溅射产率取决于几个关键因素：入射离子的能量、离子和靶原子的质量以及原子在固体中的结合能。这些因素会影响原子在溅射过程中从靶材料中喷射出来的效率。
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入射离子的能量:离子撞击靶材的能量至关重要。在 10 至 5000 eV 范围内，入射离子的能量越高，溅射产率越高。这是因为能量较高的离子有更多的动能传递给靶原子，从而促进它们从表面射出。
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离子和靶原子的质量:入射离子的质量和靶原子的质量也起着重要作用。一般来说，溅射产率会随着轰击粒子质量的增加而增加。这是由于较重离子向靶原子的动量传递增加，从而提高了抛射概率。同样，靶原子的质量也会影响它们被置换的难易程度；较轻的靶原子通常更容易被溅射。
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固体中原子的结合能:固体靶材料中原子的结合能决定了它们被固定的强度。较高的结合能需要更多的能量来移开原子，从而影响溅射产量。结合能较低的材料更容易溅射，因为入射离子需要较少的能量来克服原子结合。
在实际溅射应用中，这些因素可通过各种技术进行调节，如调整等离子体特性（如离子密度）、使用射频功率、应用磁场和设置偏置电压。这些调整有助于优化溅射条件，以实现理想的沉积速率和材料特性。
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