知识 溅射有哪些类型?(解释 4 种主要方法)
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技术团队 · Kintek Solution

更新于 2个月前

溅射有哪些类型?(解释 4 种主要方法)

溅射是各行各业的关键工艺,尤其是在制造薄膜方面。

在实践中使用的溅射系统有多种类型,每种类型都有自己独特的特点和应用。

溅射有哪些类型?(4 种主要方法详解)

溅射有哪些类型?(解释 4 种主要方法)

1.直流二极管溅射

直流二极管溅射使用 500-1000 V 之间的直流电压点燃靶材和基材之间的氩气低压等离子体。

正氩离子将原子从靶材中析出,然后迁移到基片上并凝结成薄膜。

不过,这种方法仅限于电导体,溅射率较低。

2.射频二极管溅射

射频二极管溅射利用射频功率电离气体并产生等离子体。

这种方法的溅射率较高,可用于导电和绝缘材料。

3.磁控二极管溅射

在磁控管二极管溅射中,使用磁控管来提高溅射效率。

磁场会在靶材表面附近捕获电子,从而提高电离率和沉积率。

4.离子束溅射

离子束溅射是利用离子束从目标材料中溅射出原子。

这种技术可精确控制离子能量和入射角度,非常适合要求高精度和高均匀性的应用。

值得注意的是,溅射可用于多种材料,包括金属、陶瓷和其他材料。

溅射涂层可以是单层或多层的,可以由银、金、铜、钢、金属氧化物或氮化物等材料组成。

溅射工艺也有不同的形式,如反应溅射、高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)和离子辅助溅射,每种工艺都有自己独特的特点和应用。

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