解释非晶硅 PECVD 沉积过程中爆膜形成的机理以及防止爆膜的解决方案。
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探讨开发和应用 PECVD 纳米涂层技术的主要障碍。
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为 MEMS 设备中的高质量氧化硅和氮化硅薄膜配置和优化 PECVD 工艺的指南。
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探索在 PECVD 中使用石墨舟实现高效电池涂层。
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探讨用于薄膜沉积的 PECVD 辉光放电的概念、特点和效果。
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概述 PECVD 工艺、设备结构和常见问题,重点介绍各种 PECVD 类型及其应用。
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PECVD 纳米涂层技术可提高各种电子设备的耐用性和可靠性。
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探讨各种 PECVD 纳米涂层应用,包括防水、防腐、抗菌、亲水和耐磨薄膜。
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This article discusses the application of carbon coatings to improve the performance of silicon-based anode materials in lithium-ion batteries.
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本文讨论了通过 CVD 制备的硅碳负极材料的关键技术方面,重点是其合成、性能改进和工业应用潜力。
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探讨硅基阳极的潜力,重点是气相沉积技术及其对电池性能和成本的影响。
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概述用于薄膜沉积的 CVD 工艺、组件和系统。
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详细比较了 LPCVD、PECVD 和 ICPCVD 技术,重点是原理、特点、优势和劣势。
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探讨真空镀膜技术的演变、方法和应用,重点是 PVD 及其对工业工具和模具的影响。
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分析不同氮化硅薄膜制备工艺对半导体制造中厚度控制精度的影响。
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本文回顾了石墨烯的制备方法,重点介绍了 CVD 技术、其转移技术和未来前景。
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概述 CVD 工艺和高纯度 PFA 管在半导体制造中的作用。
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探讨钛合金 CVD 涂层的优点和应用,重点是耐磨性、耐腐蚀性和热稳定性。
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概述用于生长单晶薄膜的各种涂层方法,如 CVD、PVD 和 Epitaxy。
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探索从等离子体增强到超高真空等各种 CVD 方法及其在半导体和材料科学中的应用。
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探讨用于表面涂层的 CVD 技术的优势、制约因素和工艺管理。
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全面探讨 CVD 技术、其原理、特点、分类、新进展以及在各个领域的应用。
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概述 CVD 技术和电子特种气体在半导体制造中的作用。
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Detailed analysis of the passivation layer thin film deposition methods in TOPCon cells, including PVD and CVD technologies.
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本文详细介绍了用于无机薄膜沉积的各种 CVD 和 PVD 方法,包括其工艺、应用和比较。
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探讨 CVD 在提高钙钛矿太阳能电池的性能和可扩展性方面的作用,重点介绍其优势和应用。
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为 NMR、MS、色谱、IR、UV、ICP、热重、XRD、TEM、SEM 及其他仪器准备样品的详细说明。
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本文讨论 XRF 光谱分析中的粉末压缩法,重点是样品制备技术和设备。
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准备 X 射线衍射实验样品的详细步骤和要求。
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关于制备和处理用于红外光谱分析的固体、液体和气体样品的详细指南。
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