光学材料
400-700nm 波长 抗反射/AR 镀膜玻璃
货号 : KTOM-ARG
价格根据 规格和定制情况变动
- 材料
- 透明玻璃/超透明玻璃
- 透光率
- >98%(400-700 纳米)
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抗反射 / AR 镀膜玻璃
抗反射涂层(AR 涂层)是一种薄膜或多层材料,用于光学表面(如镜片或窗户)以减少反射。AR 镀膜的主要目的是最大限度地减少表面反射的光量,从而增加通过材料的光量。
AR 涂层通过改变被涂表面的折射率来发挥作用。通过精心设计和沉积这些涂层,可以优化涂层的厚度和成分,从而对反射光波产生破坏性干涉。这种干涉效应可降低反射光的强度,从而显著减少眩光和不必要的反射。
细节与部件
抗反射/AR 镀膜玻璃的应用
- 眼镜和太阳镜:处方眼镜和太阳镜上的 AR 镀膜可减少眩光,提高视觉清晰度,并增强镜片的整体光学质量。它们能让更多光线通过镜片,减少可能干扰视力的反光。
- 相机镜片:相机镜头上的 AR 涂层有助于最大限度地减少镜头眩光、鬼影和不必要的反光,使图像更加清晰锐利。它们还能增加透光率,让摄影师捕捉到更多细节,提高整体图像质量。
- 显示屏:电脑显示器、电视、智能手机和平板电脑等显示屏上的 AR 涂层可减少反光,并通过最大限度地减少眩光来提高可视性。这可以增强观看体验,尤其是在明亮的环境中,并提供更好的图像清晰度和色彩准确度。
- 光学仪器:AR 涂层可用于各种光学仪器,如显微镜、望远镜、双筒望远镜和相机镜头滤镜。它们能减少反射,增加透光率,让用户观察物体时更加清晰和细致。
防反射镀膜眼镜的特性
- 减少表面反射和眩光。
- 最大限度地提高可见光波长的容量。
- 防止视觉扭曲和图像模糊。
- 吸收最少的光线,使眼睛受益。
- 耐磨性高,涂层附着力强。
注意事项
- 在干燥的镜片上使用干布会造成划痕并损坏镜片镀膜。抗反射镀膜可减少反射,从而掩盖镜片缺陷,但 AR 镀膜镜片上的划痕更明显。
- 请小心处理和清洁有 AR 涂层的镜片,以避免划痕并保持清晰度。
提供定制服务
通过实施创新和最先进的熔化工艺,我们在优质玻璃产品的开发和制造方面获得了广泛的专业知识,提供广泛的光学产品 用于各种商业、工业和科学应用的玻璃产品。 公司提供各种规格的光学玻璃原片、切割件和成品组件等,并与客户密切合作,根据客户需求定制产品。 凭借对质量坚定不移的承诺,我们确保客户获得根据其要求量身定制的完美解决方案。
如需进一步报价,请联系我们。
FAQ
什么是物理气相沉积(PVD)?
典型的 AR 涂层有多厚?
AR 涂层是涂在里面还是外面?
抗反射涂层的寿命有多长?
什么是磁控溅射?
用于沉积薄膜的方法有哪些?
为什么选择磁控溅射?
什么是薄膜沉积设备?
用于薄膜沉积的材料有哪些?
薄膜沉积通常使用金属、氧化物和化合物作为材料,每种材料都有其独特的优缺点。金属因其耐用性和易于沉积而受到青睐,但价格相对昂贵。氧化物非常耐用,可耐高温,并可在低温下沉积,但可能比较脆,难以操作。化合物具有强度和耐久性,可在低温下沉积,并可定制以显示特定性能。
薄膜涂层材料的选择取决于应用要求。金属是热传导和电传导的理想材料,而氧化物则能有效提供保护。可根据具体需求定制化合物。最终,特定项目的最佳材料将取决于应用的具体需求。
什么是薄膜沉积技术?
实现最佳薄膜沉积的方法有哪些?
要获得具有理想特性的薄膜,高质量的溅射靶材和蒸发材料至关重要。
溅射靶材或蒸发材料的纯度起着至关重要的作用,因为杂质会导致生成的薄膜出现缺陷。晶粒大小也会影响薄膜的质量,晶粒越大,薄膜的性能越差。
要获得最高质量的溅射靶材和蒸发材料,选择纯度高、晶粒度小、表面光滑的材料至关重要。
薄膜沉积的用途
氧化锌薄膜
氧化锌薄膜可应用于热学、光学、磁学和电气等多个行业,但其主要用途是涂层和半导体器件。
磁性薄膜
磁性薄膜是电子、数据存储、射频识别、微波设备、显示器、电路板和光电子技术的关键元件。
光学薄膜
光学镀膜和光电子技术是光学薄膜的标准应用。分子束外延可以生产光电薄膜设备(半导体),外延薄膜是一个原子一个原子地沉积到基底上的。
聚合物薄膜
聚合物薄膜可用于存储芯片、太阳能电池和电子设备。化学沉积技术(CVD)可精确控制聚合物薄膜涂层,包括一致性和涂层厚度。
薄膜电池
薄膜电池为植入式医疗设备等电子设备提供动力,由于薄膜的使用,锂离子电池的发展突飞猛进。
薄膜涂层
薄膜涂层可增强各行业和技术领域目标材料的化学和机械特性。
薄膜太阳能电池
薄膜太阳能电池对于太阳能产业至关重要,它可以生产相对廉价的清洁电力。光伏系统和热能是两种主要的适用技术。
使用薄膜沉积设备有哪些优势?
影响薄膜沉积的因素和参数
沉积速率:
薄膜的生成速率(通常以厚度除以时间来衡量)对于选择适合应用的技术至关重要。对于薄膜而言,适度的沉积速率就足够了,而对于厚膜而言,快速沉积速率则是必要的。在速度和精确薄膜厚度控制之间取得平衡非常重要。
均匀性:
薄膜在基底上的一致性称为均匀性,通常指薄膜厚度,但也可能与折射率等其他属性有关。
填充能力:
填充能力或台阶覆盖率是指沉积工艺对基底形貌的覆盖程度。所使用的沉积方法(如 CVD、PVD、IBD 或 ALD)对台阶覆盖率和填充有重大影响。
薄膜特性:
薄膜的特性取决于应用要求,可分为光子、光学、电子、机械或化学要求。大多数薄膜必须满足一个以上类别的要求。
制程温度:
薄膜特性受制程温度的影响很大,这可能受到应用的限制。
损坏:
每种沉积技术都有可能损坏沉积在其上的材料,而较小的特征更容易受到制程损坏。污染、紫外线辐射和离子轰击都是潜在的损坏源。了解材料和工具的局限性至关重要。
选择薄膜沉积设备时应考虑哪些因素?
操作薄膜沉积设备有哪些安全注意事项?
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The AR coating glass is a game-changer for my lab. It has significantly reduced glare and reflections, resulting in clearer images and more accurate results.
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The technological advancement of this AR coating glass is remarkable. It has opened up new possibilities for our research and has pushed the boundaries of what we can achieve in the lab.
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The clarity and sharpness of images obtained using this AR coating glass are truly impressive. It has revolutionized the way we conduct experiments and has led to groundbreaking discoveries.
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The customer service provided by the company was exceptional. They were responsive, knowledgeable, and went above and beyond to ensure a smooth and hassle-free experience.
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