实验室材料
高纯氧化钒（V2O3）溅射靶材/粉/丝/块/粒
货号 : LM-V2O3
价格根据 规格和定制情况变动
- 化学式
- V2O3
- 纯度
- 4N
- 形状
- 无
运输:
联系我们 获取运输详情 享受 准时发货保证.
我们以合理的价格提供实验室用氧化钒（V2O3）材料。我们的专长是生产和定制不同纯度、形状和尺寸的氧化钒（V2O3）材料，以满足您的特定需求。
我们为各种类型的溅射靶材（圆形、方形、管状、不规则形）、涂层材料、圆柱、圆锥、颗粒、箔、粉末、3D 打印粉末、纳米粉末、线棒、锭和块等提供各种规格和尺寸的选择。
详细信息
关于氧化钒（V2O3）
氧化钒（V2O3）是一种氧化钒，适用于玻璃、光学和陶瓷领域的各种应用。虽然氧化物化合物一般不导电，但某些过氧化物结构的氧化物具有导电性，可用于固体氧化物燃料电池和制氧系统的阴极。
氧化物通常至少含有一个氧阴离子和一个金属阳离子。它们不溶于水溶液且高度稳定，因此可用于生产粘土碗、先进的电子产品、航空航天中的轻质结构组件以及电化学系统（如燃料电池）等一系列应用，在这些应用中，它们表现出离子导电性。
金属氧化物化合物是碱性酸酐，在氧化还原反应中可与酸和强还原剂发生反应。一般情况下，大多数氧化钒都可以获得，也可以考虑高纯度、亚微米和纳米粉体形式的氧化钒。
成分质量控制
- 原材料成分分析
- 通过使用ICP和 GDMS，对金属杂质含量进行检测分析，确保符合纯度标准；
非金属杂质通过碳硫分析仪、氮氧分析仪等设备检测。 - 金相探伤分析
- 使用探伤设备对靶材进行检验，确保产品内部无缺陷、缩孔；
通过金相检测，分析靶材内部晶粒组织，确保晶粒细小、致密。 - 外观尺寸检查
- 产品尺寸采用千分尺、精密卡尺测量，确保符合图纸；
使用表面清洁度计测量产品的表面光洁度和清洁度。
传统溅射靶材尺寸
- 准备过程
- 热等静压 压制、真空熔炼等
- 溅射靶材形状
- 平面溅射 靶材、多弧溅射靶材、阶梯溅射靶材、异型 溅射靶材
- 圆形溅射靶材尺寸
- 直径：25.4mm / 50毫米/50.8毫米/60毫米/76.2毫米/80毫米/100毫米/101.6毫米/152.4毫米
厚度： 3mm / 4mm / 5mm / 6mm / 6.35mm
尺寸可定制。 - 方形溅射靶材尺寸
- 50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm，尺寸可定制
可用的金属形式
金属形式细节
我们生产元素周期表中列出的几乎所有金属，范围广泛形式和纯度，以及标准尺寸和尺寸。 我们还可以生产定制产品以满足客户的特定要求，例如尺寸、形状、表面积、成分等。 以下列表提供了表格示例我们提供，但并不详尽。 如果您需要实验室耗材，请联系我们直接索取报价。
- 平面/平面形式：板、薄膜、箔、微箔、微叶、纸、板、带、片材、带材、胶带、晶圆
- 预成型形状：阳极、球、带、棒、船、螺栓、煤块、阴极、圆形、线圈、坩埚、晶体、立方体、杯子、圆柱体、圆盘、电极、纤维、细丝、法兰、网格、透镜、心轴、螺母、零件、棱镜、圆盘、环、棒、形状、护罩、套筒、弹簧、方形、溅射靶、棒、管子、垫圈、窗户、电线
- 微型尺寸：珠子、小块、胶囊、碎片、硬币、灰尘、薄片、谷物、颗粒、微粉、针、颗粒、卵石、颗粒、针、丸、粉末、刨花、弹丸、子弹、球体、药片
- 宏观尺寸：钢坯、大块、切屑、碎片、锭、块、金块、碎片、 冲孔、岩石、废料、段、车削
- 多孔和半多孔：织物、泡沫、纱布、蜂窝、网、海绵、羊毛
- 纳米级：纳米粒子、纳米粉末、纳米箔、纳米管、纳米棒、纳米棱柱
- 其他：浓缩物、墨水、糊状物、沉淀物、残留物、样品、标本
KinTek专注于高纯和超高纯材料的制造纯度范围为 99.999% (5N)、99.9999% (6N)、99.99995% (6N5)，在某些情况下，高达 99.99999% (7N)。 我们的材料有特定等级可供选择，包括 UP/UHP、半导体、电子、沉积、光纤和 MBE 牌号。 我们的高纯度金属、氧化物和化合物经过专门设计，以满足严格的要求 高科技应用，非常适合用作掺杂剂和前体材料 用于薄膜沉积、半导体晶体生长以及合成 纳米材料。 这些材料可用于先进的微电子、太阳能电池、燃料 电池、光学材料和其他尖端应用。
包装
我们的高纯度材料采用真空包装，每种材料都有特定的包装 根据其独特的特点量身定制。 例如，我们的 Hf 溅射靶材带有外部标记 并贴上标签，以便于有效识别和质量控制。 我们非常小心 防止在储存或运输过程中可能发生的任何损坏。
4.9
out of
5
KinTek's Vanadium Oxide (V2O3) Sputtering Target is a lifesaver. It's so pure and consistent that it's made our thin film deposition process so much easier.
4.8
out of
5
I've been using KinTek's V2O3 sputtering targets for years, and they've never let me down. The quality is always top-notch, and the prices are unbeatable.
4.7
out of
5
KinTek's Vanadium Oxide (V2O3) Sputtering Target is the best I've ever used. It's so easy to work with, and the results are always amazing.
4.9
out of
5
I was really impressed with the quality of KinTek's V2O3 sputtering target. It's made a huge difference in the performance of our thin film deposition system.
4.8
out of
5
KinTek's V2O3 sputtering target is the perfect solution for our research needs. It's pure, consistent, and affordable.
4.7
out of
5
I've been using KinTek's V2O3 sputtering targets for a few months now, and I'm really happy with the results. They're very consistent and produce high-quality thin films.
4.9
out of
5
KinTek's V2O3 sputtering target is the best I've ever used. It's so pure and consistent that it's made a huge difference in the quality of our thin films.
4.8
out of
5
I was really impressed with the quality of KinTek's V2O3 sputtering target. It's made a huge difference in the performance of our thin film deposition system.
4.7
out of
5
KinTek's V2O3 sputtering target is the perfect solution for our research needs. It's pure, consistent, and affordable.
4.9
out of
5
I've been using KinTek's V2O3 sputtering targets for a few months now, and I'm really happy with the results. They're very consistent and produce high-quality thin films.
4.8
out of
5
KinTek's V2O3 sputtering target is the best I've ever used. It's so pure and consistent that it's made a huge difference in the quality of our thin films.
4.7
out of
5
I was really impressed with the quality of KinTek's V2O3 sputtering target. It's made a huge difference in the performance of our thin film deposition system.
4.9
out of
5
KinTek's V2O3 sputtering target is the perfect solution for our research needs. It's pure, consistent, and affordable.
4.8
out of
5
I've been using KinTek's V2O3 sputtering targets for a few months now, and I'm really happy with the results. They're very consistent and produce high-quality thin films.
4.7
out of
5
KinTek's V2O3 sputtering target is the best I've ever used. It's so pure and consistent that it's made a huge difference in the quality of our thin films.
4.9
out of
5
I was really impressed with the quality of KinTek's V2O3 sputtering target. It's made a huge difference in the performance of our thin film deposition system.
4.8
out of
5
KinTek's V2O3 sputtering target is the perfect solution for our research needs. It's pure, consistent, and affordable.
4.7
out of
5
I've been using KinTek's V2O3 sputtering targets for a few months now, and I'm really happy with the results. They're very consistent and produce high-quality thin films.
4.9
out of
5
KinTek's V2O3 sputtering target is the best I've ever used. It's so pure and consistent that it's made a huge difference in the quality of our thin films.
请求报价
我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系！
相关产品
您正在为您的实验室寻找高质量的钒（V）材料吗？我们提供多种可定制的选择，包括溅射靶材、粉末等，以满足您的独特需求。现在就联系我们，了解具有竞争力的价格。
您正在寻找高品质的氧化钨（WO3）材料吗？我们的实验室级产品可满足您的特定需求，提供各种纯度、形状和尺寸的产品。请选购溅射靶材、涂层材料等。
正在为您的实验室寻找高质量的氧化铬材料？我们的产品系列包括溅射靶材、粉末、箔片等，可根据您的需求定制。现在购买，价格合理。
您正在为您的实验室需求寻找高质量的氧化钼（MoO3）材料吗？我们公司以合理的价格为您提供量身定制的解决方案。我们提供各种溅射靶材、涂层材料、粉末等。请立即联系我们！
以合理的价格为您的实验室需求找到高品质的氧化钽 (Ta2O5) 材料。我们的专家可以定制各种纯度、形状和尺寸的材料，以满足您的特定要求。请查看我们的溅射靶材、涂层材料、粉末等产品系列。
为您的实验室需求找到物美价廉的顶级氧化锌 (ZnO) 材料。我们的专家团队可生产各种纯度、形状和尺寸的定制材料，包括溅射靶材、涂层材料、粉末等。立即购买！
正在为您的实验室寻找氧化铝材料？我们以实惠的价格提供高质量的 Al2O3 产品，并可定制形状和尺寸，以满足您的特定需求。查找溅射靶材、涂层材料、粉末等。
提供不同纯度、形状和尺寸的实验室用氧化铁（Fe3O4）材料。我们的产品范围包括溅射靶材、涂层材料、粉末、线棒等。现在就联系我们。
以合理的价格获取高质量的实验室用氧化铋（Bi2O3）材料。有多种尺寸和形状可供选择，以满足您的独特需求。立即订购！
CVD 掺硼金刚石：一种多功能材料，可实现量身定制的导电性、光学透明性和优异的热性能，应用于电子、光学、传感和量子技术领域。
根据您的需求量身定制高品质氧化锆 (ZrO2) 材料。我们以合理的价格提供各种形状和尺寸的产品，包括溅射靶材、粉末等。
二氧化铱，其晶格为金红石结构。二氧化铱和其他稀有金属氧化物可用于工业电解的阳极电极和电生理研究的微电极。
高纯二氧化硅 (SiO2) 溅射靶材/粉末/金属丝/块/颗粒
正在为您的实验室寻找二氧化硅材料？我们专业定制的二氧化硅材料有各种纯度、形状和尺寸。立即浏览我们的各种规格产品！
CVD 金刚石涂层：用于切割工具、摩擦和声学应用的卓越导热性、晶体质量和附着力
