用于扫描电子显微镜的溅射镀膜通常涉及厚度为 2-20 纳米的超薄导电金属层。这种涂层对不导电或导电性差的试样至关重要，可防止带电并提高 SEM 成像的信噪比。
详细说明：
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溅射涂层的目的：
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溅射镀膜主要用于在不导电或导电性差的试样上镀一薄层导电金属。这层涂层有助于防止静态电场的积累，因为静态电场会干扰 SEM 的成像过程。这样，它还能增强试样表面的二次电子发射，从而提高信噪比和 SEM 图像的整体质量。典型厚度
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溅射薄膜的厚度通常在 2 到 20 纳米之间。选择这个范围是为了确保涂层足够薄，不会遮住试样的细节，但又足够厚，以提供有效的导电性并防止充电。对于低倍扫描电子显微镜来说，10-20 纳米的涂层一般就足够了，不会对成像造成很大影响。不过，对于放大倍率较高的扫描电镜，尤其是分辨率小于 5 纳米的扫描电镜，最好使用较薄的涂层（低至 1 纳米），以避免遮挡样品细节。
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所用材料
溅射镀膜常用的金属包括金 (Au)、金/钯 (Au/Pd)、铂 (Pt)、银 (Ag)、铬 (Cr) 和铱 (Ir)。选择这些材料是因为它们具有导电性并能改善扫描电镜的成像条件。在某些情况下，碳涂层可能是首选，尤其是在 X 射线光谱和电子反向散射衍射 (EBSD) 等应用中，避免涂层和样品信息混合至关重要。
溅射涂层的优点：
