实验室材料
高纯度钛 (Ti) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒
货号 : LM-TI
价格根据 规格和定制情况变动
- 化学式
- Ti
- 纯度
- 3N-5N
- 形状
- 圆盘 / 金属丝 / 块 / 粉末 / 板 / 柱靶 / 台阶靶 / 定制
运输:
联系我们 获取运输详情 享受 准时发货保证.
我们以合理的价格提供实验室用钛(Ti)材料。我们的专长在于生产和定制不同纯度、形状和尺寸的钛 (Ti) 材料,以满足您的独特要求。
我们提供各种规格和尺寸的钛 (Ti) 产品,如溅射靶材(圆形、方形、管状、不规则形)、涂层材料、圆柱、圆锥、颗粒、箔、粉末、3D 打印粉末、纳米粉末、线棒、锭和块等。
详细信息
关于钛 (Ti)
钛是一种多功能金属,具有高强度、低密度和优异的耐腐蚀性等独特性能。由于这些特性,钛已被广泛应用于各种领域,尤其是航空航天和军事工业。
二氧化钛是最常见的钛化合物之一,被广泛用于生产各种用途的白色颜料。此外,钛还是许多重要商业化合物的基础,包括用于电子和介电配方以及红宝石和蓝宝石激光晶体生长的钛酸酯。
钛有多种形态,包括用于蒸发源材料的元素或金属形态,如颗粒、棒、丝和粒。此外,钛纳米颗粒和纳米粉末可为特殊应用提供超高表面积。
钛氧化物也有粉末和致密颗粒形式,可用于光学涂层和薄膜应用等。不过,它们往往不溶于水。钛氟化物是钛的另一种不溶性形式,可用于不需要氧气的应用领域,如冶金、化学和物理气相沉积以及某些光学涂层。
最后,钛也有可溶形式,包括氯化物、硝酸盐和醋酸盐,它们可以按特定的化学计量生产成溶液。总之,钛及其各种形式和化合物为材料科学家和其他在不同领域工作的专业人士提供了广泛的可能性。
成分质量控制
- 原材料成分分析
- 通过使用ICP和 GDMS,对金属杂质含量进行检测分析,确保符合纯度标准;
非金属杂质通过碳硫分析仪、氮氧分析仪等设备检测。 - 金相探伤分析
- 使用探伤设备对靶材进行检验,确保产品内部无缺陷、缩孔;
通过金相检测,分析靶材内部晶粒组织,确保晶粒细小、致密。 - 外观尺寸检查
- 产品尺寸采用千分尺、精密卡尺测量,确保符合图纸;
使用表面清洁度计测量产品的表面光洁度和清洁度。
传统溅射靶材尺寸
- 准备过程
- 热等静压 压制、真空熔炼等
- 溅射靶材形状
- 平面溅射 靶材、多弧溅射靶材、阶梯溅射靶材、异型 溅射靶材
- 圆形溅射靶材尺寸
- 直径:25.4mm / 50毫米/50.8毫米/60毫米/76.2毫米/80毫米/100毫米/101.6毫米/152.4毫米
厚度: 3mm / 4mm / 5mm / 6mm / 6.35mm
尺寸可定制。 - 方形溅射靶材尺寸
- 50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm,尺寸可定制
可用的金属形式
金属形式细节
我们生产元素周期表中列出的几乎所有金属,范围广泛形式和纯度,以及标准尺寸和尺寸。 我们还可以生产定制产品以满足客户的特定要求,例如尺寸、形状、表面积、成分等。 以下列表提供了表格示例我们提供,但并不详尽。 如果您需要实验室耗材,请联系我们直接索取报价。
- 平面/平面形式:板、薄膜、箔、微箔、微叶、纸、板、带、片材、带材、胶带、晶圆
- 预成型形状:阳极、球、带、棒、船、螺栓、煤块、阴极、圆形、线圈、坩埚、晶体、立方体、杯子、圆柱体、圆盘、电极、纤维、细丝、法兰、网格、透镜、心轴、螺母、零件、棱镜、圆盘、环、棒、形状、护罩、套筒、弹簧、方形、溅射靶、棒、管子、垫圈、窗户、电线
- 微型尺寸:珠子、小块、胶囊、碎片、硬币、灰尘、薄片、谷物、颗粒、微粉、针、颗粒、卵石、颗粒、针、丸、粉末、刨花、弹丸、子弹、球体、药片
- 宏观尺寸:钢坯、大块、切屑、碎片、锭、块、金块、碎片、 冲孔、岩石、废料、段、车削
- 多孔和半多孔:织物、泡沫、纱布、蜂窝、网、海绵、羊毛
- 纳米级:纳米粒子、纳米粉末、纳米箔、纳米管、纳米棒、纳米棱柱
- 其他:浓缩物、墨水、糊状物、沉淀物、残留物、样品、标本
KinTek专注于高纯和超高纯材料的制造纯度范围为 99.999% (5N)、99.9999% (6N)、99.99995% (6N5),在某些情况下,高达 99.99999% (7N)。 我们的材料有特定等级可供选择,包括 UP/UHP、半导体、电子、沉积、光纤和 MBE 牌号。 我们的高纯度金属、氧化物和化合物经过专门设计,以满足严格的要求 高科技应用,非常适合用作掺杂剂和前体材料 用于薄膜沉积、半导体晶体生长以及合成 纳米材料。 这些材料可用于先进的微电子、太阳能电池、燃料 电池、光学材料和其他尖端应用。
包装
我们的高纯度材料采用真空包装,每种材料都有特定的包装 根据其独特的特点量身定制。 例如,我们的 Hf 溅射靶材带有外部标记 并贴上标签,以便于有效识别和质量控制。 我们非常小心 防止在储存或运输过程中可能发生的任何损坏。
FAQ
什么是溅射靶材?
什么是高纯度材料?
什么是真空电弧熔炼工艺?
什么是高纯金属?
如何制造溅射靶材?
什么是真空电弧重熔 (VAR) 炉?
高纯金属有哪些用途?
溅射靶材有哪些用途?
真空电弧熔炼炉如何工作?
使用高纯金属有哪些好处?
什么是电子溅射靶材?
真空电弧熔炼炉有哪些应用?
哪些行业通常使用高纯金属?
溅射靶材的使用寿命有多长?
使用真空电弧熔炼炉有哪些优势?
使用真空电弧熔炼炉时应遵守哪些安全预防措施?
4.9
out of
5
KINTEK's Titanium (Ti) products are top-notch. They've consistently delivered high-quality materials that meet our stringent requirements.
4.8
out of
5
The Titanium (Ti) sputtering targets we received from KINTEK were of exceptional quality. The purity and grain size were excellent, leading to superb thin film properties.
4.7
out of
5
KINTEK's Titanium (Ti) powders are highly pure and consistent. They've enabled us to produce high-performance components with remarkable strength and corrosion resistance.
4.9
out of
5
We've been using KINTEK's Titanium (Ti) wires for years. They're incredibly durable and have significantly reduced our downtime due to breakage.
4.8
out of
5
KINTEK's Titanium (Ti) blocks are perfect for our high-temperature applications. They provide exceptional thermal conductivity and withstand extreme conditions.
4.7
out of
5
The Titanium (Ti) granules from KINTEK are consistently uniform in size and shape. They've improved the efficiency of our manufacturing process significantly.
4.9
out of
5
KINTEK's Titanium (Ti) sputtering targets have enabled us to produce thin films with superior properties. The purity and uniformity of their materials are truly impressive.
4.8
out of
5
We've been using KINTEK's Titanium (Ti) powders for our 3D printing applications. They provide excellent flowability and produce high-quality parts with intricate details.
4.7
out of
5
The Titanium (Ti) nanometer powders from KINTEK have been instrumental in our research on advanced materials. Their ultra-high surface area has enabled us to achieve remarkable results.
4.9
out of
5
KINTEK's Titanium (Ti) wire rods are incredibly strong and flexible. They've been a game-changer for our welding operations, reducing downtime and improving productivity.
4.8
out of
5
We've been using KINTEK's Titanium (Ti) ingots for our casting processes. They're highly pure and provide excellent yields of high-quality castings.
4.7
out of
5
KINTEK's Titanium (Ti) blocks are perfect for our high-pressure applications. They exhibit exceptional strength and durability, ensuring reliable performance under extreme conditions.
4.9
out of
5
KINTEK's Titanium (Ti) sputtering targets have been a revelation for our thin film deposition processes. The purity and uniformity of their materials have resulted in outstanding film properties.
4.8
out of
5
We've been using KINTEK's Titanium (Ti) powders for our additive manufacturing applications. They're highly consistent and produce parts with exceptional mechanical properties.
4.7
out of
5
The Titanium (Ti) nanometer powders from KINTEK have been a valuable addition to our research on energy storage materials. Their ultra-high surface area has facilitated the development of high-performance electrodes.
4.9
out of
5
KINTEK's Titanium (Ti) wire rods are incredibly versatile. We've used them for various applications, including welding, brazing, and electrical connections, with excellent results.
4.8
out of
5
We've been using KINTEK's Titanium (Ti) ingots for our forging operations. They're highly pure and produce forged components with exceptional strength and toughness.
4.7
out of
5
KINTEK's Titanium (Ti) blocks are perfect for our machining applications. They're easy to work with and produce parts with excellent dimensional accuracy and surface finish.
PDF - 高纯度钛 (Ti) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒
disabled = false, 3000)"> 下载目录 实验室材料
disabled = false, 3000)"> 下载目录 溅射靶材
disabled = false, 3000)"> 下载目录 高纯度材料
disabled = false, 3000)"> 下载目录 真空电弧熔炼炉
disabled = false, 3000)"> 下载目录 高纯金属
disabled = false, 3000)"> 下载请求报价
我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系!
相关产品
高纯二氧化钛 (TiO2) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒
您在寻找高品质的二氧化钛材料吗?我们量身定制的产品可满足任何实验室的独特要求。立即浏览我们的各种形状、尺寸和纯度的产品。
相关文章
热等静压工艺实现最佳微观结构均匀性
热等静压(HIP)是一种在高温高压下对材料进行增密的技术。该工艺是将材料放入密封容器中,然后用惰性气体加压并加热至高温。
冷等静压技术:概述及其工业应用
冷等静压(CIP)是一种利用液体压力压实粉末的材料加工方法。它类似于金属模具加工,以帕斯卡定律为基础。
PVD 溅射靶材和热等静压:第 1 部分
探讨使用热等静压法生产高质量溅射靶材以及 PVD 溅射技术的应用。
先进的表面处理:钛 CVD 涂层
探讨钛合金 CVD 涂层的优点和应用,重点是耐磨性、耐腐蚀性和热稳定性。
PVD 溅射靶材和热等静压:第二部分
本文讨论了 PVD 溅射靶材的制造和优化,重点是热等静压和高压热处理等技术。
了解和预防磁控溅射靶材中毒
讨论磁控溅射中的靶材中毒现象、其原因、影响和预防措施。
了解溅射沉积技术
深入了解溅射沉积技术及其机制、类型和应用。
使用交流电源沉积 TiN 薄膜的挑战与解决方案
讨论了在交流电源下生长 TiN 薄膜的困难,并提出了直流溅射和脉冲直流等解决方案。