石墨烯涂层虽然前景广阔，但也面临着一些可能影响其性能和可用性的挑战。
您需要了解的 5 大挑战
1.生产挑战
化学气相沉积生产的质量控制： 通过化学气相沉积（CVD）生产的石墨烯的质量在很大程度上取决于冷却条件和基底的质量。
冷却速率和碳氢化合物浓度的变化会导致不同的成核和生长行为，从而影响石墨烯层的均匀性和质量。
基底质量差，例如没有经过适当处理以防止氧化的铜基底，也会降低石墨烯的质量。
杂质和污染： 在基底上沉积碳原子的过程中，可能会受到氢气和其他反应气体的影响，从而影响石墨烯的质量。
这凸显了在生产过程中精确控制化学环境的必要性。
2.转移过程问题
缺陷的引入： 将石墨烯薄膜从催化金属基底转移到应用基底涉及一个复杂的过程，包括使用 PMMA 作为临时支撑、蚀刻金属基底和清洁步骤。
这些步骤中的每一步都会给石墨烯带来缺陷或污染，从而降低其电气和机械性能。
均匀性和性能： 必须严格控制转移过程，以确保石墨烯保持所需的性能，如低薄层电阻和高载流子迁移率，尤其是在电子和光电领域的应用。
然而，现实情况是，"真实 "石墨烯往往含有缺陷和杂质，与 "理想 "石墨烯相比，这些缺陷和杂质会限制石墨烯的性能。
3.真实石墨烯的利用
调整设备制造技术： 由于石墨烯中存在缺陷和污染，因此有必要开发新的设备制造技术，以便在存在这些缺陷的情况下优化石墨烯性能的利用。
这包括了解这些缺陷如何影响界面相互作用和传输特性。
确定适当的应用： 确定可有效利用 "真实 "石墨烯而非 "理想 "石墨烯特性的应用至关重要。
例如，与要求具有完美晶体结构和高载流子迁移率的高质量石墨烯相比，需要低薄片电阻和良好均匀性的应用可能会容忍更多的缺陷。
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