简而言之，光学镀膜由精确选择的材料制成，包括金属氧化物（如硅化合物）、氮化物（如氮化钛）、氟化物、纯金属（如金）以及特种碳材料。选择特定材料是基于其光学特性——主要是其折射率——以及与所选沉积工艺（如物理气相沉积或化学气相沉积）的兼容性。
关键的见解是，光学镀膜并非关乎单一的“最佳”材料。而是关于策略性地分层具有不同折射率的各种材料，以高度受控的方式弯曲、反射或透射光线，从而实现特定目标。
材料选择的核心原则
要理解为什么使用某些材料，首先必须了解光学镀膜的目标。主要目的是控制光线如何与表面相互作用。
折射率的核心作用
光学镀膜材料最重要的单一特性是其折射率。这个数值决定了材料弯曲光线的程度。
通过堆叠具有交替高和低折射率的超薄材料层，我们可以产生干涉效应。这些效应使我们能够设计出抗反射、高反射或能通过或阻挡特定波长光的镀膜。
耐用性和环境适应性
材料还必须能够承受其操作环境。硬度、耐磨性以及在温度和湿度范围内的稳定性等因素对于长期性能至关重要。
光学镀膜的常见材料类别
用于光学镀膜的材料通常分为几个关键家族，每个家族都有其独特的特性。
金属氧化物
氧化物是光学镀膜行业的中流砥柱。它们提供广泛的折射率范围，并且通常坚硬耐用。
像硅化合物（例如二氧化硅，SiO₂）这样的材料提供低折射率，而二氧化钛（TiO₂）等则提供高折射率。
金属氟化物
氟化物，如氟化镁（MgF₂），因具有非常低的折射率而备受青睐。这使得它们在抗反射镀膜中作为外层非常有用。虽然它们有时比氧化物更软，但其光学性能非常出色。
氮化物
氮化物以其极高的硬度和耐用性而闻名。例如，氮化钛（TiN）常用于必须承受显著物理磨损同时保持特定光学或导电特性的镀膜。
纯金属
当目标是高反射率时，会使用金属。一层薄薄的金属可以形成出色的镜子。
金（Au）、银（Ag）和铝（Al）是最常见的选择。如前所述，铂族贵金属也被使用，因为它们不易氧化，确保反射表面随时间保持稳定。
碳化合物
特种碳材料，特别是类金刚石碳（DLC），可以形成极其坚硬且低摩擦的表面。这些通常用作暴露于元件的红外窗口等恶劣环境光学元件的保护外层。
镀膜方法如何影响材料选择
制造过程本身决定了哪些材料可以有效地使用。两种主要方法是物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）。
物理气相沉积 (PVD)
PVD技术，包括溅射镀膜，涉及物理轰击源材料（“靶材”）以使其汽化，使其沉积到基板上。
这种方法用途广泛，非常适用于各种材料，包括金和钛等纯金属，以及氧化物和氮化物。
化学气相沉积 (CVD)
CVD使用前驱体气体在基板表面反应形成所需的镀膜。此过程非常适合制造高度均匀和致密的层。
它特别适用于硅化合物、碳（DLC）和氮化物等材料。CVD还允许采用先进技术，如掺杂，即引入其他元素来微调镀膜的性能。
理解权衡
没有一种材料适用于所有应用。每种选择都涉及平衡相互竞争的因素。
性能与耐用性
光学性能最理想的材料可能不是最耐用的。例如，某些氟化物为抗反射提供了极佳的折射率，但比坚固的金属氧化物更软，更容易损坏。
波长特异性
材料的光学特性，特别是其透明度和折射率，会随光波长而变化。为可见光设计的镀膜在紫外线（UV）或红外线（IR）光谱中性能不佳，反之亦然。
成本和复杂性
材料成本差异很大。金和铂等贵金属本身就很昂贵。此外，制造具有数十个交替层的
为您的目标做出正确的选择
您的应用决定了理想的材料成分。
- 如果您的首要重点是最大反射率（镜子）： 您的最佳选择将是保护性铝、银或金等金属的薄层。
- 如果您的首要重点是抗反射： 您将需要由金属氧化物和氟化物等高折射率和低折射率材料交替组成的多层堆栈。
- 如果您的首要重点是极端耐用性： 您应该考虑氮化物（氮化钛）等硬质材料或保护性的类金刚石碳外层。
归根结底，为光学镀膜选择正确的材料是一个深思熟虑的工程决策，它平衡了光学物理学与现实世界的物理要求。
摘要表：
| 材料类别 | 常见示例 | 关键特性 | 常见应用 |
|---|---|---|---|
| 金属氧化物 | 二氧化硅 (SiO₂)，二氧化钛 (TiO₂) | 广泛的折射率范围，坚硬，耐用 | 抗反射、高反射镀膜 |
| 金属氟化物 | 氟化镁 (MgF₂) | 极低的折射率，出色的光学性能 | 抗反射镀膜的外层 |
| 氮化物 | 氮化钛 (TiN) | 极高的硬度、耐用性、耐磨性 | 耐用的光学和导电镀膜 |
| 纯金属 | 金 (Au)，银 (Ag)，铝 (Al) | 高反射率，稳定（贵金属） | 镜子、反射表面 |
| 碳化合物 | 类金刚石碳 (DLC) | 极其坚硬，低摩擦 | 恶劣环境下的保护层 |
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