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高纯度钛 (Ti) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

实验室材料

高纯度钛 (Ti) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

货号 : LM-TI

价格根据 规格和定制情况变动


化学式
Ti
纯度
3N-5N
形状
圆盘 / 金属丝 / 块 / 粉末 / 板 / 柱靶 / 台阶靶 / 定制
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运输:

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我们以合理的价格提供实验室用钛(Ti)材料。我们的专长在于生产和定制不同纯度、形状和尺寸的钛 (Ti) 材料,以满足您的独特要求。

我们提供各种规格和尺寸的钛 (Ti) 产品,如溅射靶材(圆形、方形、管状、不规则形)、涂层材料、圆柱、圆锥、颗粒、箔、粉末、3D 打印粉末、纳米粉末、线棒、锭和块等。

详细信息

钛(Ti)溅射靶材
钛(Ti)溅射靶材
钛(Ti)溅射靶材
钛(Ti)溅射靶材
钛(Ti)棒
钛(Ti)棒
钛(Ti)棒
钛(Ti)棒
钛 (Ti) 颗粒
钛(Ti)颗粒
钛(Ti)颗粒
钛(Ti)颗粒
海绵钛块
海绵钛块
海绵钛块
海绵钛块

关于钛 (Ti)

钛是一种多功能金属,具有高强度、低密度和优异的耐腐蚀性等独特性能。由于这些特性,钛已被广泛应用于各种领域,尤其是航空航天和军事工业。

二氧化钛是最常见的钛化合物之一,被广泛用于生产各种用途的白色颜料。此外,钛还是许多重要商业化合物的基础,包括用于电子和介电配方以及红宝石和蓝宝石激光晶体生长的钛酸酯。

钛有多种形态,包括用于蒸发源材料的元素或金属形态,如颗粒、棒、丝和粒。此外,钛纳米颗粒和纳米粉末可为特殊应用提供超高表面积。

钛氧化物也有粉末和致密颗粒形式,可用于光学涂层和薄膜应用等。不过,它们往往不溶于水。钛氟化物是钛的另一种不溶性形式,可用于不需要氧气的应用领域,如冶金、化学和物理气相沉积以及某些光学涂层。

最后,钛也有可溶形式,包括氯化物、硝酸盐和醋酸盐,它们可以按特定的化学计量生产成溶液。总之,钛及其各种形式和化合物为材料科学家和其他在不同领域工作的专业人士提供了广泛的可能性。

成分质量控制

原材料成分分析
通过使用ICP和 GDMS,对金属杂质含量进行检测分析,确保符合纯度标准;

非金属杂质通过碳硫分析仪、氮氧分析仪等设备检测。
金相探伤分析
使用探伤设备对靶材进行检验,确保产品内部无缺陷、缩孔;

通过金相检测,分析靶材内部晶粒组织,确保晶粒细小、致密。
外观尺寸检查
产品尺寸采用千分尺、精密卡尺测量,确保符合图纸;

使用表面清洁度计测量产品的表面光洁度和清洁度。

传统溅射靶材尺寸

准备过程
热等静压 压制、真空熔炼等
溅射靶材形状
平面溅射 靶材、多弧溅射靶材、阶梯溅射靶材、异型 溅射靶材
圆形溅射靶材尺寸
直径:25.4mm / 50毫米/50.8毫米/60毫米/76.2毫米/80毫米/100毫米/101.6毫米/152.4毫米
厚度: 3mm / 4mm / 5mm / 6mm / 6.35mm
尺寸可定制。
方形溅射靶材尺寸
50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm,尺寸可定制

可用的金属形式

金属形式细节

我们生产元素周期表中列出的几乎所有金属,范围广泛形式和纯度,以及标准尺寸和尺寸。 我们还可以生产定制产品以满足客户的特定要求,例如尺寸、形状、表面积、成分等。 以下列表提供了表格示例我们提供,但并不详尽。 如果您需要实验室耗材,请联系我们直接索取报价。

  • 平面/平面形式:板、薄膜、箔、微箔、微叶、纸、板、带、片材、带材、胶带、晶圆
  • 预成型形状:阳极、球、带、棒、船、螺栓、煤块、阴极、圆形、线圈、坩埚、晶体、立方体、杯子、圆柱体、圆盘、电极、纤维、细丝、法兰、网格、透镜、心轴、螺母、零件、棱镜、圆盘、环、棒、形状、护罩、套筒、弹簧、方形、溅射靶、棒、管子、垫圈、窗户、电线
  • 微型尺寸:珠子、小块、胶囊、碎片、硬币、灰尘、薄片、谷物、颗粒、微粉、针、颗粒、卵石、颗粒、针、丸、粉末、刨花、弹丸、子弹、球体、药片
  • 宏观尺寸:钢坯、大块、切屑、碎片、锭、块、金块、碎片、 冲孔、岩石、废料、段、车削
  • 多孔和半多孔:织物、泡沫、纱布、蜂窝、网、海绵、羊毛
  • 纳米级:纳米粒子、纳米粉末、纳米箔、纳米管、纳米棒、纳米棱柱
  • 其他:浓缩物、墨水、糊状物、沉淀物、残留物、样品、标本

KinTek专注于高纯和超高纯材料的制造纯度范围为 99.999% (5N)、99.9999% (6N)、99.99995% (6N5),在某些情况下,高达 99.99999% (7N)。 我们的材料有特定等级可供选择,包括 UP/UHP、半导体、电子、沉积、光纤和 MBE 牌号。 我们的高纯度金属、氧化物和化合物经过专门设计,以满足严格的要求 高科技应用,非常适合用作掺杂剂和前体材料 用于薄膜沉积、半导体晶体生长以及合成 纳米材料。 这些材料可用于先进的微电子、太阳能电池、燃料 电池、光学材料和其他尖端应用。

包装

我们的高纯度材料采用真空包装,每种材料都有特定的包装 根据其独特的特点量身定制。 例如,我们的 Hf 溅射靶材带有外部标记 并贴上标签,以便于有效识别和质量控制。 我们非常小心 防止在储存或运输过程中可能发生的任何损坏。

FAQ

什么是溅射靶材?

溅射靶材是溅射沉积过程中使用的一种材料,溅射沉积过程是将靶材分解成微小的颗粒,形成喷雾并覆盖在硅晶片等基底上。溅射靶材通常是金属元素或合金,但也有一些陶瓷靶材。它们有各种尺寸和形状,有些制造商还为大型溅射设备制造分段式靶材。由于溅射靶材能够高精度、均匀地沉积薄膜,因此在微电子、薄膜太阳能电池、光电子和装饰涂层等领域有着广泛的应用。

什么是高纯度材料?

高纯度材料是指不含杂质并具有高度化学均匀性的物质。这些材料对各行各业都至关重要,尤其是在先进的电子领域,因为杂质会严重影响设备的性能。高纯度材料可通过各种方法获得,包括化学纯化、气相沉积和分区精炼。例如,在制备电子级单晶金刚石时,必须使用高纯度的原料气体和高效的真空系统,才能达到理想的纯度和均匀性。

什么是真空电弧熔炼工艺?

真空电弧熔炼(VAR)是一种二次熔炼工艺,用于生产化学和机械均匀性高的金属锭,在航空航天、能源和核能等行业有重要应用。该工艺包括在真空下精炼液态金属并控制其凝固速率。它可用于纯化活性钛合金或锆合金,无需接触任何铸造耐火材料,也可用于提高钢和超级合金中的夹杂物清洁度。重熔后的圆柱形铸锭可重达数吨,真空电弧熔炼技术已彻底改变了特种冶金技术行业。

什么是高纯金属?

高纯金属是杂质极少的单元素材料,因此非常适合用于先进技术的研究、开发和生产。这些金属可用于制造先进陶瓷、电子传感器、高精度透镜和光学器件、LED、激光器、隔热涂层、等离子屏幕等。KINTEK 为研究和商业应用提供各种形态、成分、分散体、粒度和重量的高纯金属、二元和三元金属化合物。战略性特种金属用于高科技应用领域,因其加工精细而价格昂贵。

如何制造溅射靶材?

根据溅射靶材的特性及其应用,可采用多种制造工艺制造溅射靶材。这些工艺包括真空熔炼和轧制、热压、特殊冲压烧结工艺、真空热压和锻造方法。大多数溅射靶材可制成各种形状和尺寸,其中圆形或矩形最为常见。靶材通常由金属元素或合金制成,但也可使用陶瓷靶材。也可使用复合溅射靶材,由各种化合物制成,包括氧化物、氮化物、硼化物、硫化物、硒化物、碲化物、碳化物、晶体和复合混合物。

什么是真空电弧重熔 (VAR) 炉?

VAR 或真空电弧重熔是一种用于精炼和提高标准空气熔化、真空感应熔化或 ESR 重熔合金铸锭清洁度的工艺。它适用于航空航天、发电、国防、医疗和核能等行业中的钢、超合金、钛、锆及其合金。VAR 是一种在真空条件下对易损电极进行连续重熔的工艺,使用直流电在电极和铜模之间产生电弧。该工艺可去除溶解气体,减少不需要的微量元素,提高氧化物清洁度,并实现铜锭从下至上的定向凝固。

高纯金属有哪些用途?

高纯金属用于各种需要特定属性、性能和质量的先进技术中。它们用于制造荧光灯、等离子屏幕、LED、高精度透镜和光学器件、电子传感器、高级陶瓷、隔热涂层、激光器等。这些金属还可用于生产高质量的磁性、热电、荧光粉和半导体材料。KINTEK 提供各种形态、成分、分散体、粒度和重量的高纯金属、二元和三元金属化合物、磁性合金、金属氧化物、纳米材料和有机金属前体,可满足所有研究和商业应用的需要。

溅射靶材有哪些用途?

溅射靶材用于一种称为溅射的工艺,利用离子轰击靶材,将材料薄膜沉积到基底上。这些靶材在各个领域都有广泛的应用,包括微电子、薄膜太阳能电池、光电子和装饰涂层。它们可以在各种基底上高精度、高均匀度地沉积材料薄膜,是生产精密产品的理想工具。溅射靶材有各种形状和尺寸,可根据应用的具体要求进行专门设计。

真空电弧熔炼炉如何工作?

真空电弧熔炼炉的工作原理是在真空或低压气氛下利用电弧熔化材料。熔炉使用两个电极,其中一个是要熔化的材料。将电极靠拢,然后在电极之间产生电弧,使材料熔化。然后对熔炉进行抽真空以去除杂质,再将熔化的材料浇铸成所需的形状。这种工艺用于生产航空航天、电子和生物医学工程等行业使用的高纯度金属、合金和金属间化合物。

使用高纯金属有哪些好处?

使用高纯金属有几个好处。首先,由于不含可能导致材料性能变化的杂质,高纯金属具有稳定可靠的性能。其次,高纯度金属能够生产出高质量和高性能的产品,确保更好的功能性和耐用性。第三,其杂质含量低,可降低敏感应用中的污染风险。高纯金属还具有更好的导电性、导热性和耐腐蚀性。此外,高纯金属通常还具有更强的附着力,因此适用于各种涂层和薄膜沉积工艺。

什么是电子溅射靶材?

电子溅射靶材是铝、铜和钛等材料的薄盘或薄片,用于在硅晶片上沉积薄膜,以制造晶体管、二极管和集成电路等电子设备。这些靶材用于一种称为溅射的工艺中,通过离子轰击靶材,将靶材材料的原子从表面物理射出并沉积到基板上。电子溅射靶材在微电子生产中至关重要,通常要求高精度和高均匀性,以确保设备的质量。

真空电弧熔炼炉有哪些应用?

真空电弧熔炼炉通常用于生产高性能材料,如超级合金、特种钢和活性金属。这些材料通常需要高纯度和可控成分,而真空电弧熔炼可以实现这一点。该工艺尤其适用于航空航天、汽车和能源行业关键部件的生产,因为这些行业对高强度、耐腐蚀性和温度稳定性要求极高。真空电弧熔炼还可用于研发领域,生产少量用于测试和表征的特种合金。

哪些行业通常使用高纯金属?

高纯金属可广泛应用于各行各业。半导体和电子工业广泛使用高纯金属制造集成电路、微处理器和其他电子元件。航空航天工业依靠高纯度金属的轻质和高强度特性。光学和光伏产业利用高纯金属制造精密光学器件和太阳能电池。高纯金属在医疗设备、汽车部件、研究实验室和先进制造工艺中也发挥着重要作用。

溅射靶材的使用寿命有多长?

溅射靶材的使用寿命取决于材料成分、纯度和具体应用等因素。一般来说,靶材的溅射寿命可达几百到几千小时,但根据每次运行的具体条件,寿命会有很大差异。适当的处理和维护也可以延长靶材的使用寿命。此外,使用旋转溅射靶材可以延长运行时间并减少缺陷的发生,使其成为大批量生产过程中更具成本效益的选择。

使用真空电弧熔炼炉有哪些优势?

真空电弧熔炼炉有几个优点。首先,高真空环境可防止氧化和污染,从而获得高纯度的熔化金属。这对于生产有严格质量要求的材料尤为重要。其次,电弧产生的热量很高,可以快速有效地熔化金属。该过程可通过精确控制来实现特定的熔化参数,如温度、压力和冷却速度,从而有利于生产具有所需特性的合金。真空电弧熔炼炉在熔化金属的尺寸和形状方面也具有灵活性,因为消耗电极可以很容易地更换或修改。此外,该工艺还可选择性地去除气体和非金属夹杂物等杂质,进一步提高最终熔化金属的纯度和质量。

使用真空电弧熔炼炉时应遵守哪些安全预防措施?

使用真空电弧熔炼炉时,应遵守几项安全预防措施,以确保操作安全。首先,熔炉应由经过培训、熟悉设备、操作和安全规程的人员操作。在处理高温材料或操作熔炉时,应佩戴适当的个人防护设备,如耐热手套、安全护目镜和防火服。应定期检查和维护真空系统,以确保其正常功能并防止出现安全风险。必须遵守制造商关于真空电弧熔炼炉安全操作和维护的指导和说明。此外,应按照既定的安全准则和规定正确处理和处置消耗电极和熔化材料。应定期检查和维护窑炉,包括电气系统、冷却系统和气体处理组件,以确保运行安全可靠。
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