CVD 和 PECVD 炉
射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统
货号 : KT-RFPE
价格根据 规格和定制情况变动
- 频率
- 射频频率 13.56MHZ
- 加热温度
- 最高 200°C
- 真空室尺寸
- Ф420 毫米 × 400 毫米
运输:
联系我们 获取运输详情 享受 准时发货保证.
RF-PECVD 是 "射频等离子体增强化学气相沉积 "的缩写。它能在锗和硅基底上沉积 DLC（类金刚石碳膜）。其波长范围为 3-12um 红外线。
该工艺使用射频发生器，通过电离硅烷和氮气等前驱气体混合物产生等离子体。等离子能将前驱气体分解成活性物质，这些活性物质相互反应并沉积到基底上。在射频 PECVD 技术中使用等离子体能可在较低温度下沉积高质量薄膜，因此该工艺适用于硅晶片等对温度敏感的基底。
组件和功能
该设备由真空室、真空泵系统、阴极和阳极靶、射频源、充气式气体混合系统、计算机控制柜系统等组成，可实现无缝一键镀膜、过程存储和检索、报警功能、信号和阀门切换以及全面的过程操作记录。
详情和示例
技术规格
主要设备部件
| 设备形式 |
|
| 真空室 |
|
| 主机骨架 |
|
| 水冷系统 |
|
| 控制柜 |
|
真空系统
| 极限真空 |
|
| 恢复真空时间 |
|
| 压力上升率 |
|
| 真空系统配置 |
|
| 真空系统测量 |
|
| 真空系统操作 | 有真空手动和真空自动选择两种模式；
|
| 当真空度异常或电源切断时，真空阀的分子泵应恢复到关闭状态。真空阀设有联锁保护功能，每个气缸的进气口设有截止阀调节装置，并有位置设置传感器显示气缸的关闭状态； |
|
按 GB11164 真空镀膜机通用技术条件执行。
- 加热系统
- 加热方式：碘钨灯加热方式；
- 功率调节器：数字功率调节器；
- 加热温度：最高温度 200°C，功率 2000W/220V，可控可调显示，±2°C 控制；
连接方式：快插快取，金属屏蔽罩防污，电源隔离，确保人员安全。
- RF 射频电源
- 频率：射频频率 13.56MHZ；
- 功率：0-2000W 连续可调；
- 功能：全自动阻抗匹配功能调节，全自动调节以保持极低的工作反射功能，内部反射在 0.5% 以内，具有手动和自动转换调节功能；
显示：带偏置电压、CT 电容位置、RT 电容位置、设定功率、反射功能显示，带通信功能，可与触摸屏通信，在组态软件上设置和显示参数，调谐线显示等。
- 阴极阳极靶
- 阳极靶：采用φ300mm 铜基板作为阴极靶，工作时温度低，无需冷却水；
阴极靶：φ200mm 铜制水冷阴极靶，工作时温度较高，内部为冷却水，确保工作时温度一致，阳极与阴极靶之间的最大距离为 100-250mm。
- 充气控制
- 流量计：采用英国四通流量计，流量为 0-200SCCM，带压力显示，通讯设置参数，可设置气体种类；
- 截止阀：启明星华创 DJ2C-VUG6 截止阀，与流量计配合，混合气体，通过环形充气装置充入腔体，均匀流经靶面；
- 前级储气瓶：主要是冲洗转换瓶，将 C4H10 液体气化后，进入流量计的前级管道。储气瓶内有压力数显 DSP 仪表，进行超压、低压报警提示；
- 混合气体缓冲瓶：缓冲瓶在后级与四种气体混合。混合后从缓冲瓶一路输出到腔体底部，一路输出到顶部，其中一路可独立关闭；
充气装置：腔体气路出口处的均匀气体管道，均匀地向目标表面充气，使涂层均匀性更好。
- 控制系统
- 触摸屏：以 TPC1570GI 触摸屏为主机 + 键盘和鼠标；
- 控制软件：表格式工艺参数设置、报警参数显示、真空参数显示和曲线显示、射频电源和直流直流电源参数设置和显示、所有阀门和开关工作状态记录、工艺记录、报警记录、真空记录参数，可保存半年左右，整套设备的工艺操作在 1 秒钟内保存参数；
- PLC：采用欧姆龙 PLC 作为下位机，采集各种元器件和在位开关、控制阀及各种元器件的数据，通过组态软件进行数据交互、显示和控制。这样更加安全可靠；
- 控制状态：一键镀膜、自动抽真空、自动恒真空、自动加热、自动多层工艺沉积、自动完成取件等工作；
触摸屏的优点：触摸屏控制软件不可更改，操作稳定更方便灵活，但存储数据量有限，参数可直接导出，工艺出现问题时可直接导出； 6.报警：采用声光报警方式，在配置报警参数库中记录报警。今后可随时查询，保存的数据可随时查询调用。
- 恒定真空
- 蝶阀恒真空：DN80 蝶阀与 Inficon CDG025 电容式薄膜规配合可实现恒真空工作，缺点是阀口易污染，清洗困难；
阀门位置模式：设置位置控制模式。
- 水、电、气
- 主进水管和出水管均由不锈钢制成，并配有应急进水口；
- 真空室外所有水冷管均采用不锈钢快换固定接头和塑料高压水管（优质水管，可长期使用不漏水、不断裂），进出水口塑料高压水管应显示两种不同颜色，并有相应标识；品牌为 Airtek；
- 真空室内部的所有水冷管均由优质 SUS304 材料制成；
- 水路和气路分别安装有安全可靠、高精度显示的水压和气压仪表。
- 配备 8P 冷水机，用于碳膜机的水流。
配备一套 6KW 热水机，开门时，热水会流过房间。
- 安全保护要求
- 机器配有报警装置；
- 当水压或气压达不到规定流量时，所有真空泵和阀门受到保护，不能启动，并有报警声和红色信号灯提示；
- 机器正常工作时，当水压或气压突然不足时，所有阀门自动关闭，并发出报警声和红色信号灯提示；
- 当操作系统（高压、离子源、控制系统）异常时，会发出报警声和红色信号灯提示；
高压接通，有保护报警装置。
- 工作环境要求
- 环境温度：10～35℃;
- 相对湿度：不大于 80%；
设备周围环境清洁，空气清新。不应有可能对电器和其他金属表面造成腐蚀或导致金属间导电的灰尘或气体。
- 设备电源要求
- 水源：工业软水，水压 0.2~0.3Mpa，水量~60L/min，进水温度≤25℃；水管接口 1.5 英寸；
- 气源：气压 0.6MPa；
- 电源： 三相五线制 380V，50Hz，电压波动范围：线电压 342 ~ 399V，相电压 198 ~ 231V；频率波动范围：49 ~ 51Hz；设备功耗~16KW；接地电阻≤1Ω；
警告
操作员安全是最重要的问题！ 请小心操作设备。 使用易燃易爆或有毒气体是非常危险的，操作人员在启动设备之前必须采取所有必要的预防措施。 反应器或室内正压工作是危险的，操作人员必须严格遵守安全规程。 使用空气反应材料时，尤其是在真空下，也必须格外小心。 泄漏会将空气吸入设备并导致发生剧烈反应。
为您而设计
KinTek为全球客户提供深度定制服务和设备，我们专业的团队和经验丰富的工程师有能力承担定制硬件和软件设备的需求，并帮助我们的客户 打造专属个性化设备和解决方案！
请将您的想法告诉我们，我们的工程师已经为您准备好了！
FAQ
什么是 PECVD 方法？
PECVD 有哪些用途？
PECVD 有哪些优势？
ALD 和 PECVD 的区别是什么？
PECVD 和溅射有什么区别？
4.7
out of
5
RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition is a great tool for depositing high-quality thin films. We've been using it for several months now and have been very happy with the results.
4.8
out of
5
RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition has been a lifesaver in our lab. It's allowed us to produce high-quality thin films quickly and easily.
4.9
out of
5
We are very satisfied with the RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition. It's a well-built system that produces high-quality results. The customer service is also excellent.
5.0
out of
5
RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition is a game-changer for our research. It's allowed us to explore new possibilities that we never thought possible.
4.7
out of
5
We've been using RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition for a few months now and have been very impressed with its performance. It's a powerful tool that has helped us to achieve great results.
4.8
out of
5
RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition is a great investment for any lab. It's easy to use and produces high-quality results. I highly recommend it.
4.9
out of
5
We're very happy with our RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition. It's a reliable system that has helped us to improve our research.
5.0
out of
5
RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition is a top-of-the-line system. It's a must-have for any lab that wants to stay ahead of the curve.
4.7
out of
5
We've been using RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition for a few years now and have been very happy with it. It's a versatile system that can be used for a variety of applications.
4.8
out of
5
RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition is a great value for the money. It's a powerful system that can be used for a variety of applications.
4.9
out of
5
We're very satisfied with the RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition. It's a well-built system that produces high-quality results. The customer service is also excellent.
5.0
out of
5
RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition is a game-changer for our research. It's allowed us to explore new possibilities that we never thought possible.
4.7
out of
5
We've been using RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition for a few months now and have been very impressed with its performance. It's a powerful tool that has helped us to achieve great results.
4.8
out of
5
RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition is a great investment for any lab. It's easy to use and produces high-quality results. I highly recommend it.
4.9
out of
5
We're very happy with our RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition. It's a reliable system that has helped us to improve our research.
5.0
out of
5
RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition is a top-of-the-line system. It's a must-have for any lab that wants to stay ahead of the curve.
4.7
out of
5
We've been using RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition for a few years now and have been very happy with it. It's a versatile system that can be used for a variety of applications.
4.8
out of
5
RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition is a great value for the money. It's a powerful system that can be used for a variety of applications.
4.9
out of
5
We're very satisfied with the RF PECVD System Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition. It's a well-built system that produces high-quality results. The customer service is also excellent.
