PECVD（等离子体增强化学气相沉积）机是半导体行业用于在基底上沉积薄膜的工具。该机器利用低温等离子体产生辉光放电来预热样品，并引入适量的工艺气体。该过程涉及化学和等离子反应，在样品表面形成一层固体薄膜。PECVD 设备主要由真空和压力控制系统、沉淀系统、气体和流量控制、计算机控制和安全保护系统组成。该设备用于在大气保护环境中通过 CVD 法对粉末材料进行连续镀膜和改性。
切换分类
啄木鸟机
我们拥有广泛的产品组合，可确保提供满足您需求的适当标准解决方案。我们还提供定制设计服务，以满足客户的独特要求。我们的 PECVD 设备是现代半导体制造的重要工具，具有出色的薄膜均匀性、低温处理和高产能。我们的设备应用广泛，包括用于微电子器件、光伏电池和显示面板的薄膜沉积。
PECVD 设备的应用
- 微电子设备薄膜沉积
- 光伏电池生产
- 显示面板制造
- 二氧化硅薄膜沉积
- 氮化硅薄膜沉积
- 非晶硅薄膜沉积
- 在热预算较低的基底上沉积薄膜
- 功率半导体器件生产
- 光电子器件的生产
- 用于数据中心
- 5G 网络设备生产
- 自动驾驶汽车设备生产
- 可再生能源设备生产
- 电子战设备生产
- 智能照明制造
PECVD 设备的优势
- 沉积温度低
- 在不平整表面上具有良好的一致性和阶跃覆盖率
- 更严格地控制薄膜工艺
- 沉积速率高
- 适用于制造具有不同成分和微观结构的薄膜，可根据深度不断改变薄膜特性
- 沉积速率高，大大高于其他传统真空技术
- 可对不同形状的基底（包括三维基底）进行均匀镀膜
- 沉积的薄膜机械应力小
- 良好的共形台阶覆盖率，台阶边缘和平面上的薄膜厚度具有极佳的均匀性
- 沉积的薄膜具有良好的介电性能
- 高效的电气性能和极高标准的接合性能
我们的 PECVD 设备是满足您所有薄膜沉积需求的经济高效的解决方案。我们拥有丰富的产品线，可为您提供适合您需求的标准解决方案，而对于更独特的应用，我们的定制设计服务将帮助我们满足您的特定要求。
FAQ
什么是 PECVD 方法？
PECVD（等离子体增强化学气相沉积）是半导体制造中的一种工艺，用于在微电子设备、光伏电池和显示面板上沉积薄膜。在 PECVD 过程中，前驱体以气态进入反应室，在等离子反应介质的帮助下，前驱体在比 CVD 低得多的温度下解离。PECVD 系统具有出色的薄膜均匀性、低温处理和高产能。随着对先进电子设备需求的不断增长，PECVD 系统将在半导体行业发挥越来越重要的作用。
PECVD 有哪些用途？
PECVD（等离子体增强化学气相沉积法）广泛应用于半导体行业的集成电路制造，以及光伏、摩擦学、光学和生物医学领域。它用于沉积微电子器件、光伏电池和显示面板的薄膜。PECVD 可生产出普通 CVD 技术无法生产的独特化合物和薄膜，以及具有高耐溶剂性和耐腐蚀性、化学稳定性和热稳定性的薄膜。它还可用于生产大表面的均质有机和无机聚合物，以及用于摩擦学应用的类金刚石碳（DLC）。
PECVD 有哪些优势？
PECVD 的主要优点是能够在较低的沉积温度下运行，在不平整的表面上提供更好的一致性和阶跃覆盖率，更严格地控制薄膜工艺，以及较高的沉积速率。在传统的 CVD 温度可能会损坏涂覆设备或基底的情况下，PECVD 却能成功应用。通过在较低温度下工作，PECVD 在薄膜层之间产生的应力较小，可实现高效的电气性能和高标准的接合。
ALD 和 PECVD 的区别是什么？
ALD 是一种薄膜沉积工艺，可实现原子层厚度分辨率、高纵横比表面的出色均匀性和无针孔层。这是通过在自限制反应中连续形成原子层来实现的。另一方面，PECVD 将源材料与一种或多种挥发性前驱体混合，使用等离子体对源材料进行化学作用和分解。这种工艺使用热量和较高的压力，可产生重现性更高的薄膜，薄膜厚度可通过时间/功率来控制。这些薄膜的化学计量性更高，密度更大，能够生长出更高质量的绝缘体薄膜。
PECVD 和溅射有什么区别？
PECVD 和溅射都是用于薄膜沉积的物理气相沉积技术。PECVD 是一种扩散气体驱动工艺，可生成非常高质量的薄膜，而溅射则是一种视线沉积。PECVD 能更好地覆盖凹凸不平的表面，如沟槽、墙壁和高保形度表面，并能生产出独特的化合物和薄膜。另一方面，溅射有利于沉积多种材料的精细层，是制造多层和多级涂层系统的理想选择。PECVD 主要用于半导体工业、摩擦学、光学和生物医学领域，而溅射主要用于电介质材料和摩擦学应用。
获取报价
我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系！
相关文章
直立式与胸式 ULT 冷冻机：如何为实验室选择合适的配置
比较直立式和柜式超低温冷冻箱对实验室的影响：温度稳定性、工作流程效率和成本分析，以保护敏感样品。
阅读更多
ULT 冷冻机如何防止微生物样本的灾难性损失
ULT 冷冻柜通过先进的温度控制、污染预防和紧急备用系统来保护微生物样本，防止灾难性损失。
阅读更多
ULT 冷冻机如何保护遗传学和药物开发领域的科学发现
ULT 冷冻机可保持 DNA、蛋白质和细胞系在零下 80°C 的温度下保存，防止样本降解，确保研究的有效性，从而为基因和制药研究提供保障。
阅读更多
保存不可替代的样品：ULT 冷冻机如何保护各行各业的关键样本
零下 80°C 的超低温冷冻箱可防止生物样本、疫苗和研究材料降解，确保各行业的长期存活。
阅读更多
聚四氟乙烯垫片：法兰密封的全面解决方案
聚四氟乙烯（PTFE）垫片因其独特的化学稳定性和耐高温性，已成为法兰密封领域的理想选择。
阅读更多
选择大型光学窗口的因素
选择大型光学窗口的注意事项，包括材料、抛光和涂层。
阅读更多
电子束蒸发涂层技术和材料选择
深入探讨电子束蒸发涂层技术的原理和应用，包括材料选择和各种应用领域。
阅读更多
电子束蒸发：先进的薄膜制造
探讨电子束蒸发在薄膜生产中的技术和应用。
阅读更多
电子束蒸发涂层：原理、特点和应用
深入分析电子束蒸发涂层技术及其优缺点和在薄膜制造中的应用。
阅读更多
真空镀膜中的电子束蒸发技术
深入了解电子束蒸发及其在真空镀膜工艺中的类型、优点和缺点。
阅读更多
真空蒸发系统综合概述
深入了解真空蒸发系统及其原理、组件和应用。
阅读更多
了解蒸发电镀、溅射电镀和离子镀
详细比较蒸发电镀、溅射电镀和离子电镀技术及其原理、类型和特点。
阅读更多
在真空沉积设备中开发和应用钽所面临的挑战
本文讨论了钽在真空沉积设备中的作用，重点关注其特性、制造挑战及其在 OLED 屏幕生产等行业中的关键应用。
阅读更多
探索各种真空镀膜技术：蒸发、溅射和离子镀
本文将深入探讨不同的真空镀膜技术，重点是蒸发、溅射和离子镀，详细介绍其原理、优势和应用。
阅读更多
蒸发涂层的蒸发源类型
探索薄膜沉积中使用的不同蒸发源，包括灯丝、坩埚和蒸发舟。
阅读更多
薄膜沉积中平面硅靶和旋转硅靶的比较
深入比较平面硅靶和旋转硅靶的优缺点，重点关注它们在薄膜沉积技术中的特点和应用场景。
阅读更多
光伏组件回收中的新兴绿色溶剂
探索光伏组件回收中向绿色溶剂的转变，重点关注深共晶溶剂及其优势。
阅读更多
Understanding Hot Isostatic Pressing in PVD Sputtering Targets
Explores the role of hot isostatic pressing in enhancing the quality and uniformity of PVD sputtering targets, focusing on manufacturing techniques and benefits.
阅读更多
用于装饰涂层的溅射靶材
概述装饰涂层中使用的各种溅射靶材的独特性能和应用。
阅读更多
磁控溅射靶材的综合分类与应用
本文详细介绍了各行业磁控溅射靶材的分类、应用和原理。
阅读更多