薄膜沉积设备用于制造业在基底上形成薄膜涂层。这些涂层用于许多光电子、固态设备和医疗产品。薄膜沉积设备一般采用物理气相沉积(PVD)或化学气相沉积(CVD)技术。物理气相沉积法包括热蒸发和溅射,而化学气相沉积法包括等离子体增强和低压化学气相沉积。薄膜沉积设备可用于制造耐用、抗划伤、可增加或减少导电性或信号传输的涂层。
薄膜沉积设备用于制造业在基底上形成薄膜涂层。这些涂层用于许多光电子、固态设备和医疗产品。薄膜沉积设备一般采用物理气相沉积(PVD)或化学气相沉积(CVD)技术。物理气相沉积法包括热蒸发和溅射,而化学气相沉积法包括等离子体增强和低压化学气相沉积。薄膜沉积设备可用于制造耐用、抗划伤、可增加或减少导电性或信号传输的涂层。
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