知识 样品托架适用的样品尺寸是多少?确保您的实验室样品完美契合
作者头像

技术团队 · Kintek Solution

更新于 3 周前

样品托架适用的样品尺寸是多少?确保您的实验室样品完美契合


样品托架可容纳直径大于或等于20毫米的圆形样品和边长大于或等于15毫米的方形样品。为达到最佳性能,样品厚度应保持在1毫米到3毫米之间。任何样品的有效反应区域是标准化的1平方厘米。

除了物理尺寸之外,托架的真正用途取决于其操作限制。遵守其特定的温度、压力和操作约束对于实验的准确性和设备的长期使用寿命都至关重要。

所需样品尺寸

为确保紧密贴合和正常功能,您的样品必须符合一组最小尺寸和特定的厚度范围。

圆形样品

圆形样品的最小可接受直径为20毫米。任何更小的尺寸都无法被托架充分固定。

方形样品

对于方形样品,所需的最小边长为15毫米

推荐厚度

理想的样品厚度在1毫米到3毫米之间。这个范围确保了在托架组件内有适当的接触和稳定性。

反应区域的重要性

无论样品整体尺寸如何,有效相互作用的面积固定为一平方厘米(1 cm²)。您的关注材料完全覆盖这个指定区域至关重要。

样品托架适用的样品尺寸是多少?确保您的实验室样品完美契合

了解操作限制

此样品托架是一种精密工具,专为特定的实验条件而设计。超出这些范围操作可能会导致结果不准确或损坏设备。

设计用于室温使用

该托架明确设计用于室温下使用。高温可能会改变其物理结构,进而影响其导电性和化学稳定性。

不适用于高压条件

同样,托架不应在高压环境中使用。其结构未额定承受此类条件。

正确的操作程序

务必遵循实验的标准操作程序。避免施加过大的力或造成碰撞,因为这可能会损坏样品和托架。

关于真空室的注意事项

在真空室中使用托架时,必须缓慢将其放入室内。快速移动可能会产生气流,从而使样品从其位置移开。

关键存储和维护指南

正确的存储不是可选项;它是长期保持托架完整性和性能的基础。

环境条件

将托架存放在干燥、通风且完全没有腐蚀性气体的环境中。避免高湿度或极端温度的场所。

防止物理损坏

只要有可能,请将托架与尖锐或重物分开存放。这可以防止意外碰撞、挤压或刮擦造成的损坏。

如何确保可靠和安全的使用的

您的主要关注点决定了您应如何优先考虑这些指南。

  • 如果您的首要重点是确保正确贴合: 验证您的样品是否满足最小的20毫米直径或15毫米边长,并且厚度在1-3毫米范围内。
  • 如果您的首要重点是最大限度地延长托架寿命: 严格遵守室温操作限制和干燥、通风的存储要求。
  • 如果您的首要重点是获得准确的结果: 确认您的样品完全覆盖1平方厘米的反应区域,并且您在托架的环境限制内操作。

遵循这些规格可确保您的设备可靠运行并提供有效、可重复的结果。

摘要表:

样品类型 最小尺寸 推荐厚度 有效反应区域
圆形 20毫米直径 1毫米 - 3毫米 1 cm²
方形 15毫米边长 1毫米 - 3毫米 1 cm²

使用正确的设备确保精确可靠的结果。

KINTEK 专注于高质量的实验室设备和耗材,包括专为精度和耐用性而设计的精密样品托架。无论您处理的是圆形样品还是方形样品,我们的产品都能帮助您保持实验完整性并获得可重复的结果。

让我们支持您的实验室取得成功。 立即联系我们的专家,找到最适合您特定需求的样品托架,并了解我们全系列可靠实验室解决方案的更多信息。

图解指南

样品托架适用的样品尺寸是多少?确保您的实验室样品完美契合 图解指南

相关产品

大家还在问

相关产品

适用于各种研究应用的定制化XRD样品台

适用于各种研究应用的定制化XRD样品台

高透光率、零杂质峰的XRD样品台。提供方形和圆形设计,并可定制以匹配Bruker、Shimadzu、PANalytical和Rigaku衍射仪。

实验室和半导体加工用定制PTFE晶圆夹具

实验室和半导体加工用定制PTFE晶圆夹具

这是一款高纯度、定制加工的PTFE(特氟龙)夹具, expertly designed for the secure handling and processing of delicate substrates like conductive glass, wafers, and optical components.(专为安全处理和加工导电玻璃、晶圆和光学元件等精密基板而设计。)

分体式真空站化学气相沉积系统设备管式炉

分体式真空站化学气相沉积系统设备管式炉

高效分体式真空站CVD炉,便于样品检查和快速冷却。最高温度1200℃,配备精确的MFC质量流量计控制。

1200℃ 分体管式炉 石英管实验室管式炉

1200℃ 分体管式炉 石英管实验室管式炉

KT-TF12 分体管式炉:高纯度隔热,嵌入式加热丝线圈,最高温度 1200°C。广泛用于新材料和化学气相沉积。

小型真空热处理及钨丝烧结炉

小型真空热处理及钨丝烧结炉

小型真空钨丝烧结炉是一款专为高校和科研院所设计的紧凑型实验真空炉。该炉采用CNC焊接炉壳和真空管道,确保无泄漏运行。快速连接的电气接口便于搬迁和调试,标配的电控柜操作安全便捷。

实验室真空倾斜旋转管式炉 旋转管式炉

实验室真空倾斜旋转管式炉 旋转管式炉

探索实验室旋转炉的多功能性:非常适合煅烧、干燥、烧结和高温反应。可调节的旋转和倾斜功能,实现最佳加热效果。适用于真空和可控气氛环境。立即了解更多!

高压实验室真空管式炉 石英管式炉

高压实验室真空管式炉 石英管式炉

KT-PTF 高压管式炉:紧凑型分体式管式炉,耐正压能力强。工作温度高达 1100°C,压力高达 15Mpa。也可在保护气氛或高真空下工作。

石墨真空炉IGBT实验石墨化炉

石墨真空炉IGBT实验石墨化炉

IGBT实验石墨化炉,为高校和科研机构量身定制的解决方案,具有高加热效率、用户友好性和精确的温度控制。

1400℃ 实验室氧化铝管高温管式炉

1400℃ 实验室氧化铝管高温管式炉

正在寻找用于高温应用的管式炉?我们的带氧化铝管的 1400℃ 管式炉非常适合研究和工业用途。

真空牙科瓷粉烧结炉

真空牙科瓷粉烧结炉

使用 KinTek 真空瓷粉炉获得精确可靠的结果。适用于所有瓷粉,具有双曲线陶瓷炉功能、语音提示和自动温度校准。

1700℃ 实验室马弗炉

1700℃ 实验室马弗炉

使用我们的 1700℃ 马弗炉获得卓越的温控效果。配备智能温度微处理器、TFT 触摸屏控制器和先进的隔热材料,可精确加热至 1700°C。立即订购!

真空钼丝烧结炉

真空钼丝烧结炉

真空钼丝烧结炉为立式或箱式结构,适用于高真空、高温条件下金属材料的拉伸、钎焊、烧结和脱气。也适用于石英材料的脱羟处理。

真空热压炉 加热真空压机 管式炉

真空热压炉 加热真空压机 管式炉

真空管式热压炉可降低成型压力并缩短烧结时间,适用于高密度、细晶粒材料。是难熔金属的理想选择。

实验室马弗炉 升降底座马弗炉

实验室马弗炉 升降底座马弗炉

使用我们的升降底座马弗炉,高效生产具有优异温度均匀性的批次。具有两个电动升降台和高达 1600℃ 的先进温度控制。

用于层压和加热的真空热压炉

用于层压和加热的真空热压炉

使用真空层压机体验清洁精确的层压。非常适合晶圆键合、薄膜转换和 LCP 层压。立即订购!

600T 真空感应热压炉,用于热处理和烧结

600T 真空感应热压炉,用于热处理和烧结

了解 600T 真空感应热压炉,专为真空或保护气氛中的高温烧结实验而设计。其精确的温度和压力控制、可调节的工作压力以及先进的安全功能使其成为非金属材料、碳复合材料、陶瓷和金属粉末的理想选择。

1800℃ 实验室马弗炉

1800℃ 实验室马弗炉

KT-18 马弗炉采用日本AL2O3多晶纤维和硅钼棒加热元件,最高温度可达1900℃,配备PID温控和7英寸智能触摸屏。结构紧凑,热损失低,能效高。具备安全联锁系统和多种功能。

1400℃ 实验室马弗炉

1400℃ 实验室马弗炉

KT-14M 马弗炉可精确控制高达 1500℃ 的高温。配备智能触摸屏控制器和先进的隔热材料。

带9MPa气压的真空热处理和烧结炉

带9MPa气压的真空热处理和烧结炉

气压烧结炉是用于烧结先进陶瓷材料的高科技设备。它结合了真空烧结和压力烧结技术,以实现高密度、高强度的陶瓷。


留下您的留言