溅射过程中的溅射离子电流是决定沉积过程效率和质量的关键因素。
什么是溅射离子电流？(分 4 个要点说明）
1.直流二极管溅射
在直流二极管溅射中，需要施加 500 - 1000 V 的直流电压。
该电压可点燃靶材和基材之间的氩气低压等离子体。
然后，正氩离子在该电压的作用下加速冲向靶材。
这种加速使原子从靶上喷出并沉积到基底上。
2.射频溅射
在射频溅射中，使用的是频率约为 14 MHz 的交流电。
这种方法可以溅射绝缘材料。
电子可随射频加速振荡。
较重的离子只对射频系统中产生的平均电压产生反应。
离子受自偏置电压 (VDC) 的影响，该电压将离子加速至目标。
这种自偏压接近直流溅射时的等效电压。
3.电压与电流的关系
溅射离子的电流与施加的电压直接相关。
在直流二极管溅射中，电流由 500 - 1000 V 直流电压决定。
在射频溅射中，电流由将离子加速到靶的自偏置电压 (VDC) 决定。
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