射频溅射是一种生产高质量薄膜的高效技术。它具有多种优势，是许多应用的首选。
射频溅射的 6 大优势是什么？
1.提高薄膜质量和阶跃覆盖率
与蒸发法相比，射频溅射法在生产薄膜质量和阶跃覆盖率方面更胜一筹。这在需要精确、均匀沉积薄膜的应用中至关重要。
2.材料沉积的多功能性
这种技术可以处理多种材料，包括绝缘体、金属、合金和复合材料。它对绝缘目标特别有效，因为电荷积聚对其他方法来说是一个挑战。
3.3. 减少起电效应和电弧
使用频率为 13.56 MHz 的交流射频源有助于避免充电效应和减少电弧。这是因为等离子腔内每个表面的电场符号都会随射频而改变，从而防止阴极上产生恒定的负电压。
4.低压运行
射频溅射可在低压（1 至 15 mTorr）下运行，同时保持等离子体，从而提高效率。这种低压操作有利于形成高质量的致密薄膜。
5.广泛的应用范围
这种技术可用于溅射任何类型的薄膜，因此在各种工业和研究应用中具有很强的通用性。
6.利用射频二极管溅射技术提高性能
与传统的射频溅射相比，最近开发的射频二极管溅射技术具有更好的性能。它不需要磁约束，能提供最佳的涂层均匀性，并能最大限度地减少赛道侵蚀、靶材中毒和电弧等问题。
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