液压实验室压片机广泛应用于材料研究实验室、制药、催化反应、陶瓷、电子行业，是一种高效的样品制备设备，由于其占地面积小，便于携带和移动，可在真空手套箱内工作，在真空环境下进行处理。
12-24T 机型输出的样品可满足红外光谱仪的要求。
24-40T 型机器输出的样品可满足荧光光谱仪的要求。
实验室压力机
货号 : PMS
电动实验室冷等静压机（CIP） 12T / 20T / 40T / 60T
货号 : PCIE
货号 : PMAS
货号 : PMAC
货号 : RPM-07
货号 : RPM-05
货号 : KT-BF
货号 : KT-VTW
货号 : KT-VPS
货号 : PCVM
货号 : KT-VTP
货号 : PCSM
货号 : KT-CRTF
货号 : KT-CTF12
货号 : KT-VHP
货号 : PCH
货号 : PCV
货号 : PCG
自动实验室压粒机 20T / 30T / 40T / 60T / 100T
货号 : PCEA
货号 : KH-01
手动实验室液压颗粒机 12T / 15T / 24T / 30T / 40T
货号 : PCMP
货号 : PCKBR
货号 : PMID
我们有最好的实验室压力机解决方案来满足您的实验室需求。无论您需要的是标准解决方案还是定制设计，我们广泛的产品组合都能确保满足客户的几乎所有要求。我们的实验室压机是研发工作、测试、短期生产和教育目的的理想选择。它们具有无可争议的精确性和耐用性，可提供持久一致的结果。
应用
实验室液压机广泛应用于
- 材料研究实验室
- 制药
- 催化反应
- 陶瓷
- 电子工业
- 光谱学
实验室液压机可在真空手套箱内工作，在真空环境下进行加工。 它是一种多功能工具，可用于各种任务，从压制样品到测量压力。
实验室压力机的优势
- 精密准确：实验室压力机因其精确和准确的结果而受到科学家和研究人员的青睐。它们能满足研究、测试和有限生产应用的严格要求。
- 耐用性：实验室压力机的耐用性可确保其在实验室中的使用寿命，提供一致和持久的结果。
- 可编程控制：实验室压机的设计和制造包括可编程控制，使用户能够更准确、一致地根据特定要求压制产品。
- 可定制：有些实验室压力机可以容纳各种不同尺寸或定制的模具。
- 应用广泛：实验室压力机可用于多种行业，包括制药、层压、橡胶和塑料成型、研发工作、测试、小批量、限量生产、单元制造、精益生产以及大学的教育和研究用途。
实验室液压机的一些选项
实验室压力机通常提供多种选择，具有不同的温度、压力和压盘尺寸范围，并可进行定制，以满足特定的工艺要求。
如何选择实验室压力机
在实验室环境中，空间往往有限，因此压力机的设计必须适合可用空间。压力机的设计还必须易于使用和清洁。操作人员的安全和设备的安全都必须考虑在内。
Kindle Tech 总结了其中一些条件，供您在选择实验室压片机时参考。
- 您需要的样品形状和尺寸
- 您需要对样品施加多大的负荷或力？
- 实验室尺寸要求
- 需要多大的力量或能量（功）才能将压机泵送到所需的负载？
- 实验室压力机的动力系统选择手动、气动还是电动？
- 电气使用和安全
- 实验室压力机是否需要移动？
- 您需要的功能费用是多少？
FAQ
什么是实验室压力机？
实验室压机又称实验室压力机，是一种用于将粉末状材料制成压缩颗粒的机器，可用于药物开发、光谱分析和炸弹量热等各种应用。粉末被放入模具中，通过液压作用压制成型。实验室压力机的压力范围很广，从 15 公吨到 200 公吨不等，可容纳各种不同尺寸或定制的模具。它们通常用于制药、层压、橡胶和塑料成型等行业，以及研发工作、测试、小批量、限量生产、单元制造和精益生产。
实验室使用液压机的目的是什么？
实验室液压机用于测试材料的强度和耐久性，研究高压对不同物质的影响，以及制造用于样品分析的颗粒。它是一种利用流体压力产生力的机器，可用来压缩或成型材料。实验室液压机是工业机器的缩小版，具有更高的精度和控制能力。它们通常用于制作傅立叶变换红外光谱（FTIR）的 KBr 颗粒和 XRF 的一般样品颗粒，以研究材料的元素组成。
有哪些不同类型的实验室压力机？
不同类型的实验室压机包括手动液压机和自动液压机。手动液压机使用手动操作杆施加压力，而自动压力机则配备了可编程控制装置，可以更准确、更稳定地压制产品。在选择液压机时，重要的是要考虑特定样品所需的力的大小、实验室的空间大小以及泵送液压机所需的能量和力量。
请求报价
我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系！
相关文章
红外光谱分析的六种样品制备技术
概述红外光谱分析的各种样品制备方法。
阅读更多
原位红外光谱法：原理、样品要求和制备方法
概述原位红外光谱分析的原理、样品要求和制备方法。
阅读更多
影响磁控溅射薄膜附着力的因素
深入分析影响磁控溅射技术制备的薄膜附着力的关键因素。
阅读更多
了解和预防磁控溅射靶材中毒
讨论磁控溅射中的靶材中毒现象、其原因、影响和预防措施。
阅读更多
各种电源对溅射薄膜形态的影响
本文讨论不同电源如何影响溅射薄膜层的形态，重点是直流、PDC 和射频电源。
阅读更多
磁控溅射中陶瓷靶中心区域的严重烧蚀分析
本文讨论了磁控溅射过程中陶瓷靶中心区域严重烧蚀的原因和解决方案。
阅读更多
测量溅射薄膜层的剥离强度
深入介绍评估溅射薄膜层剥离强度的定义、测量方法、影响因素和设备。
阅读更多
控制磁控溅射镀膜的膜厚公差
讨论确保磁控溅射涂层薄膜厚度公差的方法，以优化材料性能。
阅读更多
电子束蒸发涂层：优缺点与应用
深入了解电子束蒸发涂层的优缺点及其在工业中的各种应用。
阅读更多
PVD 涂层工艺综合概览
深入了解 PVD 涂层工艺的原理、类型、气体应用和实际用途。
阅读更多
薄膜系统设计：原理、考虑因素和实际应用
深入探讨薄膜系统的设计原理、技术考虑因素以及在各个领域的实际应用。
阅读更多
磁控溅射中的问题：为什么会出现辉光但没有沉积薄膜
分析导致磁控溅射中发光却不沉积薄膜的因素。
阅读更多
影响磁控溅射均匀性的因素
讨论影响磁控溅射薄膜沉积均匀性的关键因素，包括设备参数、溅射功率、气体压力、磁场配置、基片特性等。
阅读更多
选择真空镀膜材料：关键因素和考虑因素
根据应用、材料特性、沉积方法、经济性、基底兼容性和安全性选择正确真空镀膜材料的指南。
阅读更多
在磁控溅射中使用铼靶实现辉光放电所面临的挑战
探讨铼靶在磁控溅射过程中难以发光的原因，并提出优化建议。
阅读更多
影响磁控溅射过程中溅射效果的参数
影响磁控溅射中溅射效果的关键参数，包括气压、功率、靶距、基片类型等。
阅读更多
磁控溅射法制备锆钛酸铅（PZT）薄膜层的注意事项
使用磁控溅射法制备 PZT 薄膜层的指南和注意事项。
阅读更多
磁控溅射中的偏置电源类型及其用途
概述磁控溅射中的偏置电源类型及其在提高薄膜附着力和密度方面的作用。
阅读更多
了解薄膜制备中直流、中频和射频溅射的区别和用途
本文介绍了直流、中频和射频溅射技术在薄膜制备中的区别和应用。
阅读更多
磁控溅射镀膜过程中的靶材火花：原因与解决方案
解释磁控溅射过程中靶材产生火花的原因，并提供防止火花产生的解决方案。
阅读更多