光学镀膜通常由多种材料制成,包括金属、氧化物和介电化合物。选择这些材料是因为它们具有特定的光学特性,如反射率、透射率、耐久性和抗褪色或腐蚀性。
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金属:铝、金和银等金属因其高反射率而常用于光学镀膜。铝因其耐久性和抗褪色性而常用于反射涂层和干涉膜。金和银虽然反射率高,但由于其柔软性和易褪色性,可能需要额外的保护涂层。这些金属可用于激光光学和装饰膜等应用。
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氧化物:氧化锌、二氧化钛和二氧化硅等氧化物常用于光学镀膜。这些材料因其透明度和耐久性而备受青睐。它们常用于抗反射涂层,有助于最大限度地减少反射和提高透光率。例如,二氧化钛可用于低辐射(低辐射)玻璃镀膜,这种镀膜可将热量反射回热源,有助于保持室内温度和防止紫外线褪色。
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介电化合物:氟化镁和氮化硅等介电性材料用于制造多层镀膜,可实现特定的光学特性。这些材料可用于太阳能接收器的高反射涂层和激光光学的干涉滤光片等应用。电介质涂层还可用作金属膜的保护层,增强其耐久性和抗环境退化能力。
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溅射靶材:随着低辐射玻璃和其他镀膜光学产品使用量的增加,生产光学镀膜时用于沉积薄膜的溅射靶材的需求也在增加。这些靶材由上述材料制成,是在各种基底上涂覆涂层的物理气相沉积(PVD)工艺中必不可少的材料。
总之,光学镀膜使用一系列材料,包括具有反射特性的金属、具有透明度和耐久性的氧化物以及能够产生特定光学效果的介电化合物。这些材料是根据所需的光学特性和具体应用(如建筑玻璃、激光光学、太阳能电池板和光学数据存储设备)来选择的。
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