氩气常用于溅射工艺，主要是因为它具有溅射率高、惰性、成本低和纯度高等特点。这些特性使其成为各种工业应用中形成薄膜和涂层的理想选择。
溅射率高： 氩气是一种原子量相对较高的惰性气体，为有效轰击目标材料提供了合适的离子源。带正电荷的氩离子被高速吸引到带负电荷的靶材上，从而产生高速溅射。这种从靶材表面高效清除材料的方式可加快沉积速度，从而使整个过程更加省时高效。
惰性： 氩具有化学惰性，这意味着它不会与大多数材料发生反应。这在溅射工艺中至关重要，因为溅射工艺对靶材和沉积薄膜的完整性要求极高。氩气的惰性可确保溅射颗粒不受溅射气体的污染或改变，从而保持薄膜的理想特性。
低廉的价格和可用性： 与氪和氙等其他惰性气体相比，氩气的价格相对较低。氩气的广泛供应和低廉的成本使其成为工业应用的实用选择，因为在工业应用中，成本效益是一个重要的考虑因素。氩气的高纯度也有助于生产高质量薄膜，而不会有杂质影响薄膜性能的风险。
其他考虑因素： 在溅射过程中使用氩气还有利于在各种方向上进行工艺操作，并可对复杂形状进行镀膜。由于不需要熔化源材料，该工艺可以适应不同的配置，从而提高了其通用性。此外，使用氩气可使镀层更致密，材料散射更少，从而提高沉积薄膜的整体质量。
总之，氩气集高溅射率、惰性、经济性和可用性于一身，是各行各业溅射工艺的首选，可确保高效、高质量的薄膜沉积。
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