PECVD（等离子体增强化学气相沉积）机是半导体行业用于在基底上沉积薄膜的工具。该机器利用低温等离子体产生辉光放电来预热样品，并引入适量的工艺气体。该过程涉及化学和等离子反应，在样品表面形成一层固体薄膜。PECVD 设备主要由真空和压力控制系统、沉淀系统、气体和流量控制、计算机控制和安全保护系统组成。该设备用于在大气保护环境中通过 CVD 法对粉末材料进行连续镀膜和改性。
啄木鸟机
货号 : KT-VHP
货号 : KT-CTF12
货号 : KT-CTF14
货号 : KT-CTF16
货号 : KT-PE12
货号 : KT-PE16
货号 : KT-PED
货号 : KTWB315
用于实验室和金刚石生长的钟罩式谐振器 MPCVD 金刚石设备
货号 : KTMP315
射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统
货号 : KT-RFPE
货号 : MP-CVD-100
货号 : MP-CVD-101
货号 : cvdm-05
我们拥有广泛的产品组合，可确保提供满足您需求的适当标准解决方案。我们还提供定制设计服务，以满足客户的独特要求。我们的 PECVD 设备是现代半导体制造的重要工具，具有出色的薄膜均匀性、低温处理和高产能。我们的设备应用广泛，包括用于微电子器件、光伏电池和显示面板的薄膜沉积。
PECVD 设备的应用
- 微电子设备薄膜沉积
- 光伏电池生产
- 显示面板制造
- 二氧化硅薄膜沉积
- 氮化硅薄膜沉积
- 非晶硅薄膜沉积
- 在热预算较低的基底上沉积薄膜
- 功率半导体器件生产
- 光电子器件的生产
- 用于数据中心
- 5G 网络设备生产
- 自动驾驶汽车设备生产
- 可再生能源设备生产
- 电子战设备生产
- 智能照明制造
PECVD 设备的优势
- 沉积温度低
- 在不平整表面上具有良好的一致性和阶跃覆盖率
- 更严格地控制薄膜工艺
- 沉积速率高
- 适用于制造具有不同成分和微观结构的薄膜，可根据深度不断改变薄膜特性
- 沉积速率高，大大高于其他传统真空技术
- 可对不同形状的基底（包括三维基底）进行均匀镀膜
- 沉积的薄膜机械应力小
- 良好的共形台阶覆盖率，台阶边缘和平面上的薄膜厚度具有极佳的均匀性
- 沉积的薄膜具有良好的介电性能
- 高效的电气性能和极高标准的接合性能
我们的 PECVD 设备是满足您所有薄膜沉积需求的经济高效的解决方案。我们拥有丰富的产品线，可为您提供适合您需求的标准解决方案，而对于更独特的应用，我们的定制设计服务将帮助我们满足您的特定要求。
FAQ
什么是 PECVD 方法？
PECVD（等离子体增强化学气相沉积）是半导体制造中的一种工艺，用于在微电子设备、光伏电池和显示面板上沉积薄膜。在 PECVD 过程中，前驱体以气态进入反应室，在等离子反应介质的帮助下，前驱体在比 CVD 低得多的温度下解离。PECVD 系统具有出色的薄膜均匀性、低温处理和高产能。随着对先进电子设备需求的不断增长，PECVD 系统将在半导体行业发挥越来越重要的作用。
PECVD 有哪些用途？
PECVD（等离子体增强化学气相沉积法）广泛应用于半导体行业的集成电路制造，以及光伏、摩擦学、光学和生物医学领域。它用于沉积微电子器件、光伏电池和显示面板的薄膜。PECVD 可生产出普通 CVD 技术无法生产的独特化合物和薄膜，以及具有高耐溶剂性和耐腐蚀性、化学稳定性和热稳定性的薄膜。它还可用于生产大表面的均质有机和无机聚合物，以及用于摩擦学应用的类金刚石碳（DLC）。
PECVD 有哪些优势？
PECVD 的主要优点是能够在较低的沉积温度下运行，在不平整的表面上提供更好的一致性和阶跃覆盖率，更严格地控制薄膜工艺，以及较高的沉积速率。在传统的 CVD 温度可能会损坏涂覆设备或基底的情况下，PECVD 却能成功应用。通过在较低温度下工作，PECVD 在薄膜层之间产生的应力较小，可实现高效的电气性能和高标准的接合。
ALD 和 PECVD 的区别是什么？
ALD 是一种薄膜沉积工艺，可实现原子层厚度分辨率、高纵横比表面的出色均匀性和无针孔层。这是通过在自限制反应中连续形成原子层来实现的。另一方面，PECVD 将源材料与一种或多种挥发性前驱体混合，使用等离子体对源材料进行化学作用和分解。这种工艺使用热量和较高的压力，可产生重现性更高的薄膜，薄膜厚度可通过时间/功率来控制。这些薄膜的化学计量性更高，密度更大，能够生长出更高质量的绝缘体薄膜。
PECVD 和溅射有什么区别？
PECVD 和溅射都是用于薄膜沉积的物理气相沉积技术。PECVD 是一种扩散气体驱动工艺，可生成非常高质量的薄膜，而溅射则是一种视线沉积。PECVD 能更好地覆盖凹凸不平的表面，如沟槽、墙壁和高保形度表面，并能生产出独特的化合物和薄膜。另一方面，溅射有利于沉积多种材料的精细层，是制造多层和多级涂层系统的理想选择。PECVD 主要用于半导体工业、摩擦学、光学和生物医学领域，而溅射主要用于电介质材料和摩擦学应用。
请求报价
我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系！
相关文章
为高密度成型选择等静压设备
深入了解等静压技术和设备选择，以实现高密度成型。
阅读更多
热等静压技术：原理与应用
深入了解热等静压技术的发展、工作原理以及在各行各业的广泛应用。
阅读更多
等静压石墨在光伏产业中的应用
概述等静压石墨在光伏生产各个阶段的用途及其市场需求。
阅读更多
固态电池等静压技术
关注等静压技术，实现新一代电池的商业化。
阅读更多
固态电池生产中的等静压技术
探索等静压技术在制造下一代固态电池固体电解质中的作用。
阅读更多
批量生产固态电池的基本设备：等静压机
讨论等静压技术在提高固态电池性能和生产效率方面的作用。
阅读更多
基本实验室干燥设备
概述实验室使用的各种干燥设备，包括真空、鼓风、电加热、热风消毒和红外线干燥箱。
阅读更多
实验室样品制备和消化设备
样品制备和消化所需的实验室设备概述。
阅读更多
基本实验室萃取设备
实验室使用的各种萃取方法概述。
阅读更多
红外光谱仪中固体样品的制备技术
详细介绍了制备红外光谱固体样品的各种方法，包括压板法、浆糊法和薄膜法。
阅读更多
电动实验室冷等静压机 (CIP)：应用、优势和定制
探索电动实验室冷等静压机 (CIP) 技术的多功能世界。了解其在各行各业的应用、优势以及定制解决方案的定制选项。
阅读更多
探索热等静压工艺 (WIP) 的能力和应用
深入了解有关热等静压（WIP）、其技术、应用以及在材料加工中的优势的综合指南。了解 WIP 如何增强材料性能及其在先进制造中的作用。
阅读更多
火花等离子烧结炉综合指南》：应用、特点和优势
探索火花等离子烧结炉 (SPS) 在材料科学领域的先进功能和应用。了解 SPS 技术如何为各种材料提供快速、高效和多功能烧结。
阅读更多
钼真空炉：高温烧结和先进应用
探索钼真空炉在高温烧结和材料处理方面的先进功能和应用。了解它们的构造、控制系统和维护技巧。
阅读更多
高压管式炉终极指南：应用、类型和优点
探索高压管式炉综合指南，包括高压管式炉在材料科学中的应用、卧式和立式等类型以及用于精密高温工艺的主要优势。
阅读更多
马弗炉综合指南：类型、用途和维护
通过我们的详细指南探索马弗炉的世界。了解马弗炉的类型、在各行业中的应用以及确保最佳性能的基本维护技巧。
阅读更多
钼真空炉：高温烧结和热处理
探索钼真空炉在高温烧结和热处理中的先进功能和应用。了解它们的构造、控制系统和维护技巧。
阅读更多
高压管式炉：应用、安全和维护
探索高压管式炉的先进应用、安全措施和维护技巧。了解高压管式炉如何用于各种高温工艺并确保最佳性能和安全性。
阅读更多
可控气氛炉：先进热处理综合指南
探索可控气氛炉在热处理工艺中的先进功能和应用。了解精密材料加工的关键部件、操作技术和优势。
阅读更多
气氛炉：受控热处理综合指南
通过我们的详细指南，探索先进的气氛炉世界。了解它们在不同行业中的操作、应用和优势。非常适合希望深入了解受控热处理知识的人士。
阅读更多