池
薄膜太阳能电池对于太阳能产业至关重要,它可以生产相对廉价的清洁电力。光伏系统和热能是两种主要的适用技术。
影响薄膜沉积的因素和参数
沉积速率:
薄膜的生成速率(通常以厚度除以时间来衡量)对于选择适合应用的技术至关重要。对于薄膜而言,适度的沉积速率就足够了,而对于厚膜而言,快速沉积速率则是必要的。在速度和精确薄膜厚度控制之间取得平衡非常重要。
均匀性:
薄膜在基底上的一致性称为均匀性,通常指薄膜厚度,但也可能与折射率等其他属性有关。
填充能力:
填充能力或台阶覆盖率是指沉积工艺对基底形貌的覆盖程度。所使用的沉积方法(如 CVD、PVD、IBD 或 ALD)对台阶覆盖率和填充有重大影响。
薄膜特性:
薄膜的特性取决于应用要求,可分为光子、光学、电子、机械或化学要求。大多数薄膜必须满足一个以上类别的要求。
制程温度:
薄膜特性受制程温度的影响很大,这可能受到应用的限制。
损坏:
每种沉积技术都有可能损坏沉积在其上的材料,而较小的特征更容易受到制程损坏。污染、紫外线辐射和离子轰击都是潜在的损坏源。了解材料和工具的局限性至关重要。
4.8
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5
Fast delivery and excellent packaging. The rack is made of high-quality PTFE, which is resistant to corrosion and heat.
4.9
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The rack is very easy to use and clean. It holds the substrates securely and prevents them from moving around during the cleaning process.
4.7
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The rack is very durable and has been able to withstand the harsh chemicals used in the cleaning process.
4.6
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The rack is very technologically advanced and has helped us to improve the quality of our products.
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