可进行溅射镀膜的金属包括金、碳、钨、铱、铬、铂、钯、银、氧化铝、氧化钇、氧化铟锡(ITO)、氧化钛、氮化钽和钆。选择这些材料是因为它们具有特定的特性,如导电性、晶粒度以及与 EDX 等分析技术的兼容性。
金 是历史上最常用的溅射镀膜材料,因为它具有高导电性和小晶粒度,非常适合高分辨率成像。在对导电性和成像干扰最小有严格要求的应用中,金尤其受到青睐。
碳 在需要进行能量色散 X 射线 (EDX) 分析时使用,因为它的 X 射线峰值不会与其他元素的峰值相冲突,从而确保准确分析样品的元素组成。
钨、铱和铬 是用于溅射镀膜的新型材料,尤其是在需要超高分辨率成像时。这些金属的晶粒尺寸甚至比金更细,从而提高了图像的分辨率和清晰度。
铂、钯和银 银具有可逆性的优点,这在某些实验装置中特别有用,因为在这些装置中可能需要在不损坏样品的情况下去除或改变涂层。
氧化铝、氧化钇、氧化铟锡(ITO)、氧化钛、氮化钽和钆是用于溅射涂层的其他材料。 是用于溅射镀膜的其他材料。选择这些材料是因为它们具有特定的特性,如耐化学腐蚀性、导电性和光学特性。例如,ITO 具有透明性和导电性,是电子显示器的理想材料。
总之,选择何种金属进行溅射镀膜取决于应用的具体要求,包括对导电性、分辨率、与分析技术的兼容性以及镀膜材料的物理或化学特性的需求。
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