为漫反射测量制备样品, 标准程序是将样品粉末稀释在非吸收性基质中,例如卤化物(例如 KBr)。不直接分析纯物质,而是将样品混合至 0.1% 至 10% 的浓度,然后将其装入样品板进行分析。
漫反射法消除了压片劳动密集的过程。只需将样品与 KBr 等稀释剂混合,并以纯稀释剂为背景进行测量,即可快速获得高质量的粉末红外光谱。
稀释的作用
为什么很少使用纯样品
主要参考资料表明,样品不应直接测量。纯粉末通常会强烈吸收红外辐射,导致光谱数据失真。
理想浓度范围
为防止信号饱和,样品需要大量稀释。目标浓度通常在重量百分比 0.1% 至 10% 之间。
稀释剂基质
卤化物,最常见的是溴化钾 (KBr),用作稀释剂。这种材料对红外光是透明的,确保它能有效地作为样品的惰性载体。
测量工作流程
第一步:建立背景
在分析样品之前,必须创建参考基线。这是通过将纯稀释剂粉末(例如纯 KBr)装入样品板来完成的。
测量这种纯粉末以建立背景。这使得仪器能够从最终结果中减去大气影响和稀释剂的光学特性。
第二步:制备混合物
将样品粉末与 KBr 粉末充分混合,以达到所需的 0.1% 至 10% 的比例。均匀分布对于获得代表性光谱至关重要。
第三步:光谱采集
将样品-稀释剂混合物装入样品板。然后测量红外光谱。由于背景已经建立,所得数据仅代表样品的振动特性。
准确性的关键考虑因素
避免高压
与需要将粉末压成透明玻璃状圆盘(压片)的透射方法不同,漫反射仅需要松散或中等填充。
表面一致性
虽然避免了高压,但样品杯中填充粉末的表面应相对平坦均匀,以确保光散射的一致性。
根据您的目标做出正确的选择
为确保最准确的漫反射数据,请考虑以下有关您的制备技术的注意事项:
- 如果您的主要重点是工作流程效率:利用此方法避免液压压片所需的时间和设备。
- 如果您的主要重点是光谱线性:严格遵守 0.1%–10% 的浓度范围的下限,以防止因过度吸收引起的峰失真。
在基质中正确稀释样品是漫反射技术成功的决定性因素。
摘要表:
| 特征 | 要求/规格 |
|---|---|
| 稀释剂基质 | 卤化物(通常为 KBr) |
| 理想浓度 | 样品重量百分比 0.1% 至 10% |
| 制备方法 | 松散/中等填充(无需压片) |
| 参考背景 | 纯稀释剂粉末(例如纯 KBr) |
| 主要优点 | 高质量光谱,劳动量最小 |
使用 KINTEK 提升您的材料分析能力
准备好简化您的光谱分析工作流程了吗?KINTEK 专注于高性能实验室设备和耗材,旨在实现精确和高效。无论您需要高纯度KBr 粉末、用于均匀样品制备的专用破碎和研磨系统,还是用于替代压片方法的液压压机,我们都能提供推动科学卓越的工具。
我们广泛的产品组合支持多样化的研究需求,包括:
- 材料加工:高温炉(马弗炉、真空炉、CVD 炉)和研磨解决方案。
- 先进化学:高压反应器、高压釜和电解池。
- 样品制备必需品:陶瓷、坩埚和专用耗材。
立即提升您实验室的能力。 联系我们的专家,为您的应用找到完美的解决方案!