应用
石墨蒸发坩埚是用于高温应用，特别是薄膜沉积的专用容器。这些坩埚可在极端温度下有效地容纳和蒸发材料，从而促进基底上的薄膜沉积。石墨以其高热稳定性和出色的导电性而著称，是制造这些坩埚的主要材料。石墨的导热性确保了加热的高效性和均匀性，从而实现了稳定的汽化率。
- 半导体制造、光学、材料研究。
- 热蒸发、电子束蒸发涂层。
- 物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）。
- 在基板、板锗和板硅上形成金属、合金、氧化物和其他材料的薄膜。
- 光学镀膜、聚酯薄膜镀铝、真空镀膜。
- 微电子生产，太阳能电池、电线和包装材料的生产，管式炉的应用。
细节与零件
我们展示的坩埚有不同尺寸，也可根据要求定制尺寸。
优点
- 耐高温、抗热震性好、导热率高。
- 表面抛光，抗氧化，纯度高，对蒸发膜无污染。
- 耐酸碱液体腐蚀性强。
- 导电性和热效率好，化学性质稳定。
- 抗机械冲击，热膨胀系数小，使用寿命长。
- 强度高，随着温度的升高，石墨的强度也随之增加。
FAQ
什么是热蒸发源？
什么是钨舟？
使用钨舟有哪些优势？
什么是石墨化炉？
高纯度石墨坩埚是如何制造的？
使用陶瓷坩埚有哪些优势？
氧化铝坩埚的常见应用有哪些？
热蒸发源的主要类型有哪些？
石墨化炉的主要应用有哪些？
什么是射频 PECVD？
高纯石墨坩埚的常见应用有哪些？
陶瓷坩埚有哪些常见用途？
使用氧化铝坩埚有哪些优势？
热蒸发源是如何工作的？
石墨化炉有哪些不同类型？
射频 PECVD 如何工作？
选择高纯度石墨坩埚时应考虑哪些因素？
蒸发坩埚常用的材料有哪些？
如何为我的应用选择合适的陶瓷坩埚？
如何处理和维护氧化铝坩埚？
使用热蒸发源有哪些优势？
使用蒸发舟有哪些优势？
石墨化炉是如何工作的？
射频 PECVD 有哪些优势？
使用蒸发坩埚有哪些优势？
如何处理和维护陶瓷坩埚？
热蒸发源有哪些应用？
蒸发舟的典型使用寿命是多久？
使用石墨化炉有哪些优势？
应如何处理和维护蒸发坩埚？
蒸发舟可以重复使用吗？
如何选择合适的蒸发舟材料？
4.7
out of
5
The crucibles deliver prompt results and are cost-effective. Strongly recommended!
4.8
out of
5
The superb quality of these crucibles is worth every penny. Definitely a must-buy!
4.9
out of
5
The durability and technological advancement of these crucibles are truly impressive, ensuring reliable performance.
4.6
out of
5
These crucibles are an excellent investment for any laboratory, offering great value for money.
4.7
out of
5
The prompt delivery and exceptional quality of these crucibles have greatly enhanced our laboratory's efficiency.
4.8
out of
5
The crucibles' resistance to erosion and acid is remarkable, ensuring longevity and consistent performance.
4.9
out of
5
These crucibles are a testament to KINTEK SOLUTION's commitment to innovation and quality, making them an indispensable tool in our lab.
4.6
out of
5
The impact resistance and high thermal conductivity of these crucibles make them an excellent choice for demanding applications.
请求报价
我们的专业团队将在一个工作日内回复您。请随时与我们联系！
相关产品
主要用于电力电子领域的一种技术。它是利用电子束技术，通过材料沉积将碳源材料制成的石墨薄膜。
在电子枪光束蒸发中，坩埚是一种容器或源支架，用于盛放和蒸发要沉积到基底上的材料。
有机物蒸发坩埚，简称蒸发坩埚，是一种在实验室环境中蒸发有机溶剂的容器。
它可用于各种金属和合金的气相沉积。大多数金属都能完全蒸发而不损失。蒸发筐可重复使用1。
钨和钼坩埚具有优异的热性能和机械性能，常用于电子束蒸发工艺。
大型立式高温石墨化炉是一种用于碳纤维和炭黑等碳材料石墨化的工业炉。它是一种高温炉，温度最高可达 3100°C。
电子束蒸发涂层无氧铜坩埚可实现各种材料的精确共沉积。其可控温度和水冷设计可确保纯净高效的薄膜沉积。
用于电子束蒸发涂层的高纯度、光滑的导电氮化硼坩埚，具有高温和热循环性能。
立式高温石墨化炉，用于碳材料的碳化和石墨化，最高温度可达 3100℃。适用于碳纤维丝和其他在碳环境中烧结的材料的定型石墨化。应用于冶金、电子和航空航天领域，生产电极和坩埚等高质量石墨产品。
覆盖碳石墨舟实验室管式炉是由石墨材料制成的专用容器，可承受极端高温和化学腐蚀性环境。
这些坩埚充当电子蒸发束蒸发出的金材料的容器，同时精确引导电子束以实现精确沉积。
用于沉积薄膜的容器；具有铝涂层陶瓷本体，可提高热效率和耐化学性。
坩埚是广泛用于熔化和加工各种材料的容器，半圆船形坩埚适用于特殊的熔化和加工要求。它们的类型和用途因材料和形状而异。
TGA/DTA 热分析容器由氧化铝（刚玉或氧化铝）制成。它能承受高温，适用于分析需要高温测试的材料。
氧化铝陶瓷坩埚用于某些材料和金属熔化工具，平底坩埚适用于熔化和加工较大批量的材料，稳定性和均匀性更好。
圆柱形坩埚 圆柱形坩埚是最常见的坩埚形状之一，适用于熔化和加工各种材料，并且易于处理和清洁。
相关文章
石墨烯的化学气相沉积 (CVD) 挑战与解决方案
化学气相沉积（CVD）是一种广泛采用的生产高质量石墨烯的方法。
CVD 涂层如何帮助您实现高纯度和高密度
与其他涂层技术相比，CVD 工艺具有多种优势，如纯度高、均匀性好，并能沉积出高密度的涂层。
用于软物质的低功耗、低温解决方案--PECVD 炉
PECVD（等离子体增强化学气相沉积）炉已成为在软物质表面沉积薄膜的常用解决方案。
揭开真空石墨炉的神秘面纱：性能、应用和专家见解
深入了解真空石墨炉的世界，探索其卓越的性能、多样化的应用以及关键的注意事项。我们的专家见解将帮助您针对实验室的高温材料处理需求做出明智的决定。
化学气相沉积与物理气相沉积的比较
化学气相沉积 (CVD) VS 物理气相沉积 (PVD)
半导体行业如何使用 CVD
化学气相沉积技术为半导体行业带来了革命性的变化，使高性能电子设备的生产成为可能，并增强了设备的功能性和可靠性。
使用 CVD 管式炉进行涂层的优势
CVD coatings have several advantages over other coating methods, such as high purity, density, and uniformity, making them ideal for many applications in various industries.
薄膜沉积中蒸发和溅射技术的比较研究
最常用的两种薄膜沉积技术是蒸发和溅射。
了解热等静压机：电子产品制造的重要工具
温热等静压设备（WIP）又称温热等静压层压机，是一种将等静压与加热元件相结合的尖端技术。它利用温水或类似介质从各个方向对粉末状产品施加均匀的压力。该工艺使用柔性材料作为外套模具，以水压作为压力介质，对粉末材料进行塑形和加压。
优化石墨真空炉的性能：综合指南
发掘石墨真空炉在高温材料处理方面的潜力。了解石墨真空炉的效率、定制选项、自动化以及石墨棒使用的关键注意事项。
真空镀膜综合指南》：提高性能和美感
探索真空镀膜的世界，这是一种在金属和塑料表面形成保护层和美观层的工艺。探索真空镀膜的类型、用途和优点，包括提高性能、延长使用寿命和改善美观度。
热等静压工艺实现最佳微观结构均匀性
热等静压（HIP）是一种在高温高压下对材料进行增密的技术。该工艺是将材料放入密封容器中，然后用惰性气体加压并加热至高温。