知识 什么是擦拭膜蒸馏工艺?高效分离的 5 个关键步骤
作者头像

技术团队 · Kintek Solution

更新于 2周前

什么是擦拭膜蒸馏工艺?高效分离的 5 个关键步骤

擦拭薄膜蒸馏法是一种分离挥发性化合物和非挥发性化合物的高效方法。它特别适用于高产量和高产出的情况。

该工艺的操作方法是在加热表面形成一层原油薄膜。这有利于挥发性成分在真空条件下快速蒸发。

高效分离的 5 个关键步骤

什么是擦拭膜蒸馏工艺?高效分离的 5 个关键步骤

1.输入原料

工艺的第一步是将原油引入抹膜蒸发器。这是通过设备顶部的进料口进行的。

通常使用自动定量泵。这样可以精确控制进料速度。

2.分配和薄膜形成

在蒸发器内部,转子叶片旋转并将原油均匀分布在圆柱形夹套的加热内表面上。

专门设计的刮板(也称为聚四氟乙烯辊)有助于形成并保持一层薄薄的油膜。即使是高粘度流体,这层薄膜也是高效传热的关键。

3.挥发性化合物的蒸发

加热表面上的油膜有利于挥发性较强的化合物快速蒸发。

热传导主要是传导性的。产生的蒸汽与转子叶片逆流或同流。

4.蒸汽和残留物分离

蒸发的蒸汽通过蒸汽出口排出机器。蒸发的水蒸气通过水蒸气出口排出,然后进入冷凝器进行冷却和收集。

挥发性较低或不挥发性的化合物(可能包括盐、叶绿素和蜡)则通过蒸发器底部的一个单独出口排出。

5.收集产品

在蒸发器底部,单独的接收容器收集高温残留物和冷凝蒸馏物。

这种分离确保了产品的不同,并可根据需要进一步加工或使用。

优点和应用

擦拭膜蒸馏具有多种优势。其中包括降低操作温度和压力、提高蒸发率和缩短停留时间。

这些优点使其在化工、食品和饮料、制药、生物技术和核工业等行业中特别有用。

该工艺还节省空间。它通常在一台机器内完成,减少了对额外设备的需求,节省了设施空间。

总之,抹膜蒸馏是一种分离液体混合物中成分的多功能有效方法。它尤其适用于大规模和高吞吐量的操作。

继续探索,咨询我们的专家

您准备好简化分离流程并提高生产能力了吗? KINTEK 的抹膜蒸馏技术旨在提供高效率和高产能,确保挥发性和非挥发性化合物的快速蒸发和精确分离。

我们先进的系统专为化工和制药等行业设计,提供节省空间的解决方案,降低操作温度和压力。

体验 KINTEK 带来的缩短停留时间和提高蒸发率的好处。立即联系我们,革新您的蒸馏工艺,提高您的生产标准!

相关产品

分子蒸馏

分子蒸馏

使用我们的分子蒸馏工艺,轻松提纯和浓缩天然产品。真空压力高、操作温度低、加热时间短,在实现出色分离的同时,还能保持材料的天然品质。立即了解我们的优势!

壁挂式水蒸馏装置

壁挂式水蒸馏装置

壁挂式水蒸馏装置可安装在墙上,旨在以较低的经济成本连续、自动、高效地生产优质蒸馏水。

5-50L 旋转蒸发器

5-50L 旋转蒸发器

使用 5-50L 旋转蒸发仪高效分离低沸点溶剂。它是化学实验室的理想之选,可提供精确、安全的蒸发过程。

20 升旋转蒸发器

20 升旋转蒸发器

20L 旋转蒸发仪可有效分离 "低沸点 "溶剂,是制药和其他行业化学实验室的理想之选。采用精选材料和先进的安全功能,确保工作性能。

2 升短程蒸馏

2 升短程蒸馏

使用我们的 2 升短路径蒸馏套件,轻松进行提取和提纯。我们的重型硼硅玻璃器皿、快速加热钵和精致的装配装置可确保高效、高质量的蒸馏。立即了解我们的优势!

20 升短程蒸馏器

20 升短程蒸馏器

使用我们的 20L 短程蒸馏系统,可有效萃取和提纯混合液体。高真空和低温加热可获得最佳效果。

5 升短程蒸馏

5 升短程蒸馏

使用我们耐用的硼硅玻璃器皿、快速加热套管和精巧的装配装置,体验高效优质的 5 升短程蒸馏。在高真空条件下轻松萃取和提纯目标混合液体。立即了解其优势!

10 升短程蒸馏器

10 升短程蒸馏器

使用我们的 10 升短路径蒸馏系统,可轻松提取和纯化混合液体。高真空和低温加热可获得最佳效果。

0.5-1 升旋转蒸发器

0.5-1 升旋转蒸发器

您在寻找可靠高效的旋转蒸发仪吗?我们的 0.5-1L 旋转蒸发仪采用恒温加热和薄膜蒸发技术,可进行一系列操作,包括溶剂去除和分离。它采用高档材料并具有安全功能,是制药、化工和生物行业实验室的理想之选。

0.5-4 升旋转蒸发器

0.5-4 升旋转蒸发器

使用 0.5-4 升旋转蒸发仪高效分离 "低沸点 "溶剂。采用高级材料、Telfon+Viton 真空密封和 PTFE 阀门设计,可实现无污染操作。

2-5 升旋转蒸发器

2-5 升旋转蒸发器

KT 2-5L 旋转蒸发仪可有效去除低沸点溶剂。是制药、化学和生物行业化学实验室的理想之选。

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

RF-PECVD 是 "射频等离子体增强化学气相沉积 "的缩写。它能在锗和硅基底上沉积 DLC(类金刚石碳膜)。其波长范围为 3-12um 红外线。


留下您的留言