要保持溅射室的高清洁度，清洁溅射室是必不可少的。这样可以防止污染，确保涂层质量。
实现最佳性能的 4 个基本步骤
1.清洁溅射腔和组件
腔室清洁:用热肥皂水清洁玻璃腔体并彻底擦干。对于顽固的沉积物，可使用厨房清洁垫。出于健康和安全考虑，避免使用溶剂。
金属表面清洁:在金属表面使用异丙醇。避免使用丙酮，因为它会带来更大的健康和安全风险，而且放气时间较长，会影响真空性能。
2.保持真空和气体质量
真空度:确保真空室抽真空至高真空度，通常在 10^-6 至 10^-9 托之间。这对于创造无污染的沉积环境至关重要。
溅射气体:必须清洁和干燥溅射气体（氩气或氧气），以保持涂层的成分特性。
3.预清洁方法
沉积方法:沉积方法的选择会影响预清洁方法。例如，离子源技术比溅射系统更适合蒸发系统。
清洁深度:根据污染物确定所需的清洁程度。对于碳氢化合物和水分子的简单去除，低离子能量方法就足够了。若要清除氧化层，则需要更高的密度和离子能量。
覆盖面积:考虑清洗方法的覆盖面积。射频辉光板和等离子预处理等技术可以覆盖大面积区域，而射频或微波预处理和环形离子源等其他技术的覆盖范围则较为有限。
4.溅射清洗
技术:在真空中使用物理溅射来清洁固体表面。这种方法在表面科学、真空沉积和离子镀方面非常有效。
注意事项:注意潜在问题，如过热、气体掺入、表面损坏和粗糙化。确保等离子体清洁，以避免再污染和管理溅射材料的再沉积，尤其是在溅射压力较高的情况下。
按照这些详细步骤和注意事项，可以有效地清洁溅射室及其组件，确保最佳性能和高质量涂层。
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