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直流磁控溅射法是最广泛使用的标本镶嵌方法，尤其适用于电子显微镜。这种方法因其快速、廉价的特点而备受青睐，而且由于对样品施加的热量极低，因此适用于易碎样品。

直流磁控溅射：

这种技术使用磁控管产生等离子体，将金属或碳溅射到样品上。该过程在真空室中进行，目标材料（通常为金、铂或金钯合金）受到高能粒子的轰击，导致原子喷射并沉积到样品上。这种涂层为样品提供导电性，这对电子显微镜至关重要，因为它可以防止充电并提高图像质量。

1. 直流磁控溅射的优势：热量应用最小：
2. 磁控溅射与其他会对样品产生大量热量的方法不同，磁控溅射的热量极低，因此适用于易碎和对热敏感的样品。涂层均匀：
3. 该方法可提供非常均匀的涂层，这对于在电子显微镜中获得高分辨率图像至关重要。多功能性：

可用于多种材料，包括陶瓷和聚合物等非导电材料。其他镀膜方法：

虽然直流磁控溅射是最常见的方法，但也使用其他方法，如碳或金属蒸发、低角度阴影、电子束蒸发和离子束溅射。不过，这些方法可能更昂贵，或需要更精密的设备。

涂层在电子显微镜中的重要性：