溅射镀膜是一种在表面沉积一薄层金属的工艺。这种技术有多种应用，包括显微镜和分析技术。选择何种金属进行溅射镀膜取决于多种因素，如导电性、晶粒大小以及与特定分析方法的兼容性。
哪些金属可以进行溅射镀膜？5 种基本选择说明
1.金
金历来是最常见的溅射镀膜材料。金具有高导电性和小晶粒度，是高分辨率成像的理想材料。在对导电性和成像干扰最小至关重要的应用中，金尤其受青睐。
2.碳
需要进行能量色散 X 射线（EDX）分析时，可使用碳。它的 X 射线峰值不会与其他元素的峰值相冲突，从而确保准确分析样品的元素组成。
3.钨、铱和铬
钨、铱和铬是用于溅射镀膜的新型材料。这些金属的晶粒尺寸比金更细，从而提高了图像的分辨率和清晰度。在需要超高分辨率成像时，它们尤其有用。
4.铂、钯和银
铂、钯和银也可用于溅射镀膜。银具有可逆性的优点，这在某些实验装置中特别有用，因为在这些装置中可能需要在不损坏样品的情况下去除或改变涂层。
5.氧化铝、氧化钇、氧化铟锡（ITO）、氧化钛、氮化钽和钆
氧化铝、氧化钇、氧化铟锡（ITO）、氧化钛、氮化钽和钆是用于溅射镀膜的其他材料。选择这些材料是因为它们具有特定的特性，如耐化学腐蚀性、导电性和光学特性。例如，ITO 具有透明性和导电性，是电子显示器的理想材料。
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