产品 样品制备 分析设备配件与耗材 用于惰性气氛和超净工艺气体的高纯实验室气体净化器
用于惰性气氛和超净工艺气体的高纯实验室气体净化器

分析设备配件与耗材

用于惰性气氛和超净工艺气体的高纯实验室气体净化器

货号 : KT-JH

价格根据 规格和定制情况变动


出口杂质水平
O2 ≤ 0.05 ppm, H2O ≤ 0.1 ppm
额定流量
10 – 100 L/min
工作气体压力
0.3 – 0.8 MPa
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产品概述

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这款高纯气体净化系统旨在消除惰性气体和工艺气体中的微量杂质,提供敏感实验室研究和中试生产所需的超净环境。通过采用先进的多级催化除氧和分子筛吸附柱,该设备可持续将水分 (H2O) 和氧气 (O2) 污染水平降低至 0.1 ppm(百万分比)以下。其稳固的设计为需要可靠、稳定且高性价比按需生成纯净气体的设施提供了出色的解决方案,无需依赖高昂的高纯瓶装特种气瓶。

该设备专为高要求的科研和生产环境设计,可与高温管式炉、气氛控制马弗炉、化学气相沉积 (CVD/PECVD) 反应器、手套箱保护系统以及增材制造系统无缝集成。目标领域包括半导体制造、锂离子电池研究、先进光电子学、精密冶金和催化剂表征实验室。在这些领域中,防止不必要的氧化、氮化或大气水分降解对实验可重复性和生产良率至关重要。

该系统注重持续运行的稳定性,集成了全自动双柱再生功能、工业级气动阀阵列和高精度监控仪表。重型不锈钢流体处理架构即使在高工作压力下也能确保密封完好。通过在不中断下游气体输送的情况下保持连续过滤和再生,该设备使研究人员和工艺工程师在长时间热处理和分析评估期间对长期气氛控制充满信心。

主要特点

  • Sub-PPM 级深度气体净化:采用催化脱氧技术和合成分子筛,实现同时脱氧和脱水,在连续运行周期内可靠地将氧气和水分含量降低至 0.1 ppm(<100 ppb)以下。
  • 连续双柱循环运行:配备双吸附柱,可配置为交替净化和再生模式,确保在漫长的高温热处理过程中下游连续不断地输送超纯气体。
  • 自动化热再生:配备集成式高效加热套和可编程微冲洗控制,无需拆卸或手动更换催化剂,即可自动对饱和吸附床进行完全再生。
  • 全金属超高真空 (UHV) 管路:采用电抛光 316L 不锈钢管、轨道焊接接头和金属垫片面密封接头 (VCR/卡套),确保氦气漏率低于 1×10⁻⁹ mbar·L/s。
  • 实时露点和氧含量监控:集成高精度电化学微量氧传感器和陶瓷露点变送器,直接在中央触摸屏显示器上对气体质量进行连续数字校验。
  • 智能 PLC 控制与直观人机界面 (HMI):采用工业可编程逻辑控制器并连接彩色人机界面,提供自动调压、一键启停程序、故障诊断和自动安全联锁。
  • 超压与流量安全联锁:设计有多级安全防护机制,包括自动气动切断阀、机械安全阀以及声光警报,以防止下游污染或系统超压。
  • 广泛的原料气兼容性:能够净化各种技术气体和载气,包括纯氩气、氮气、氦气和配比成型气(Forming gas),将标准工业级气瓶转换为研究级供气管线。

应用领域

应用领域 描述 核心优势
半导体与薄膜外延 在晶圆加工过程中,直接将超纯氩气或氮气载气输送到 CVD、PECVD 和 ALD 腔室中。 防止基底氧化,减少针孔缺陷,并确保精细原子层的薄膜高均匀性。
惰性气氛热处理 为加工活性合金的管式炉、真空气氛炉和牙科烧结设备净化保护气体流。 在高温运行期间消除钛、锆和难熔高温合金的表面氧化皮和脱碳现象。
锂电池及固态电池研发 调理手套箱、软包电池装配线和电解液配制工位内的保护气氛。 保护对水分敏感的金属锂负极和固态电解质化学物质免受破坏性的水分降解。
光纤与光伏制造 在预制棒拉制、硅锭铸造和晶圆钝化接触层沉积过程中净化工艺气氛。 防止石英玻璃中产生羟基 (OH) 吸收带,并保持高效太阳能电池中的载流子寿命。
增材制造与 3D 打印 在选择性激光熔化 (SLM) 和电子束熔化 (EBM) 成形腔内循环并精炼惰性保护气体。 保持极低的氧含量,防止活性金属打印中的飞溅、气孔和脆化。
分析仪器载气供应 为气相色谱质谱联用仪 (GC-MS)、直读光谱仪 (OES) 和热重分析仪 (TGA) 提供超稳定、无水分的载气流。 降低基线噪声,防止色谱柱流失,延长分析检测器寿命,并提高定量可重复性。
催化与纳米材料合成 在催化剂还原、煅烧和碳纳米管 (CNT) 高压合成过程中提供洁净的反应气氛。 消除由残留氧气和有机水分杂质引起的活性催化位点的竞争性中毒。

技术规格

规格参数 KT-JH-10 KT-JH-30 KT-JH-60 KT-JH-100
产品型号 KT-JH-10 KT-JH-30 KT-JH-60 KT-JH-100
适用净化气体 Ar, N2, He, Kr, Ne, H2 Ar, N2, He, Kr, Ne, H2 Ar, N2, He, Kr, Ne, H2 Ar, N2, He, Kr, Ne, H2
额定流量 10 L/min (0.6 m³/h) 30 L/min (1.8 m³/h) 60 L/min (3.6 m³/h) 100 L/min (6.0 m³/h)
原料气纯度要求 ≥ 99.99%(工业/技术级) ≥ 99.99%(工业/技术级) ≥ 99.99%(工业/技术级) ≥ 99.99%(工业/技术级)
出口杂质含量 (O2) ≤ 0.05 ppm (≤ 50 ppb) ≤ 0.05 ppm (≤ 50 ppb) ≤ 0.05 ppm (≤ 50 ppb) ≤ 0.05 ppm (≤ 50 ppb)
出口杂质含量 (H2O) ≤ 0.1 ppm(露点 ≤ -90°C) ≤ 0.1 ppm(露点 ≤ -90°C) ≤ 0.1 ppm(露点 ≤ -90°C) ≤ 0.1 ppm(露点 ≤ -90°C)
出口颗粒过滤精度 0.003 μm 颗粒过滤器 0.003 μm 颗粒过滤器 0.003 μm 颗粒过滤器 0.003 μm 颗粒过滤器
工作气体压力 0.3 – 0.8 MPa (3 – 8 bar) 0.3 – 0.8 MPa (3 – 8 bar) 0.3 – 0.8 MPa (3 – 8 bar) 0.3 – 0.8 MPa (3 – 8 bar)
最大耐压能力 1.2 MPa (12 bar) 1.2 MPa (12 bar) 1.2 MPa (12 bar) 1.2 MPa (12 bar)
净化结构架构 双柱自动循环 双柱自动循环 双柱自动循环 双柱自动循环
再生机制 内置电加热吹扫再生 内置电加热吹扫再生 内置电加热吹扫再生 内置电加热吹扫再生
再生耗气量 额定流量的 3–5% 额定流量的 3–5% 额定流量的 3–5% 额定流量的 3–5%
接液/接气管道材质 316L 不锈钢 (EP 电抛光) 316L 不锈钢 (EP 电抛光) 316L 不锈钢 (EP 电抛光) 316L 不锈钢 (EP 电抛光)
氦气漏率 < 1.0 × 10⁻⁹ mbar·L/s < 1.0 × 10⁻⁹ mbar·L/s < 1.0 × 10⁻⁹ mbar·L/s < 1.0 × 10⁻⁹ mbar·L/s
进/出口接口尺寸 1/4 英寸 Swagelok / VCR 3/8 英寸 Swagelok / VCR 1/2 英寸 Swagelok / VCR 1/2 英寸 Swagelok / VCR
控制界面 7 英寸彩色液晶触摸屏人机界面 7 英寸彩色液晶触摸屏人机界面 10 英寸彩色液晶触摸屏人机界面 10 英寸彩色液晶触摸屏人机界面
电源规格 220V AC, 50/60 Hz, 1.5 kW 220V AC, 50/60 Hz, 2.5 kW 220V AC, 50/60 Hz, 4.0 kW 380V 三相, 50/60 Hz, 6.0 kW
外形尺寸 (宽×深×高) 600 × 650 × 1350 mm 700 × 750 × 1500 mm 850 × 850 × 1700 mm 1050 × 950 × 1850 mm

为什么选择本产品

  • 显著降低运营成本:从昂贵的高纯瓶装特种气体(UHP 99.9999%)转为利用标准工业级气瓶(99.99%)按需现场制取,投资回报迅速,可永久降低运营开支。
  • 精密工程与认证可靠性:在严格的 ISO 质量管理体系下制造,每台设备出厂前均经过质谱仪氦气检漏、高压衰减测试以及多点色谱纯度验证。
  • 确保科研连续不间断:双塔自动化再生循环消除了系统停机时间,在关键的炉体运行、长时间烧结和敏感薄膜工艺过程中,保证高纯惰性气体的连续供应。
  • 全面的工艺安全联锁:配备多层硬件和软件联锁——包括自动紧急管路隔离、动态背压调节和热过载保护,确保在现代工业实验室中安全、无人值守地连续运行。
  • 模块化可扩展性与定制化集成:系统配置可根据特定设施的布局、管道网络尺寸、流量需求和气体纯度监控要求进行定制,并获得我们技术专家团队的全方位工程支持。

欢迎立即联系我们的工程团队,获取个性化技术咨询、评估应用兼容性,或获取针对您设施需求量身定制的详细商业报价。

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