虽然 KBr 是制备固体样品最常用的材料,但红外光谱存在几种强大的替代方法,主要围绕不同的样品制备技术。最常见的替代方法是石蜡油糊剂技术、从溶剂中薄膜浇铸以及现代、日益普及的衰减全反射(ATR)方法。最佳选择取决于样品的物理性质、反应活性以及所需的分析速度。
固态红外光谱的核心挑战不仅在于寻找 KBr 的替代材料,还在于选择正确的技术,使样品对红外光束透明。对于大多数现代实验室而言,最实用和通用的替代方法是 ATR,因为它几乎不需要样品制备。
为什么 KBr 是标准
要了解替代方法,首先必须了解溴化钾 (KBr) 为何成为固体样品分析的基准。整个方法建立在几个关键特性之上。
红外透明原理
碱金属卤化物,即包含 KBr 的盐类家族,在中红外区域不吸收光。这使得它们成为理想的“窗口”,红外光束可以通过它们,确保所得光谱纯粹来自样品,而不是基质。
创建固体溶液
在高压下,KBr 粉末会塑化并流动,形成均匀、透明的薄片或“压片”。当细磨的样品混入其中时,它会被困并均匀分散在这个透明的 KBr 基质中,从而使红外光束有效地穿过它。
对纯度和干燥度的要求
KBr 方法要求 KBr 和样品都极其干燥。水(水分)具有非常强的红外吸收带,很容易掩盖样品光谱中的重要特征。这种对水分的敏感性是寻求替代方法的主要驱动因素之一。
KBr 压片的主要替代品
当 KBr 压片方法不适用时——由于水分敏感性、样品反应性或时间限制——分析人员会转向其他既定技术。
石蜡油糊剂法
糊剂是通过将固体样品与研磨剂研磨而成的浓稠糊状物。样品不溶解,而是悬浮。
工作原理 少量固体样品被研磨成细粉,然后与一两滴研磨剂(最常见的是矿物油(石蜡油))混合。然后将这种糊状物涂抹在两块红外透明的盐片(通常由 KBr 或 NaCl 制成)之间,放入光谱仪中。油有助于减少红外光束的散射。
固有的光谱干扰 主要缺点是研磨剂本身具有红外光谱。石蜡油是一种碳氢化合物,具有明显的 C-H 伸缩和弯曲带。分析人员在解释样品光谱时必须注意这些峰并忽略它们。
薄膜浇铸
这种方法非常适合可溶于挥发性溶剂的样品,特别是聚合物。
制备过程 将样品溶解在合适的溶剂中(如丙酮或二氯甲烷)。将一滴这种溶液滴在红外透明的盐片上,然后让溶剂完全蒸发。这会留下纯样品的薄而均匀的薄膜,可供分析。
优点和局限性 主要优点是所得光谱是纯化合物的,没有来自 KBr 或研磨剂等基质的干扰。主要局限性是样品必须可溶,并且在干燥后能够形成连贯的薄膜。
现代方法:衰减全反射 (ATR)
对于大多数现代实验室来说,ATR 因其简单性和速度而成为首选的替代方法,通常取代 KBr 和糊剂技术进行常规分析。
ATR 工作原理
ATR 的工作原理不同。红外光束被引导到一个特殊的晶体中(通常是金刚石、锗或硒化锌),该晶体具有高折射率。样品被紧密地压在该晶体表面。光束在晶体内部反射,但一小部分能量,称为倏逝波,穿透样品几微米。样品吸收能量的地方,光束会衰减(减弱),从而产生光谱。
最小化制备的优势
这是 ATR 的主要优点。固体粉末、薄膜甚至液体都可以直接分析,几乎无需制备。您只需将样品放在晶体上,施加压力以确保良好接触,然后收集光谱。这消除了研磨、压片或处理水分的需要。
了解权衡
没有一种方法是完美的,适用于所有情况。选择替代方法意味着接受一组不同的妥协。
KBr 压片:潜在错误
KBr 方法通常被认为是参考光谱的“黄金标准”,但容易出错。水分污染是最常见的问题。此外,用于形成压片的高压有时会改变样品的晶体结构,导致光谱与原始材料不同。
石蜡油糊剂:不可避免的污染
使用糊剂,您必须接受光谱中始终会包含来自研磨剂的干扰峰。如果样品的关键吸收带与油的吸收带重叠,这可能会带来问题。
ATR:仅限表面分析
ATR 最大的局限性在于它是一种表面技术。倏逝波只探测样品顶部 1-2 微米。如果样品的表面不能代表整体(例如由于氧化),您的光谱将具有误导性。确保样品和晶体之间良好、一致的接触对于重现性也至关重要。
为您的样品做出正确选择
您的样品制备选择应由样品的物理性质和分析目标决定。
- 如果您的主要关注点是稳定化合物的高质量参考光谱:仔细制备的 KBr 压片通常是最佳选择,前提是您可以消除水分。
- 如果您的主要关注点是快速、常规分析各种固体材料: ATR 在速度、易用性和最小样品制备方面无与伦比。
- 如果您的样品对压力敏感或已知与 KBr 反应: 石蜡油糊剂是一种经典有效的替代方法,可避免这些问题。
- 如果您的样品是可溶性聚合物或成膜材料: 薄膜浇铸可提供纯净的材料光谱,而没有任何基质干扰。
最终,了解这些方法使您能够选择生成清晰准确红外光谱的最佳途径。
总结表:
| 方法 | 主要特点 | 最适合 | 主要局限性 |
|---|---|---|---|
| KBr 压片 | 高质量参考光谱 | 稳定、干燥的化合物 | 对水分敏感 |
| ATR | 最少或无需样品制备 | 快速、常规分析 | 仅限表面分析 |
| 石蜡油糊剂 | 避免高压 | 对压力敏感或反应性样品 | 油的光谱干扰 |
| 薄膜浇铸 | 纯化合物光谱 | 可溶性、成膜材料 | 需要特定的溶解度 |
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