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高纯度氧化铟锡(ITO)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

实验室材料

高纯度氧化铟锡(ITO)溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒

货号 : LM-ITO

价格根据 规格和定制情况变动


化学式
ITO
纯度
4N
形状
圆盘/金属丝/块/粉末/板/柱靶/阶梯靶/定制
ISO & CE icon

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我们专业提供价格合理的实验室用氧化铟锡 (ITO) 溅射靶材。我们的团队拥有生产和定制不同纯度、形状和尺寸的氧化铟锡 (ITO) 溅射靶材的专业知识,可以满足您的特定需求。

我们提供各种规格和尺寸的溅射靶材,包括圆形、方形、管状和不规则形状,以及涂层材料、圆柱、圆锥、颗粒、箔、粉末、3D 打印粉末、纳米粉末、线棒、锭和块等。

详细信息

氧化铟锡(ITO)溅射靶材
氧化铟锡(ITO)溅射靶材
氧化铟锡(ITO)溅射靶材
氧化铟锡(ITO)溅射靶材
氧化铟锡(ITO)溅射靶材
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氧化铟锡(ITO)颗粒
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氧化铟锡(ITO)圆块
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氧化铟锡(ITO)圆块
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关于氧化铟锡(ITO)

氧化铟锡是一种独特的透明半导体材料,由氧化铟(III)(In2O3)和氧化锡(IV)(SnO2)的固溶体组成。

铟锡氧化物可随时提供,包括高纯度、亚微米和纳米粉体。我们公司提供一系列标准等级,如 Mil Spec(军用级)、ACS、试剂和技术级、食品、农业和制药级、光学级、USP 和 EP/BP(欧洲药典/英国药典)。我们还遵守适用的 ASTM 测试标准。

我们为产品提供典型包装和定制包装两种选择。

成分质量控制

原材料成分分析
通过使用ICP和 GDMS,对金属杂质含量进行检测分析,确保符合纯度标准;

非金属杂质通过碳硫分析仪、氮氧分析仪等设备检测。
金相探伤分析
使用探伤设备对靶材进行检验,确保产品内部无缺陷、缩孔;

通过金相检测,分析靶材内部晶粒组织,确保晶粒细小、致密。
外观尺寸检查
产品尺寸采用千分尺、精密卡尺测量,确保符合图纸;

使用表面清洁度计测量产品的表面光洁度和清洁度。

传统溅射靶材尺寸

准备过程
热等静压 压制、真空熔炼等
溅射靶材形状
平面溅射 靶材、多弧溅射靶材、阶梯溅射靶材、异型 溅射靶材
圆形溅射靶材尺寸
直径:25.4mm / 50毫米/50.8毫米/60毫米/76.2毫米/80毫米/100毫米/101.6毫米/152.4毫米
厚度: 3mm / 4mm / 5mm / 6mm / 6.35mm
尺寸可定制。
方形溅射靶材尺寸
50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm,尺寸可定制

可用的金属形式

金属形式细节

我们生产元素周期表中列出的几乎所有金属,范围广泛形式和纯度,以及标准尺寸和尺寸。 我们还可以生产定制产品以满足客户的特定要求,例如尺寸、形状、表面积、成分等。 以下列表提供了表格示例我们提供,但并不详尽。 如果您需要实验室耗材,请联系我们直接索取报价。

  • 平面/平面形式:板、薄膜、箔、微箔、微叶、纸、板、带、片材、带材、胶带、晶圆
  • 预成型形状:阳极、球、带、棒、船、螺栓、煤块、阴极、圆形、线圈、坩埚、晶体、立方体、杯子、圆柱体、圆盘、电极、纤维、细丝、法兰、网格、透镜、心轴、螺母、零件、棱镜、圆盘、环、棒、形状、护罩、套筒、弹簧、方形、溅射靶、棒、管子、垫圈、窗户、电线
  • 微型尺寸:珠子、小块、胶囊、碎片、硬币、灰尘、薄片、谷物、颗粒、微粉、针、颗粒、卵石、颗粒、针、丸、粉末、刨花、弹丸、子弹、球体、药片
  • 宏观尺寸:钢坯、大块、切屑、碎片、锭、块、金块、碎片、 冲孔、岩石、废料、段、车削
  • 多孔和半多孔:织物、泡沫、纱布、蜂窝、网、海绵、羊毛
  • 纳米级:纳米粒子、纳米粉末、纳米箔、纳米管、纳米棒、纳米棱柱
  • 其他:浓缩物、墨水、糊状物、沉淀物、残留物、样品、标本

KinTek专注于高纯和超高纯材料的制造纯度范围为 99.999% (5N)、99.9999% (6N)、99.99995% (6N5),在某些情况下,高达 99.99999% (7N)。 我们的材料有特定等级可供选择,包括 UP/UHP、半导体、电子、沉积、光纤和 MBE 牌号。 我们的高纯度金属、氧化物和化合物经过专门设计,以满足严格的要求 高科技应用,非常适合用作掺杂剂和前体材料 用于薄膜沉积、半导体晶体生长以及合成 纳米材料。 这些材料可用于先进的微电子、太阳能电池、燃料 电池、光学材料和其他尖端应用。

包装

我们的高纯度材料采用真空包装,每种材料都有特定的包装 根据其独特的特点量身定制。 例如,我们的 Hf 溅射靶材带有外部标记 并贴上标签,以便于有效识别和质量控制。 我们非常小心 防止在储存或运输过程中可能发生的任何损坏。

FAQ

什么是溅射靶材?

溅射靶材是溅射沉积过程中使用的一种材料,溅射沉积过程是将靶材分解成微小的颗粒,形成喷雾并覆盖在硅晶片等基底上。溅射靶材通常是金属元素或合金,但也有一些陶瓷靶材。它们有各种尺寸和形状,有些制造商还为大型溅射设备制造分段式靶材。由于溅射靶材能够高精度、均匀地沉积薄膜,因此在微电子、薄膜太阳能电池、光电子和装饰涂层等领域有着广泛的应用。

什么是高纯金属?

高纯金属是杂质极少的单元素材料,因此非常适合用于先进技术的研究、开发和生产。这些金属可用于制造先进陶瓷、电子传感器、高精度透镜和光学器件、LED、激光器、隔热涂层、等离子屏幕等。KINTEK 为研究和商业应用提供各种形态、成分、分散体、粒度和重量的高纯金属、二元和三元金属化合物。战略性特种金属用于高科技应用领域,因其加工精细而价格昂贵。

如何制造溅射靶材?

根据溅射靶材的特性及其应用,可采用多种制造工艺制造溅射靶材。这些工艺包括真空熔炼和轧制、热压、特殊冲压烧结工艺、真空热压和锻造方法。大多数溅射靶材可制成各种形状和尺寸,其中圆形或矩形最为常见。靶材通常由金属元素或合金制成,但也可使用陶瓷靶材。也可使用复合溅射靶材,由各种化合物制成,包括氧化物、氮化物、硼化物、硫化物、硒化物、碲化物、碳化物、晶体和复合混合物。

高纯金属有哪些用途?

高纯金属用于各种需要特定属性、性能和质量的先进技术中。它们用于制造荧光灯、等离子屏幕、LED、高精度透镜和光学器件、电子传感器、高级陶瓷、隔热涂层、激光器等。这些金属还可用于生产高质量的磁性、热电、荧光粉和半导体材料。KINTEK 提供各种形态、成分、分散体、粒度和重量的高纯金属、二元和三元金属化合物、磁性合金、金属氧化物、纳米材料和有机金属前体,可满足所有研究和商业应用的需要。

溅射靶材有哪些用途?

溅射靶材用于一种称为溅射的工艺,利用离子轰击靶材,将材料薄膜沉积到基底上。这些靶材在各个领域都有广泛的应用,包括微电子、薄膜太阳能电池、光电子和装饰涂层。它们可以在各种基底上高精度、高均匀度地沉积材料薄膜,是生产精密产品的理想工具。溅射靶材有各种形状和尺寸,可根据应用的具体要求进行专门设计。

使用高纯金属有哪些好处?

使用高纯金属有几个好处。首先,由于不含可能导致材料性能变化的杂质,高纯金属具有稳定可靠的性能。其次,高纯度金属能够生产出高质量和高性能的产品,确保更好的功能性和耐用性。第三,其杂质含量低,可降低敏感应用中的污染风险。高纯金属还具有更好的导电性、导热性和耐腐蚀性。此外,高纯金属通常还具有更强的附着力,因此适用于各种涂层和薄膜沉积工艺。

什么是电子溅射靶材?

电子溅射靶材是铝、铜和钛等材料的薄盘或薄片,用于在硅晶片上沉积薄膜,以制造晶体管、二极管和集成电路等电子设备。这些靶材用于一种称为溅射的工艺中,通过离子轰击靶材,将靶材材料的原子从表面物理射出并沉积到基板上。电子溅射靶材在微电子生产中至关重要,通常要求高精度和高均匀性,以确保设备的质量。

哪些行业通常使用高纯金属?

高纯金属可广泛应用于各行各业。半导体和电子工业广泛使用高纯金属制造集成电路、微处理器和其他电子元件。航空航天工业依靠高纯度金属的轻质和高强度特性。光学和光伏产业利用高纯金属制造精密光学器件和太阳能电池。高纯金属在医疗设备、汽车部件、研究实验室和先进制造工艺中也发挥着重要作用。

溅射靶材的使用寿命有多长?

溅射靶材的使用寿命取决于材料成分、纯度和具体应用等因素。一般来说,靶材的溅射寿命可达几百到几千小时,但根据每次运行的具体条件,寿命会有很大差异。适当的处理和维护也可以延长靶材的使用寿命。此外,使用旋转溅射靶材可以延长运行时间并减少缺陷的发生,使其成为大批量生产过程中更具成本效益的选择。
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