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电子束蒸发石墨坩埚

薄膜沉积部件

电子束蒸发石墨坩埚

货号 : KMS02

价格根据 规格和定制情况变动


材料
石墨
规格
Ф35-65*17-30mm
盖板
选配
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应用

电子束蒸发石墨坩埚是一种利用电子束制造柔性粗糙石墨薄膜的技术。其关键参数包括碳源供应、电子束辐照能量、外加电压、蒸发温度和蒸发时间。外加电压可调节石墨层与坩埚底层之间的附着力。为确保石墨层平整,应控制碳源进料的流速和粒度,以实现均匀沉积和蒸发。

在电力电子领域,电子束蒸发石墨坩埚技术得到了广泛应用。它是利用电子束沉积碳源材料,形成石墨薄膜。用这种工艺制造的石墨坩埚具有低电阻、低电晕和高屈服强度的特点。它广泛应用于散热、耐压制造和电子设备测试。

细节和部件

电子束蒸发石墨坩埚详情

电子束蒸发石墨坩埚详情 2

电子束蒸发石墨坩埚详情

带盖防水石墨坩埚细节 1
带盖防水石墨坩埚
带盖防水石墨坩埚细节 2
带盖防水石墨坩埚
带盖防水石墨坩埚细节 3
带盖防水石墨坩埚
带盖防水石墨坩埚细节 4
带盖防水石墨坩埚

技术规格

石墨坩埚尺寸 35*17 毫米 35*22 毫米 40*20 毫米 42.5*19.5 毫米 45*22.5 毫米 50*25 毫米 65*30 毫米

我们展示的坩埚有不同尺寸,也可根据要求定制尺寸。

优势

  • 制备精确:电子束蒸发技术可精确控制沉积过程,从而生产出高精度、高稳定性的石墨坩埚。
  • 抗热震性:电子束蒸发法形成的石墨膜具有优异的抗热震性,适用于温度快速变化的应用场合。
  • 耐磨性:电子束蒸发石墨坩埚具有良好的耐磨性,使其经久耐用,能够承受恶劣的条件。
  • 耐化学性:这些坩埚耐酸、碱和化学污染,可确保其在化学腐蚀性环境中的可靠性和使用寿命。
  • 柔韧性和粗糙度:该技术形成的石墨膜具有一定的柔韧性和粗糙度,因此可有效地用于各种应用。

总之,电子束蒸发石墨坩埚具有精确制备、抗热震性、耐磨性、耐化学性、柔韧性和粗糙度。它们广泛应用于电力电子、分子结合测试、激光技术、电池、高压电容器和医疗设备等领域。

FAQ

什么是热蒸发源?

热蒸发源是热蒸发系统中用于在基底上沉积薄膜的设备。其工作原理是将材料(蒸发剂)加热到高温,使其蒸发,然后凝结在基底上,形成薄膜。

什么是石墨化炉?

石墨化炉是一种专用设备,用于在惰性气氛中通过高温处理将石油焦或煤焦油沥青等碳质材料转化为石墨。这一过程的温度通常在 2500 至 3000 摄氏度之间。

电子束蒸发石墨坩埚技术与传统技术的比较。

电子束蒸发石墨坩埚技术虽然比传统热压技术成本高,但精度更高,更适合制造复杂的石墨坩埚。与传统的碳源蒸发相比,电子束蒸发可实现均匀的碳源分布和光滑的碳表面,提高材料的性能和可靠性。该技术为电力电子等领域的器件制造提供了一种更简单、更节能的方法,并显著提高了器件的可靠性。

高纯度石墨坩埚是如何制造的?

高纯度石墨坩埚通常是通过等静压工艺制造的。在这种方法中,石墨粉被放置在橡胶模中,然后受到来自各个方向的高压。这种压力将石墨颗粒压制成致密均匀的坩埚形状。然后将坩埚加热至高温,去除杂质,提高纯度。

热蒸发源的主要类型有哪些?

热蒸发源的主要类型包括电阻蒸发源、电子束蒸发源和闪蒸源。每种类型都使用不同的方法加热蒸发物,如电阻加热、电子束加热或直接接触热表面。

石墨化炉的主要应用有哪些?

石墨化炉在冶金、电子和航空航天等行业中至关重要。石墨化炉生产电极、坩埚和结构件等高质量石墨产品,这些产品对于各种高温应用至关重要。

什么是射频 PECVD?

RF PECVD 是射频等离子体增强化学气相沉积的缩写,是一种在低压化学气相沉积过程中,利用辉光放电等离子体影响工艺,在基底上制备多晶薄膜的技术。射频 PECVD 方法已在标准硅集成电路技术中得到广泛应用,该技术通常使用平面晶片作为基底。这种方法的优势在于薄膜制造成本低,沉积效率高。材料也可以沉积为分级折射率薄膜或具有不同特性的纳米薄膜堆。

什么是溅射靶材?

溅射靶材是溅射沉积过程中使用的一种材料,溅射沉积过程是将靶材分解成微小的颗粒,形成喷雾并覆盖在硅晶片等基底上。溅射靶材通常是金属元素或合金,但也有一些陶瓷靶材。它们有各种尺寸和形状,有些制造商还为大型溅射设备制造分段式靶材。由于溅射靶材能够高精度、均匀地沉积薄膜,因此在微电子、薄膜太阳能电池、光电子和装饰涂层等领域有着广泛的应用。

高纯石墨坩埚的常见应用有哪些?

高纯石墨坩埚在冶金、铸造和实验室等行业有着广泛的应用。它们通常用于熔化和铸造有色金属,包括铝、铜和贵金属。高纯度石墨坩埚还可用于生产合金和高温陶瓷。在实验室的化学分析、光谱分析和样品制备等过程中,石墨坩埚也是必不可少的。此外,这些坩埚还可用于半导体工业中硅和其他半导体材料的熔化和生长。

热蒸发源是如何工作的?

热蒸发源的工作原理是将电流通过电阻材料,使其加热至高温。热量传递到蒸发剂上,使其熔化和汽化。然后,蒸气通过真空室,凝结在基底上,形成薄膜。

石墨化炉有哪些不同类型?

石墨化炉有多种类型,包括卧式高温石墨化炉、大型立式石墨化炉、连续式石墨化炉、负极材料石墨化炉、立式高温石墨化炉、超高温石墨化炉、IGBT 实验石墨化炉、高导热膜石墨化炉、碳材料底部放电石墨化炉和 2200°C 石墨真空炉。

射频 PECVD 如何工作?

射频 PECVD 的工作原理是在真空室中产生等离子体。将前驱体气体引入真空室,然后施加射频功率以产生电场。该电场导致前驱体气体电离,形成等离子体。等离子体中含有可与基底表面发生化学反应的活性物质,从而形成薄膜沉积。射频功率还有助于控制等离子体的能量,从而更好地控制薄膜的特性,如成分、均匀性和附着力。可以调整气体流速、压力和射频功率等工艺参数,以优化薄膜沉积工艺。

如何制造溅射靶材?

根据溅射靶材的特性及其应用,可采用多种制造工艺制造溅射靶材。这些工艺包括真空熔炼和轧制、热压、特殊冲压烧结工艺、真空热压和锻造方法。大多数溅射靶材可制成各种形状和尺寸,其中圆形或矩形最为常见。靶材通常由金属元素或合金制成,但也可使用陶瓷靶材。也可使用复合溅射靶材,由各种化合物制成,包括氧化物、氮化物、硼化物、硫化物、硒化物、碲化物、碳化物、晶体和复合混合物。

选择高纯度石墨坩埚时应考虑哪些因素?

在选择高纯石墨坩埚时,应考虑几个因素。首先,坩埚的尺寸和容量应与预期应用和需要熔化或加工的材料数量相匹配。还应评估坩埚的导热性、抗热震性和化学兼容性,以确保它们符合特定的工艺要求。重要的是要选择由高纯度的优质石墨材料制成的坩埚,以最大限度地减少污染并确保优异的性能。还应考虑坩埚的设计和结构,例如是否有便于操作的手柄或倾倒口。此外,建议咨询制造商或该领域的专家,以确保为特定应用选择最合适的高纯度石墨坩埚。

蒸发坩埚常用的材料有哪些?

蒸发坩埚通常由钨、钽、钼、石墨或陶瓷化合物等材料制成。这些材料熔点高、导热性好,适合蒸发过程中所需的高温条件。坩埚材料的选择取决于蒸发剂材料、所需薄膜特性和工艺参数等因素。

使用热蒸发源有哪些优势?

热蒸发源的优点包括沉积率高、方向性好、均匀性好以及与各种材料兼容。此外,热蒸发光源还相对简单、经济实惠,因此可广泛应用于薄膜沉积领域。

石墨化炉是如何工作的?

石墨化炉的工作原理是在惰性气氛中将碳质材料置于极高的温度下(通常为 2500 至 3000 摄氏度)。这一过程会重新排列材料中的碳原子,将其转化为石墨,石墨具有高导热性、低热膨胀性和化学惰性等独特性能。

射频 PECVD 有哪些优势?

射频 PECVD 在薄膜沉积方面具有多项优势。首先,它可以沉积高质量的薄膜,并对薄膜特性(如厚度、成分和均匀性)进行出色的控制。等离子体的使用提高了工艺的反应性,与传统的热 CVD 方法相比,能在更低的温度下沉积薄膜。射频 PECVD 还具有更好的阶跃覆盖率,可以沉积出高宽比结构的薄膜。另一个优势是能够沉积多种材料,包括氮化硅、二氧化硅、非晶硅和其他各种薄膜材料。该工艺具有高度可扩展性,可轻松集成到现有制造工艺中。此外,与其他薄膜沉积技术相比,射频 PECVD 是一种相对经济有效的方法。

溅射靶材有哪些用途?

溅射靶材用于一种称为溅射的工艺,利用离子轰击靶材,将材料薄膜沉积到基底上。这些靶材在各个领域都有广泛的应用,包括微电子、薄膜太阳能电池、光电子和装饰涂层。它们可以在各种基底上高精度、高均匀度地沉积材料薄膜,是生产精密产品的理想工具。溅射靶材有各种形状和尺寸,可根据应用的具体要求进行专门设计。

使用蒸发坩埚有哪些优势?

蒸发坩埚在薄膜沉积工艺中具有多种优势。它们可为材料蒸发提供受控环境,从而实现对薄膜厚度和均匀性的精确控制。坩埚可承受高温并提供高效热传导,确保稳定的蒸发率。坩埚有各种尺寸和形状,以适应不同的蒸发系统和基底配置。蒸发坩埚还可沉积多种材料,包括金属、半导体和陶瓷。蒸发坩埚易于装卸,便于快速更换材料或调整工艺。总之,蒸发坩埚是薄膜沉积技术的重要工具,具有多功能性、可靠性和可重复性。

热蒸发源有哪些应用?

热蒸发源可用于各种应用,如生产光学涂层、半导体器件和各类薄膜。在需要精确控制基底材料沉积的行业中,热蒸发源尤其有用。

使用石墨化炉有哪些优势?

使用石墨化炉的优点包括可以生产出具有优异导热性、低热膨胀性和化学惰性的优质石墨。这些特性使石墨成为冶金、电子和航空航天等行业广泛高温应用的理想材料。

什么是电子溅射靶材?

电子溅射靶材是铝、铜和钛等材料的薄盘或薄片,用于在硅晶片上沉积薄膜,以制造晶体管、二极管和集成电路等电子设备。这些靶材用于一种称为溅射的工艺中,通过离子轰击靶材,将靶材材料的原子从表面物理射出并沉积到基板上。电子溅射靶材在微电子生产中至关重要,通常要求高精度和高均匀性,以确保设备的质量。

应如何处理和维护蒸发坩埚?

应小心处理和维护蒸发坩埚,以确保其使用寿命和性能。每次使用前都应彻底清洁坩埚,清除之前沉积的残留物质。避免使用可能损坏坩埚表面的研磨材料。在装载和卸载过程中,应使用干净的手套或专用工具处理坩埚,以防止污染。不使用时,将坩埚存放在干燥清洁的环境中,以避免腐蚀或降解。必须定期检查坩埚是否有裂缝、缺陷或磨损迹象,以防止在蒸发过程中出现意外故障。按照制造商的建议进行退火或表面处理等特定维护程序,以延长坩埚的使用寿命。

溅射靶材的使用寿命有多长?

溅射靶材的使用寿命取决于材料成分、纯度和具体应用等因素。一般来说,靶材的溅射寿命可达几百到几千小时,但根据每次运行的具体条件,寿命会有很大差异。适当的处理和维护也可以延长靶材的使用寿命。此外,使用旋转溅射靶材可以延长运行时间并减少缺陷的发生,使其成为大批量生产过程中更具成本效益的选择。
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