基底对薄膜的影响是显著和多方面的，会影响到薄膜特性和性能的各个方面。基底不仅为薄膜沉积提供表面，还在沉积过程中和沉积后与薄膜相互作用，影响薄膜的结构、质量和功能。
1.对薄膜生长和质量的影响：
基底在薄膜生长的初始阶段起着至关重要的作用，尤其是在成核和薄膜形成的早期阶段。基底和沉积原子之间的相互作用会影响薄膜的微观结构和附着力。例如，惰性气体的电离和基底周围等离子体的穿透可导致离子轰击，通过促进更好的附着力和更密集的原子堆积来提高薄膜的质量。基底的特性，如化学成分、表面粗糙度和温度，会对成核和生长过程产生重大影响，从而导致薄膜特性的变化。2.对薄膜特性的影响：
基底也会影响薄膜的电气、光学和机械特性。例如，薄膜的导电性会受到基底尺寸效应的影响，即薄膜中电荷载流子的平均自由路径较短，加上缺陷和晶界散射的增加，会降低导电性。当基底引入额外的散射中心或改变薄膜的微观结构时，这种效应尤为明显。
3.在沉积过程中的作用：
基底的选择及其特性可决定最有效的沉积技术和参数。例如，沉积速率和基底温度是必须仔细控制的关键参数，以确保均匀的薄膜厚度和理想的薄膜特性。基底温度尤其会影响表面吸附物质的流动性，从而影响薄膜的生长模式和结构。在某些情况下，基底加热或冷却可能是优化薄膜特性所必需的，这突出了基底在沉积过程中所起的积极作用。
4.增强表面特性：
