氩气被广泛应用于溅射工艺有几个原因。
氩气成为溅射工艺首选气体的 4 个主要原因
1.溅射速率高
氩是一种原子量很高的惰性气体。
这使其成为轰击目标材料的最佳离子源。
带正电荷的氩离子被高速吸引到带负电荷的靶材上。
这导致溅射率高，沉积速度更快。
2.惰性
氩具有化学惰性。
这意味着它不会与大多数材料发生反应。
氩气的惰性可确保溅射粒子不受污染或改变。
这样就能保持薄膜的理想特性。
3.低廉的价格和可用性
与氪和氙等其他惰性气体相比，氩气的价格相对较低。
氩气来源广泛，纯度高。
因此，对于成本效益非常重要的工业应用来说，氩气是一种实用的选择。
4.其他考虑因素
在溅射中使用氩气可以使工艺在各种方向上运行。
它还可用于复杂形状的涂层。
由于不需要熔化源材料，该工艺可以适应不同的配置。
这就增强了其通用性。
此外，氩气能使镀层更致密，材料散射更少。
这就提高了沉积薄膜的整体质量。
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