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高纯氧化铝(Al2O3)溅射靶材/粉/丝/块/粒

实验室材料

高纯氧化铝(Al2O3)溅射靶材/粉/丝/块/粒

货号 : LM-Al2O3

价格根据 规格和定制情况变动


化学式
Al2O3
纯度
3N
形状
圆盘/金属丝/块/粉末/板/柱靶/阶梯靶/定制
ISO & CE icon

运输:

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我们以合理的价格提供实验室用氧化铝(Al2O3)材料。我们的专长是生产和定制各种纯度、形状和尺寸的氧化铝 (Al2O3) 材料,以满足您的特定需求。

我们为不同产品提供多种规格和尺寸选择,包括溅射靶材(圆形、方形、管状、不规则形)、涂层材料、圆柱、圆锥、颗粒、箔、粉末、3D 打印粉末、纳米粉末、线棒、锭和块等。

详细信息

氧化铝(Al2O3)溅射靶材
氧化铝(Al2O3)溅射靶材
氧化铝(Al2O3)溅射靶材
氧化铝(Al2O3)溅射靶材
氧化铝(Al2O3)溅射靶材
氧化铝(Al2O3)溅射靶材
氧化铝(Al2O3)颗粒
氧化铝(Al2O3)颗粒
氧化铝(Al2O3)颗粒
氧化铝(Al2O3)颗粒
氧化铝(Al2O3)颗粒
氧化铝(Al2O3)颗粒

关于氧化铝(Al2O3)

氧化铝(又称氧化铝)是一种热稳定性高且极不溶解的铝源。其独特的性质使其适用于玻璃、光学和陶瓷领域的各种应用。

氧化铝的一个显著特点是,尽管它是电绝缘体,但却具有高导热性。最常见的结晶氧化铝被称为刚玉。

氧化铝有不同的等级,如活性氧化铝、超活性氧化铝、酸性氧化铝、碱性氧化铝和中性氧化铝。氧化铝还有各种形式的特殊应用,如闪存级、TLC、生物质净化、脱色、二恶英分析、多氯联苯去除、热原去除以及生物技术用宽孔氧化铝。

虽然氧化物化合物不导电,但某些过氧化物结构的氧化物具有电子导电性,可用于固体氧化物燃料电池和制氧系统的阴极。它们是至少含有一个氧阴离子和一个金属阳离子的化合物,通常不溶于水溶液。

金属氧化物化合物是碱性酸酐,可在氧化还原反应中与酸和强还原剂发生反应。活化色谱级氧化铝可用于照明、照相色谱法和各种色谱分离技术。

大多数氧化铝都有现货供应,高纯度、亚微米和纳米粉体也在考虑之列。此外,还提供颗粒、碎片、粉末、溅射靶材、片剂和纳米粉体。氧化铝的稳定性和独特性能使其在各行各业都有用武之地,从生产粘土碗到航空航天和电化学应用(如燃料电池)中的先进电子产品和轻质结构组件,氧化铝都具有离子导电性。

成分质量控制

原材料成分分析
通过使用ICP和 GDMS,对金属杂质含量进行检测分析,确保符合纯度标准;

非金属杂质通过碳硫分析仪、氮氧分析仪等设备检测。
金相探伤分析
使用探伤设备对靶材进行检验,确保产品内部无缺陷、缩孔;

通过金相检测,分析靶材内部晶粒组织,确保晶粒细小、致密。
外观尺寸检查
产品尺寸采用千分尺、精密卡尺测量,确保符合图纸;

使用表面清洁度计测量产品的表面光洁度和清洁度。

传统溅射靶材尺寸

准备过程
热等静压 压制、真空熔炼等
溅射靶材形状
平面溅射 靶材、多弧溅射靶材、阶梯溅射靶材、异型 溅射靶材
圆形溅射靶材尺寸
直径:25.4mm / 50毫米/50.8毫米/60毫米/76.2毫米/80毫米/100毫米/101.6毫米/152.4毫米
厚度: 3mm / 4mm / 5mm / 6mm / 6.35mm
尺寸可定制。
方形溅射靶材尺寸
50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm,尺寸可定制

可用的金属形式

金属形式细节

我们生产元素周期表中列出的几乎所有金属,范围广泛形式和纯度,以及标准尺寸和尺寸。 我们还可以生产定制产品以满足客户的特定要求,例如尺寸、形状、表面积、成分等。 以下列表提供了表格示例我们提供,但并不详尽。 如果您需要实验室耗材,请联系我们直接索取报价。

  • 平面/平面形式:板、薄膜、箔、微箔、微叶、纸、板、带、片材、带材、胶带、晶圆
  • 预成型形状:阳极、球、带、棒、船、螺栓、煤块、阴极、圆形、线圈、坩埚、晶体、立方体、杯子、圆柱体、圆盘、电极、纤维、细丝、法兰、网格、透镜、心轴、螺母、零件、棱镜、圆盘、环、棒、形状、护罩、套筒、弹簧、方形、溅射靶、棒、管子、垫圈、窗户、电线
  • 微型尺寸:珠子、小块、胶囊、碎片、硬币、灰尘、薄片、谷物、颗粒、微粉、针、颗粒、卵石、颗粒、针、丸、粉末、刨花、弹丸、子弹、球体、药片
  • 宏观尺寸:钢坯、大块、切屑、碎片、锭、块、金块、碎片、 冲孔、岩石、废料、段、车削
  • 多孔和半多孔:织物、泡沫、纱布、蜂窝、网、海绵、羊毛
  • 纳米级:纳米粒子、纳米粉末、纳米箔、纳米管、纳米棒、纳米棱柱
  • 其他:浓缩物、墨水、糊状物、沉淀物、残留物、样品、标本

KinTek专注于高纯和超高纯材料的制造纯度范围为 99.999% (5N)、99.9999% (6N)、99.99995% (6N5),在某些情况下,高达 99.99999% (7N)。 我们的材料有特定等级可供选择,包括 UP/UHP、半导体、电子、沉积、光纤和 MBE 牌号。 我们的高纯度金属、氧化物和化合物经过专门设计,以满足严格的要求 高科技应用,非常适合用作掺杂剂和前体材料 用于薄膜沉积、半导体晶体生长以及合成 纳米材料。 这些材料可用于先进的微电子、太阳能电池、燃料 电池、光学材料和其他尖端应用。

包装

我们的高纯度材料采用真空包装,每种材料都有特定的包装 根据其独特的特点量身定制。 例如,我们的 Hf 溅射靶材带有外部标记 并贴上标签,以便于有效识别和质量控制。 我们非常小心 防止在储存或运输过程中可能发生的任何损坏。

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