产品 热能设备 MPCVD Drawing die nano-diamond coating HFCVD Equipment
拉丝模纳米金刚石涂层 HFCVD 设备

MPCVD

拉丝模纳米金刚石涂层 HFCVD 设备

货号 : MP-CVD-100

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应用

HFCVD 化学气相沉积金刚石的工作原理是:将含碳气氛与过饱和氢气混合,以一定方式活化,然后通过一定的气氛成分、活化能、基片温度以及基片与活化源之间的距离等。在这些条件下,底面就会沉积出一层金刚石膜。一般认为,金刚石薄膜的成核和生长可分为三个阶段:

  1. 含碳气体和氡气在一定温度下分解成碳原子、氢原子和其他活性游离基团。它们与基体结合,首先形成非常薄的碳化物过渡层。
  2. 碳原子在基质上形成的过渡层上沉积金刚石晶核。
  3. 形成的金刚石晶核在适当的环境下生长成金刚石微粒,然后长成金刚石薄膜。

细节和部件

拉丝模纳米金刚石涂层 HFCVD 设备工作场景详解 涂层平台细节 01 涂层平台细节 02 纳米金刚石涂层拉丝模详图 01 纳米金刚石涂层拉丝模详图 02

技术规格

HFCVD 技术成分
技术参数 设备组成 系统配置
钟罩直径 500mm,高 550mm,SUS304 不锈钢腔体;不锈钢内壁保温,提升高度 350mm。500mm,高 550mm,SUS304 不锈钢腔体;不锈钢内胆保温,提升高度 350mm; 一套真空室(钟罩)主体(夹套水冷结构) 真空室(钟罩)主体;腔体由优质 304 不锈钢制成;立式钟罩:夹套水冷夹套安装在钟罩的整体外围。钟罩内壁用不锈钢皮隔热,钟罩侧面固定。观察窗:水平布置在真空室中部 200mm 观察窗上,水冷、挡板、侧面和上部配置 45 度斜角、50° 观察窗(观察点与水平观察窗相同,与样品支撑平台相同);两个观察窗保持现有位置和尺寸。钟罩底部高出工作台平面 20mm,设置冷却;平面上预留孔洞,如大阀门、放气阀、气压测量器、旁通阀等、用金属网密封,预留安装电极接口;
设备工作台:长 1550* 宽 900* 高 1100 毫米 一套拖动样品台装置(采用双轴驱动) 样品架装置:不锈钢样品架(焊接水冷)6位装置,可单独调节,仅上下调整,上下调整范围25mm,要求上下时左右晃动小于3%(即左右晃动上升或下降1mm小于0.03mm),且样品台上升或下降时不旋转。
极限真空度:2.0×10-1Pa; 一套真空系统 真空系统:真空系统配置:机械泵+真空阀+物理放气阀+主排气管+旁通;(由真空泵供应商提供),真空阀采用气动阀;真空系统测量:膜压力。
压力上升率:≤5Pa/h; 双通道质量流量计供气系统 供气系统:质量流量计由乙方配置,双向进气,流量由质量流量计控制,双向汇流后从顶部进入真空室,进气管内径为 50mm
样品台移动:上下移动范围为 ± 25m,上下移动时要求左右晃动比例为 ± 3%; 一套电极装置(2 个通道) 电极装置:四个电极孔的长度方向与支撑平台的长度方向平行,长度方向正对直径为 200mm 的主观察窗。
工作压力:使用膜片式压力表,测量范围为0 ~ 10kPa;工作恒压在 1kPa ~ 5kPa,恒压值变化正负 0.1kPa; 一套冷却水系统 冷却水系统:钟罩、电极、底板均设有循环水冷却管路,并设有水流量不足报警装置 3.7:控制系统。钟罩提升、放气、真空泵、主管路、旁路、报警、流量、气压等开关、仪表、仪器、电源均设置在支架侧面,由 14 寸触摸屏控制;设备具有全自动控制程序,无需人工干预,并可存储数据和调用数据
进气口位置:进气口位于钟罩顶部,排气口位置位于样品架正下方; 控制系统
控制系统:PLC 控制器 + 10 英寸触摸屏 一套自动压力控制系统(德国原装进口压力控制阀)
充气系统:双通道质量流量计,流量范围:0-2000sccm 和 0-2000sccm0-2000sccm和0-200sccm;气动阀门 电阻真空计
3.1.10 真空泵D16C 真空泵

优点

纳米金刚石复合镀膜拉丝模以硬质合金(WC-Co)为基体,采用化学气相法(简称CVD法)在模具内孔表面镀上传统金刚石和纳米金刚石复合镀膜。涂层经过研磨和抛光后得到一种全新的产品。内孔表面涂覆的纳米金刚石复合涂层不仅具有传统金刚石涂层附着力强、耐磨损的特点,还具有纳米金刚石涂层表面平整光滑、摩擦系数小、易于研磨抛光等优点。涂层技术不仅解决了涂层附着力的技术难题,还突破了金刚石涂层表面不易抛光的瓶颈,为 CVD 金刚石膜的产业化扫清了障碍。

传统拉丝模与纳米金刚石涂层拉丝模对比表

技术指标

传统拉丝模

纳米金刚石涂层拉丝模

涂层表面晶粒度

20~80nm

涂层金刚石含量

≥99%

金刚石涂层厚度

10 ~ 15 毫米

表面粗糙度

Ra≤0.1mm

A 级:Ra≤0.1mm

B 级Ra≤0.05mm

涂层拉丝模内孔直径范围

Ф3 ~ Ф70mm

Ф3 ~ Ф70mm

使用寿命

使用寿命取决于工作条件

6-10 倍

表面摩擦系数

0.8

0.1

 

  • 为保证设备模具升降平台的平行度和直线度,我公司专门制作了专用工装。双轴升降方式足以使两端升降±2 丝左右,从而可以制作较小的模具。
  • 对于设备的工装,我公司整合了各公司在工装上的位置,瞄准模具的工装和工艺。工装夹具好,稳定可靠,精度高,操作方便。
  • 对于设备的截止阀,其他厂家使用的是挡板阀,不能线性调节(即一打开,间隙就迅速增大)。我公司根据截止阀和稳压控制原理进行设计,使截止间隙可线性调节,实现稳压控制;
  • 全自动控制系统根据计算机算法自动控制压力;可减少操作人员的随意性,使过程更加保密。节省人力,同一规格的模具质量一致性更理想;
  • 为保证提升钟罩的稳定性,我公司采用了自润滑轴承,使转动更加灵活,无卡死现象。基本工艺,金刚石涂层可根据每个客户的金刚石涂层工艺进行制作。

 

警告

操作员安全是最重要的问题! 请小心操作设备。 使用易燃易爆或有毒气体是非常危险的,操作人员在启动设备之前必须采取所有必要的预防措施。 反应器或室内正压工作是危险的,操作人员必须严格遵守安全规程。 使用空气反应材料时,尤其是在真空下,也必须格外小心。 泄漏会将空气吸入设备并导致发生剧烈反应。

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FAQ

什么是 CVD 金刚石设备?

化学气相沉积钻石机是一种通过化学气相沉积(CVD)工艺生产人造钻石的设备。该工艺是通过化学蒸汽的沉淀来生成钻石,钻石具有与天然钻石相同的特性。CVD 金刚石设备包括丝状辅助热 CVD、等离子体增强 CVD 和燃烧火焰辅助 CVD 等。生产出的 CVD 金刚石硬度高、使用寿命长,因此在切削工具行业非常有用,是切削有色金属材料的一种重要而经济的工具。

CVD 的基本原理是什么?

化学气相沉积(CVD)的基本原理是将基底暴露在一种或多种挥发性前驱体中,这些前驱体在基底表面发生反应或分解,产生薄膜沉积。该工艺可用于各种应用,如图案化薄膜、绝缘材料和导电金属层。CVD 是一种多功能工艺,可以合成涂层、粉末、纤维、纳米管和整体元件。它还能生产大多数金属和金属合金及其化合物、半导体和非金属系统。气相化学反应在加热表面沉积固体是 CVD 工艺的特点。

CVD 金刚石设备如何工作?

CVD 金刚石设备的工作原理是将混合气体(通常是甲烷和氢)引入真空室。然后使用微波等离子体或热丝等多种技术对气体进行活化,从而分解分子并释放出碳原子。这些碳原子沉淀在基底上,一层一层地堆积起来,形成人造金刚石。

有哪些不同类型的 CVD 方法?

不同类型的 CVD 方法包括常压 CVD (APCVD)、低压 CVD (LPCVD)、超高真空 CVD、气溶胶支持的 CVD、直接液体喷射 CVD、热壁 CVD、冷壁 CVD、微波等离子体 CVD、等离子体增强 CVD (PECVD)、远程等离子体增强 CVD、低能量等离子体增强 CVD、原子层 CVD、燃烧 CVD 和热丝 CVD。这些方法的化学反应触发机制和操作条件各不相同。

使用 CVD 金刚石设备有哪些优势?

与其他金刚石生产方法相比,CVD 金刚石设备具有多项优势。首先,它们可以制造出高质量、近乎无瑕的钻石,并能精确控制钻石的形状、大小和净度。通过在沉积过程中引入适当的掺杂气体,这些设备还能生产出具有特定属性(如颜色或导电性)的钻石。此外,CVD 金刚石设备与传统的钻石开采相比更加环保,因为它们最大限度地减少了与钻石开采相关的社会和环境影响。

使用化学气相沉积设备有哪些优势?

化学气相沉积机在薄膜沉积方面具有多种优势。它们可以精确控制薄膜的特性,如厚度、成分和均匀性。化学气相沉积法可以在大面积和复杂形状上沉积薄膜,因此适用于广泛的应用领域。该技术可沉积多种材料,包括金属、半导体、陶瓷和有机化合物。CVD 薄膜与基底表面具有极佳的附着力、纯度和保形性。此外,化学气相沉积设备可在相对较低的温度下运行,从而减少基底上的热应力,并实现对温度敏感材料的沉积。

选择 CVD 金刚石设备时应考虑哪些因素?

在选择 CVD 金刚石设备时,应考虑几个因素。首先,机器的尺寸和容量应符合预期的生产要求。沉积室的大小应能满足所需的基底尺寸,并具有可扩展性。还应评估机器的控制和自动化能力,以确保易于操作和可重复性。此外,还应评估机器的加热和活化方法,以确保金刚石生长的效率和均匀性。同样重要的是要考虑是否有技术支持、维护服务以及总体拥有成本。咨询该领域的制造商和专家有助于选择最适合特定生产需求的 CVD 金刚石设备。

化学气相沉积设备有哪些应用?

化学气相沉积设备可应用于各个行业和研究领域。在半导体行业,化学气相沉积用于沉积集成电路薄膜,如二氧化硅和氮化硅。化学气相沉积还用于生产薄膜太阳能电池,沉积碲化镉或铜铟镓硒等材料。其他应用包括沉积保护涂层,如类金刚石碳膜、耐磨涂层和抗反射涂层。化学气相沉积还可用于生产光学镀膜,如用于镜子、滤波器和波导的薄膜。

CVD 金刚石设备生产的金刚石有哪些常见应用?

CVD 金刚石设备生产的钻石应用广泛。它们通常用于珠宝首饰,因为它们具有与天然钻石相同的美观和耐用性。CVD 金刚石因其卓越的硬度和导热性,在工业应用中也具有很高的价值,如切削工具、磨料和散热器。在电子工业中,它们被用于高性能电子设备,如大功率晶体管和辐射探测器。CVD 金刚石还被应用于医疗领域,包括外科手术工具、光学元件,以及因其生物相容性而被用作植入物的涂层。

选择化学气相沉积设备时应考虑哪些因素?

选择化学气相沉积设备时应考虑几个因素。所需的薄膜特性,如成分、厚度和均匀性,应与机器的能力相匹配。沉积室的大小应符合所需的基底尺寸和形状。设备的温度和压力范围应符合特定的沉积要求。同样重要的是要考虑所需材料沉积的前驱气体的可用性和兼容性。其他考虑因素包括操作简便性、维护要求以及自动化程度或控制能力。此外,咨询专家或制造商可为选择最适合特定应用的 CVD 机器提供宝贵的指导。

化学气相沉积机能否用于多层薄膜沉积?

是的,化学气相沉积设备可用于多层薄膜沉积。通过控制沉积参数和依次引入不同的前驱气体,可以在基底上沉积多层不同的材料。这样就能制造出具有定制特性和功能的复杂薄膜结构。可以精确控制每层的沉积顺序、温度、压力和气体流速,以获得所需的薄膜成分和厚度。多层薄膜可应用于微电子学、光电子学和表面工程等多个领域,其中不同的层具有特定的功能或增强了材料系统的整体性能。
查看更多该产品的问题与解答

4.8

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5

The HFCVD Equipment is a game-changer in diamond coating technology. It's efficient, precise, and delivers superior results. Highly recommended!

Munetaka Takeda

4.9

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5

I'm thoroughly impressed with the quality and performance of the HFCVD Equipment. It has significantly improved our diamond coating process, resulting in exceptional results. A must-have for any lab!

Dr. Carla Rodriguez

4.7

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The HFCVD Equipment has exceeded my expectations. It's user-friendly, reliable, and produces high-quality diamond coatings consistently. A valuable addition to our laboratory.

Eng. Valentina Ivanova

4.9

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5

The HFCVD Equipment is a technological marvel. It has revolutionized our diamond coating research, enabling us to achieve remarkable results. Highly recommended for advanced materials research.

Prof. Olivier Dubois

4.8

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5

The HFCVD Equipment has transformed our laboratory's capabilities. It delivers exceptional diamond coatings with remarkable precision and efficiency. A valuable investment for any research institution.

Dr. Maria Fernandez

4.7

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5

I'm highly satisfied with the HFCVD Equipment. It has significantly improved our diamond coating process, resulting in enhanced product quality and reduced production time. Highly recommended!

Eng. Carlos Oliveira

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5

The HFCVD Equipment is a testament to cutting-edge technology. It has enabled us to achieve unprecedented results in diamond coating, opening up new possibilities for research and innovation.

Prof. Ahmed Hassan

4.8

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5

The HFCVD Equipment has proven to be an invaluable asset to our laboratory. It delivers consistent, high-quality diamond coatings, making it an essential tool for our research.

Dr. Svetlana Petrova

4.7

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5

I'm thoroughly impressed with the HFCVD Equipment. It's user-friendly, efficient, and produces exceptional diamond coatings. A must-have for any laboratory involved in materials research.

Eng. Juan Garcia

4.9

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5

The HFCVD Equipment is a remarkable piece of technology. It has enabled us to achieve breakthrough results in diamond coating, pushing the boundaries of materials science.

Prof. Li Wei

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