溅射产率是影响溅射沉积工艺效率的关键因素。它指的是每个入射离子从目标材料中射出的原子数。
提高溅射产率的 5 个关键策略
1.靶材
靶材的选择会极大地影响溅射产率。结合能较低的材料更有可能在离子轰击时产生更多原子。因此，选择更易受溅射影响的靶材可以提高产量。
2.轰击粒子的质量
溅射产率通常随入射离子的质量增加而增加。较重的离子具有较大的动量，使其在碰撞时能将更多的能量转移到目标原子上。这就导致了更高的靶原子弹射概率。因此，使用较重的离子轰击可以提高溅射产率。
3.轰击粒子的能量
入射离子的能量也起着至关重要的作用。在溅射的典型能量范围（10 到 5000 eV）内，提高离子的能量可增加溅射产率。能量较高的离子可以更深地穿透目标材料，与更多的原子相互作用，导致更多的原子被射出。
4.磁控溅射
磁控溅射涉及使用磁铁来增加靶材附近等离子体的电离。这使得可用于轰击的离子数量增加，从而提高了溅射率，进而提高了产量。磁控溅射还可以在较低的压力下进行，从而提高涂层的纯度。
5.反应溅射
通过在溅射过程中引入反应气体，可以从简单的金属靶上沉积复杂的化合物。这还可以提高溅射工艺的整体效率和产量。
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