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在实验室环境中使用化学气相沉积（CVD）法制造一颗钻石通常需要 2 到 4 周的时间。这个过程是将纯碳分子沉积到钻石种子上，随着时间的推移逐渐形成钻石。
CVD 金刚石生成过程：
CVD 工艺是一种高度专业化的科学方法，经过数十年的改进，可以高效地生产出珠宝级钻石。在此过程中，钻石种子被放置在一个密室中，暴露在富含碳的混合气体（如甲烷）中。利用微波将气体电离成等离子体，分解气体中的分子键。然后，纯碳原子析出并附着在金刚石种子上，一层一层地形成金刚石。这一过程的速度约为每小时 0.1-10 微米，相对较慢，尤其是对于较大的表面。生产一克拉的 CVD 金刚石通常需要一个月左右的时间。与 HPHT 方法的比较：
在引入 CVD 工艺之前，实验室主要使用高压高温（HPHT）法来培育钻石。这种方法是将钻石种子置于极高的压力（约每平方英寸 150 万磅）和高温（约 1500°C）下。与化学气相沉积法相比，高温高压法耗时更长，所需的能量也更多，因此化学气相沉积法是一种更有效的钻石培育方法。
天然钻石与实验室培育钻石：
纳米金刚石复合涂层拉丝模以硬质合金（WC-Co）为基体，采用化学气相法（简称 CVD 法）在模具内孔表面涂覆传统金刚石和纳米金刚石复合涂层。
高精度金刚石线切割机是专为材料研究人员设计的多功能精密切割工具。它采用连续金刚石线切割机制，可精确切割脆性材料，如陶瓷、晶体、玻璃、金属、岩石和其他各种材料。
915MHz MPCVD 金刚石机及其多晶有效生长，最大面积可达 8 英寸，单晶最大有效生长面积可达 5 英寸。该设备主要用于大尺寸多晶金刚石薄膜的生产、长单晶金刚石的生长、高质量石墨烯的低温生长以及其他需要微波等离子体提供能量进行生长的材料。
用于热管理的 CVD 金刚石：导热系数高达 2000 W/mK 的优质金刚石，是散热器、激光二极管和金刚石氮化镓 (GOD) 应用的理想之选。
CVD 金刚石涂层：用于切割工具、摩擦和声学应用的卓越导热性、晶体质量和附着力
高精度自动金刚石线切割机是一种多功能切割工具，使用金刚石线可切割多种材料，包括导电和非导电材料、陶瓷、玻璃、岩石、宝石、玉石、陨石、单晶硅、碳化硅、多晶硅、耐火砖、环氧板和铁氧体等。特别适合切割硬度高、价值高、易碎的各种脆性晶体。
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金刚石线切割机主要用于精密切割陶瓷、晶体、玻璃、金属、岩石、热电材料、红外光学材料、复合材料、生物医学材料和其他材料分析样品。特别适用于厚度不超过 0.2 毫米的超薄板材的精密切割。
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CVD 掺硼金刚石：一种多功能材料，可实现量身定制的导电性、光学透明性和优异的热性能，应用于电子、光学、传感和量子技术领域。
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