知识 溅射产额取决于什么?掌握物理学以实现最佳薄膜沉积
作者头像

技术团队 · Kintek Solution

更新于 1 天前

溅射产额取决于什么?掌握物理学以实现最佳薄膜沉积

从本质上讲,溅射产额是衡量工艺效率的指标。 它是每当一个离子撞击靶材表面时,从靶材中溅射出的原子的平均数量。这个产额不是一个固定值;它由碰撞的基本物理学决定,主要取决于入射离子的能量和质量、靶原子质量和表面结合能,以及入射角。

溅射从根本上说是一场动量传递的游戏。理解溅射产额的关键在于将其视为一个单一事件的结果:靶材表面附近的碰撞级联。你控制产额的能力完全取决于你如何操纵控制能量传递效率的因素。

碰撞级联的物理学

当入射离子以足够的能量撞击靶材并引发原子碰撞的连锁反应时,就会发生溅射。这个“碰撞级联”会向上传播到表面,如果表面的原子获得了足够的能量来克服其键合力,它就会被溅射出来。溅射产额量化了这个过程的成功程度。

离子能量的作用:找到最佳点

为了溅射出靶原子,入射离子必须首先克服材料的表面结合能。这需要一个最小的动能,通常在 30 到 50 电子伏特 (eV) 之间。

低于这个阈值,离子缺乏引发有效级联的能量,因此不会发生溅射。

高于阈值,溅射产额随离子能量显著增加。更高的能量意味着更剧烈和更广泛的碰撞级联,增加了溅射出表面原子的概率。

然而,这种趋势不会无限期地持续下去。在非常高的能量下(通常高于几千 eV),入射离子会穿透靶材太深。碰撞级联的能量沉积在表面之下很深的地方,使得表面原子被溅射出来的可能性降低。这导致溅射产额趋于平稳甚至下降。

动量传递:匹配离子和靶材质量

任何碰撞的效率都取决于碰撞物体的质量。在原子尺度上也是如此。离子质量与靶原子质量之比是确定动量传递多少的关键因素。

当质量近似相等时,能量传递效率最高。这就是为什么氩气(原子质量约 40 amu)对于许多中等重量的金属,如铝(~27 amu)或钛(~48 amu),是一种常见且有效的溅射气体。

对于更重的靶原子,使用更重的溅射气体,如氪气(~84 amu)或氙气(~131 amu),将导致更有效的动量传递和明显更高的溅射产额。

靶材的阻力:表面结合能

表面结合能是将原子束缚在靶材表面的能量。它是靶材本身的固有属性。

表面结合能较低的材料更容易被溅射。它们的原子从表面被溅射出来所需的能量更少,这在相同条件下直接转化为更高的溅射产额。例如,锌和银等金属的结合能低于钨,溅射产额更高。

几何和结构影响

除了碰撞的核心物理学之外,相互作用的几何形状也起着重要作用。

入射角

溅射通常在轻微倾斜的入射角下效率最高,而不是直接的 90 度撞击。

当离子以一定角度撞击表面时,碰撞级联会集中在更靠近表面的位置。这增加了被撞击的原子被溅射出去而不是仅仅被推到靶材深处的可能性。

然而,在非常浅(掠射)角度下,离子更容易直接从表面反弹,这再次降低了溅射产额。

晶体与非晶靶材

对于具有晶体结构的靶材,晶体轴线相对于离子束的方向很重要。

如果离子沿着晶格的开放“通道”撞击,它们可以在很少的碰撞下深入材料内部。这种被称为沟道效应(channeling)的现象会显著减少表面碰撞次数,从而降低溅射产额。

理解权衡

优化以获得尽可能高的产额并不总是最佳策略。你的选择涉及实际和经济上的权衡。

高能量并非总是更好

为了提高产额而将离子能量推向最大可能会产生负面后果。极高能量的离子可能会嵌入靶材或生长的薄膜中(离子注入),这可能会引入杂质和应力。它还需要更多的功率,并可能导致靶材过度发热。

气体质量的困境

虽然氪和氙等较重的惰性气体能提供更高的溅射产额,但它们的成本也远高于氩气。对于大多数工业应用,氩气在性能和成本效益之间提供了最佳平衡,使其成为行业主力。

间接工艺参数

诸如气体压力磁场强度(在磁控溅射中)等因素不会直接设定溅射产额。相反,它们是用于影响主要因素的控制旋钮。例如,增加气体压力会因更多的气相碰撞而降低平均离子能量,从而可能降低产额。

根据您的目标做出正确的选择

您控制溅射产额的方法应由您的最终目标决定,无论是速度、成本还是薄膜质量。

  • 如果您的主要重点是最大化沉积速率: 使用较重的溅射气体(如果成本允许),在产额曲线趋于平稳之前的最佳能量下运行,并使用略微偏离法线的入射角。
  • 如果您的主要重点是工艺稳定性和成本效益: 使用氩气,因为它为各种常见的靶材提供了一种稳健且经济的解决方案。
  • 如果您正在溅射单晶靶材: 请注意靶材相对于离子源的方向,因为沟道效应可能导致您的溅射速率出现意外下降。

最终,掌握溅射产额就是控制原子尺度的能量传递,以实现您的特定材料目标。

摘要表:

因素 对溅射产额的影响 关键见解
离子能量 增加至平稳,然后下降 最佳能量通常在 keV 范围内。
离子/靶材质量比 质量相近时最大化 氩气是中等重量金属的理想选择;对于较重的靶材使用 Kr 或 Xe。
表面结合能 能量越高 = 产额越低 银等材料比钨更容易溅射。
入射角 在倾斜角度(~60°)下最高 掠射或直接 (90°) 撞击会降低效率。
晶体结构 沿晶体通道的产额较低 非晶材料提供更一致的产额。

准备优化您的溅射工艺?

了解溅射产额是实现精确、高质量薄膜的第一步。KINTEK 专注于提供您掌握沉积参数所需的实验室设备和专家支持。

无论您是专注于使用重气体最大化沉积速率,还是使用氩气确保成本效益高、稳定的工艺,我们的一系列溅射系统和耗材都旨在满足您的特定实验室要求。

让我们讨论您的应用。 立即联系我们的专家,探讨我们的解决方案如何增强您的研发成果。

相关产品

大家还在问

相关产品

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

RF-PECVD 是 "射频等离子体增强化学气相沉积 "的缩写。它能在锗和硅基底上沉积 DLC(类金刚石碳膜)。其波长范围为 3-12um 红外线。

带液体气化器的滑动 PECVD 管式炉 PECVD 设备

带液体气化器的滑动 PECVD 管式炉 PECVD 设备

KT-PE12 滑动 PECVD 系统:功率范围广、可编程温度控制、滑动系统快速加热/冷却、MFC 质量流量控制和真空泵。

带真空站 CVD 机的分室 CVD 管式炉

带真空站 CVD 机的分室 CVD 管式炉

带真空站的高效分室 CVD 炉,可直观检查样品并快速冷却。最高温度可达 1200℃,采用精确的 MFC 质量流量计控制。

电子束蒸发涂层导电氮化硼坩埚(BN 坩埚)

电子束蒸发涂层导电氮化硼坩埚(BN 坩埚)

用于电子束蒸发涂层的高纯度、光滑的导电氮化硼坩埚,具有高温和热循环性能。

牙科真空压制炉

牙科真空压制炉

利用牙科真空压力炉获得精确的牙科效果。自动温度校准、低噪音托盘和触摸屏操作。立即订购!

超高温石墨化炉

超高温石墨化炉

超高温石墨化炉利用真空或惰性气体环境中的中频感应加热。感应线圈产生交变磁场,在石墨坩埚中产生涡流,从而加热并向工件辐射热量,使其达到所需的温度。这种炉主要用于碳材料、碳纤维材料和其他复合材料的石墨化和烧结。

连续石墨化炉

连续石墨化炉

高温石墨化炉是碳材料石墨化处理的专业设备。它是生产优质石墨产品的关键设备。它具有温度高、效率高、加热均匀等特点。适用于各种高温处理和石墨化处理。广泛应用于冶金、电子、航空航天等行业。

实验室和工业用循环水真空泵

实验室和工业用循环水真空泵

实验室用高效循环水真空泵 - 无油、耐腐蚀、运行安静。多种型号可选。立即购买!

实验室和工业用无油隔膜真空泵

实验室和工业用无油隔膜真空泵

实验室用无油隔膜真空泵:清洁、可靠、耐化学腐蚀。是过滤、SPE 和旋转蒸发的理想选择。免维护操作。

实验室级真空感应熔炼炉

实验室级真空感应熔炼炉

利用我们的真空感应熔炼炉获得精确的合金成分。是航空航天、核能和电子工业的理想之选。立即订购,有效熔炼和铸造金属与合金。

非消耗性真空电弧炉 感应熔化炉

非消耗性真空电弧炉 感应熔化炉

了解采用高熔点电极的非消耗性真空电弧炉的优点。体积小、易操作、环保。是难熔金属和碳化物实验室研究的理想之选。

带陶瓷纤维内衬的真空炉

带陶瓷纤维内衬的真空炉

真空炉采用多晶陶瓷纤维隔热内衬,具有出色的隔热性能和均匀的温度场。有 1200℃ 或 1700℃ 两种最高工作温度可供选择,具有高真空性能和精确的温度控制。

钼 真空炉

钼 真空炉

了解带隔热罩的高配置钼真空炉的优势。非常适合蓝宝石晶体生长和热处理等高纯度真空环境。

真空钼丝烧结炉

真空钼丝烧结炉

真空钼丝烧结炉为立式或卧式结构,适用于在高真空和高温条件下对金属材料进行退火、钎焊、烧结和脱气处理。它也适用于石英材料的脱羟处理。

600T 真空感应热压炉

600T 真空感应热压炉

了解 600T 真空感应热压炉,该炉专为在真空或保护气氛中进行高温烧结实验而设计。其精确的温度和压力控制、可调节的工作压力以及先进的安全功能使其成为非金属材料、碳复合材料、陶瓷和金属粉末的理想之选。

真空牙科烤瓷烧结炉

真空牙科烤瓷烧结炉

使用 KinTek 真空陶瓷炉可获得精确可靠的结果。它适用于所有瓷粉,具有双曲陶瓷炉功能、语音提示和自动温度校准功能。

小型真空钨丝烧结炉

小型真空钨丝烧结炉

小型真空钨丝烧结炉是专为大学和科研机构设计的紧凑型实验真空炉。该炉采用数控焊接外壳和真空管路,可确保无泄漏运行。快速连接的电气接头便于搬迁和调试,标准电气控制柜操作安全方便。

9MPa 空气压力烧结炉

9MPa 空气压力烧结炉

气压烧结炉是一种常用于先进陶瓷材料烧结的高科技设备。它结合了真空烧结和压力烧结技术,可实现高密度和高强度陶瓷。

1200℃ 可控气氛炉

1200℃ 可控气氛炉

了解我们的 KT-12A Pro 可控气氛炉 - 高精度、重型真空室、多功能智能触摸屏控制器和高达 1200C 的出色温度均匀性。是实验室和工业应用的理想之选。

1400℃ 可控气氛炉

1400℃ 可控气氛炉

使用 KT-14A 可控气氛炉实现精确热处理。它采用真空密封,配有智能控制器,是实验室和工业应用的理想之选,最高温度可达 1400℃。


留下您的留言