应用
电子束蒸发石墨坩埚是一种利用电子束制造柔性粗糙石墨薄膜的技术。其关键参数包括碳源供应、电子束辐照能量、外加电压、蒸发温度和蒸发时间。外加电压可调节石墨层与坩埚底层之间的附着力。为确保石墨层平整，应控制碳源进料的流速和粒度，以实现均匀沉积和蒸发。
在电力电子领域，电子束蒸发石墨坩埚技术得到了广泛应用。它是利用电子束沉积碳源材料，形成石墨薄膜。用这种工艺制造的石墨坩埚具有低电阻、低电晕和高屈服强度的特点。它广泛应用于散热、耐压制造和电子设备测试。
细节和部件
技术规格
| 石墨坩埚尺寸 | 35*17 毫米 | 35*22 毫米 | 40*20 毫米 | 42.5*19.5 毫米 | 45*22.5 毫米 | 50*25 毫米 | 65*30 毫米 |
我们展示的坩埚有不同尺寸，也可根据要求定制尺寸。
优势
- 制备精确：电子束蒸发技术可精确控制沉积过程，从而生产出高精度、高稳定性的石墨坩埚。
- 抗热震性：电子束蒸发法形成的石墨膜具有优异的抗热震性，适用于温度快速变化的应用场合。
- 耐磨性：电子束蒸发石墨坩埚具有良好的耐磨性，使其经久耐用，能够承受恶劣的条件。
- 耐化学性：这些坩埚耐酸、碱和化学污染，可确保其在化学腐蚀性环境中的可靠性和使用寿命。
- 柔韧性和粗糙度：该技术形成的石墨膜具有一定的柔韧性和粗糙度，因此可有效地用于各种应用。
总之，电子束蒸发石墨坩埚具有精确制备、抗热震性、耐磨性、耐化学性、柔韧性和粗糙度。它们广泛应用于电力电子、分子结合测试、激光技术、电池、高压电容器和医疗设备等领域。
FAQ
什么是热蒸发源？
什么是石墨化炉？
电子束蒸发石墨坩埚技术与传统技术的比较。
高纯度石墨坩埚是如何制造的？
热蒸发源的主要类型有哪些？
石墨化炉的主要应用有哪些？
什么是射频 PECVD？
什么是溅射靶材？
高纯石墨坩埚的常见应用有哪些？
热蒸发源是如何工作的？
石墨化炉有哪些不同类型？
射频 PECVD 如何工作？
如何制造溅射靶材？
选择高纯度石墨坩埚时应考虑哪些因素？
蒸发坩埚常用的材料有哪些？
使用热蒸发源有哪些优势？
石墨化炉是如何工作的？
射频 PECVD 有哪些优势？
溅射靶材有哪些用途？
使用蒸发坩埚有哪些优势？
热蒸发源有哪些应用？
使用石墨化炉有哪些优势？
什么是电子溅射靶材？
应如何处理和维护蒸发坩埚？
溅射靶材的使用寿命有多长？
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