用于扫描电子显微镜的溅射镀膜通常涉及厚度为 2-20 纳米的超薄导电金属层。
这种涂层对不导电或导电性差的试样至关重要，可防止带电并提高 SEM 成像的信噪比。
4 个要点说明
1.溅射镀膜的目的
溅射镀膜主要用于在不导电或导电性差的试样上镀一薄层导电金属。
这层涂层有助于防止静电场的积累，因为静电场会干扰 SEM 的成像过程。
这样做还能增强试样表面的二次电子发射，从而提高信噪比和 SEM 图像的整体质量。
2.典型厚度
溅射薄膜的厚度通常在 2 到 20 纳米之间。
选择这个范围是为了确保涂层足够薄，不会遮住试样的细节，但又足够厚，以提供有效的导电性并防止充电。
对于低倍扫描电子显微镜来说，10-20 纳米的涂层一般就足够了，不会对成像造成很大影响。
但是，对于放大倍率较高的扫描电镜，尤其是分辨率小于 5 纳米的扫描电镜，最好使用较薄的涂层（低至 1 纳米），以避免遮挡样品细节。
3.所用材料
溅射镀膜常用的金属包括金（Au）、金/钯（Au/Pd）、铂（Pt）、银（Ag）、铬（Cr）和铱（Ir）。
选择这些材料是因为它们具有导电性并能改善扫描电镜的成像条件。
在某些情况下，碳涂层可能是首选，尤其是在 X 射线光谱和电子反向散射衍射 (EBSD) 等应用中，避免涂层和样品的信息混合至关重要。
4.溅射镀膜的优点
SEM 样品溅射涂层的优点包括：减少光束损伤、增强热传导、减少样品充电、改善二次电子发射、减少光束穿透并提高边缘分辨率，以及保护对光束敏感的样品。
这些优点共同提高了扫描电子显微镜成像的质量和准确性，使其成为制备某些类型样品进行扫描电子显微镜分析的关键步骤。
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