实验室材料
高纯度铒(Er)溅射靶材/粉/丝/块/粒
货号 : LM-ER
价格根据 规格和定制情况变动
- 化学式
- Er
- 纯度
- 3N
- 形状
- 圆盘/金属丝/块/粉末/板/柱靶/阶梯靶/定制
运输:
联系我们 获取运输详情 享受 准时发货保证.
我们以合理的价格提供实验室用铒 (Er) 材料。我们的专长在于生产和定制不同纯度、形状和尺寸的铒 (Er) 材料,以满足您的特定需求。
我们提供各种规格和尺寸的溅射靶材(圆形、方形、管状、不规则形)、涂层材料、圆柱、圆锥、颗粒、箔、粉末、3D 打印粉末、纳米粉末、线棒、锭、块等。
详细信息
关于铒(Er)
铒是一种多功能材料,在材料科学领域应用广泛。这种稀土元素常用于玻璃着色,可以中和褪色杂质,因此可用于眼镜和装饰玻璃器皿。铒也是光纤中的一种重要成分,可用作波长为 1.55 微米的数据传输放大器。此外,铒还可用于医疗和牙科手术的激光器中。
基于 Er:YAG 的激光器能够提供能量而不会在组织中产生热积聚,因此非常适合外科手术应用。铒有多种形式,包括高纯度(99.999%)铒(Er)溅射靶材、高纯度(99.999%)氧化铒(Er2O3)粉末以及元素或金属形式,如颗粒、棒材、线材和粒料。氧化铒通常用于光学镀膜和薄膜应用,而氟化铒则可用于冶金、化学和物理气相沉积以及某些光学镀膜。铒也有可溶形式,包括氯化物、硝酸盐和醋酸盐,可按指定的化学计量生产成溶液。
成分质量控制
- 原材料成分分析
- 通过使用ICP和 GDMS,对金属杂质含量进行检测分析,确保符合纯度标准;
非金属杂质通过碳硫分析仪、氮氧分析仪等设备检测。 - 金相探伤分析
- 使用探伤设备对靶材进行检验,确保产品内部无缺陷、缩孔;
通过金相检测,分析靶材内部晶粒组织,确保晶粒细小、致密。 - 外观尺寸检查
- 产品尺寸采用千分尺、精密卡尺测量,确保符合图纸;
使用表面清洁度计测量产品的表面光洁度和清洁度。
传统溅射靶材尺寸
- 准备过程
- 热等静压 压制、真空熔炼等
- 溅射靶材形状
- 平面溅射 靶材、多弧溅射靶材、阶梯溅射靶材、异型 溅射靶材
- 圆形溅射靶材尺寸
- 直径:25.4mm / 50毫米/50.8毫米/60毫米/76.2毫米/80毫米/100毫米/101.6毫米/152.4毫米
厚度: 3mm / 4mm / 5mm / 6mm / 6.35mm
尺寸可定制。 - 方形溅射靶材尺寸
- 50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm,尺寸可定制
可用的金属形式
金属形式细节
我们生产元素周期表中列出的几乎所有金属,范围广泛形式和纯度,以及标准尺寸和尺寸。 我们还可以生产定制产品以满足客户的特定要求,例如尺寸、形状、表面积、成分等。 以下列表提供了表格示例我们提供,但并不详尽。 如果您需要实验室耗材,请联系我们直接索取报价。
- 平面/平面形式:板、薄膜、箔、微箔、微叶、纸、板、带、片材、带材、胶带、晶圆
- 预成型形状:阳极、球、带、棒、船、螺栓、煤块、阴极、圆形、线圈、坩埚、晶体、立方体、杯子、圆柱体、圆盘、电极、纤维、细丝、法兰、网格、透镜、心轴、螺母、零件、棱镜、圆盘、环、棒、形状、护罩、套筒、弹簧、方形、溅射靶、棒、管子、垫圈、窗户、电线
- 微型尺寸:珠子、小块、胶囊、碎片、硬币、灰尘、薄片、谷物、颗粒、微粉、针、颗粒、卵石、颗粒、针、丸、粉末、刨花、弹丸、子弹、球体、药片
- 宏观尺寸:钢坯、大块、切屑、碎片、锭、块、金块、碎片、 冲孔、岩石、废料、段、车削
- 多孔和半多孔:织物、泡沫、纱布、蜂窝、网、海绵、羊毛
- 纳米级:纳米粒子、纳米粉末、纳米箔、纳米管、纳米棒、纳米棱柱
- 其他:浓缩物、墨水、糊状物、沉淀物、残留物、样品、标本
KinTek专注于高纯和超高纯材料的制造纯度范围为 99.999% (5N)、99.9999% (6N)、99.99995% (6N5),在某些情况下,高达 99.99999% (7N)。 我们的材料有特定等级可供选择,包括 UP/UHP、半导体、电子、沉积、光纤和 MBE 牌号。 我们的高纯度金属、氧化物和化合物经过专门设计,以满足严格的要求 高科技应用,非常适合用作掺杂剂和前体材料 用于薄膜沉积、半导体晶体生长以及合成 纳米材料。 这些材料可用于先进的微电子、太阳能电池、燃料 电池、光学材料和其他尖端应用。
包装
我们的高纯度材料采用真空包装,每种材料都有特定的包装 根据其独特的特点量身定制。 例如,我们的 Hf 溅射靶材带有外部标记 并贴上标签,以便于有效识别和质量控制。 我们非常小心 防止在储存或运输过程中可能发生的任何损坏。
4.9
out of
5
The Erbium sputtering target from KINTEK SOLUTION is a must-have for our laboratory. It's highly pure and produces consistent, high-quality thin films. We've seen a significant improvement in our research output since using it.
4.8
out of
5
As a lab manager, I'm always looking for ways to improve our efficiency and accuracy. KINTEK SOLUTION's Erbium sputtering target has been a game-changer for us. It's incredibly precise and has helped us reduce our production time significantly.
4.7
out of
5
The quality and purity of KINTEK SOLUTION's Erbium sputtering target are truly impressive. Our thin films have never looked better, and we've experienced a noticeable increase in their durability. Highly recommended!
4.8
out of
5
The Erbium sputtering target from KINTEK SOLUTION has exceeded our expectations. It's incredibly versatile and has allowed us to explore a wider range of applications in our research. A fantastic investment for any laboratory.
4.9
out of
5
KINTEK SOLUTION's Erbium sputtering target has revolutionized our thin film deposition process. Its exceptional purity and uniformity have resulted in remarkable improvements in the quality and performance of our devices. Highly satisfied!
4.7
out of
5
As a lab manager, I'm constantly seeking cost-effective solutions that don't compromise on quality. KINTEK SOLUTION's Erbium sputtering target fits the bill perfectly. It's not only affordable but also delivers exceptional results. Highly impressed!
4.8
out of
5
The Erbium sputtering target from KINTEK SOLUTION has been a valuable addition to our laboratory. Its high purity and consistent performance have enabled us to achieve remarkable precision and accuracy in our research. Highly recommended!
4.9
out of
5
KINTEK SOLUTION's Erbium sputtering target has been a lifesaver for our lab. Its exceptional quality and reliability have allowed us to streamline our research process and achieve groundbreaking results. A must-have for any laboratory striving for excellence.
4.7
out of
5
The Erbium sputtering target from KINTEK SOLUTION has been a game-changer for our thin film deposition experiments. Its superior purity and uniformity have resulted in remarkably improved film quality and enhanced device performance. Highly satisfied!
4.8
out of
5
KINTEK SOLUTION's Erbium sputtering target has been a revelation for our laboratory. Its exceptional purity and consistent performance have enabled us to achieve unprecedented levels of precision and accuracy in our research. Highly recommended!
PDF - 高纯度铒(Er)溅射靶材/粉/丝/块/粒
disabled = false, 3000)"> 下载目录 实验室材料
disabled = false, 3000)"> 下载请求报价
我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系!